Голишников, А., & Путря, М. (2014). Разработка процесса глубокого плазменного травления кремния для технологии трехмерной интеграции кристаллов. Технология и конструирование в электронной аппаратуре.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Голишников, А.А, und М.Г Путря. "Разработка процесса глубокого плазменного травления кремния для технологии трехмерной интеграции кристаллов." Технология и конструирование в электронной аппаратуре 2014.
MLA-Zitierstil (8. Ausg.)Голишников, А.А, und М.Г Путря. "Разработка процесса глубокого плазменного травления кремния для технологии трехмерной интеграции кристаллов." Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2014.
Achtung: Diese Zitate sind unter Umständen nicht zu 100% korrekt.