Устройство управления импульсным режимом электролиза при создании контактных площадок

Электронное устройство управления электролизом при импульсной подаче напряжения на электролитическую ячейку позволило изменением амплитуды импульсов напряжения и тока, их длительности и скважности управлять скоростью и качеством осаждения как отдельных металлов, так и соотношением количества металли...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Date:2003
Main Authors: Альбота, Л.А., Раренко, И.М., Швец, А.Г., Альбота, И.Л.
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2003
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70594
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Устройство управления импульсным режимом электролиза при создании контактных площадок / Л.А. Альбота, И.М. Раренко, А.Г. Швец, И.Л. Альбота // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2003. — № 1. — С. 34-37. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Description
Summary:Электронное устройство управления электролизом при импульсной подаче напряжения на электролитическую ячейку позволило изменением амплитуды импульсов напряжения и тока, их длительности и скважности управлять скоростью и качеством осаждения как отдельных металлов, так и соотношением количества металлических компонентов в электроосаждаемой смеси с учетом их электродных потенциалов. Проведены исследования по осаждению никеля и эвтектических сплавов в системе In—Sn, In—Bi. In paper it is described the electronic device and method of its using for impulsive galvanostatic and potential-static regimes of one or several metals electrodeposition simultaneously. At impulsive voltage supply on electrolytic cell the electrolysis allows by changing of amplitude of voltage and current impulses, their duration and off-on-time ratio, to control the deposition velocity and quality both of separate metals and ratio of metal component amount in electro-deposited mixture considering their electrode potentials. Investigations of nickel deposition and eutectic alloys in In—Sn, In—Bi system were carried out.
ISSN:2225-5818