Устройство управления импульсным режимом электролиза при создании контактных площадок
Электронное устройство управления электролизом при импульсной подаче напряжения на электролитическую ячейку позволило изменением амплитуды импульсов напряжения и тока, их длительности и скважности управлять скоростью и качеством осаждения как отдельных металлов, так и соотношением количества металли...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Дата: | 2003 |
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Російська |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2003
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70594 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Устройство управления импульсным режимом электролиза при создании контактных площадок / Л.А. Альбота, И.М. Раренко, А.Г. Швец, И.Л. Альбота // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2003. — № 1. — С. 34-37. — Бібліогр.: 7 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Резюме: | Электронное устройство управления электролизом при импульсной подаче напряжения на электролитическую ячейку позволило изменением амплитуды импульсов напряжения и тока, их длительности и скважности управлять скоростью и качеством осаждения как отдельных металлов, так и соотношением количества металлических компонентов в электроосаждаемой смеси с учетом их электродных потенциалов. Проведены исследования по осаждению никеля и эвтектических сплавов в системе In—Sn, In—Bi.
In paper it is described the electronic device and method of its using for impulsive galvanostatic and potential-static regimes of one or several metals electrodeposition simultaneously. At impulsive voltage supply on electrolytic cell the electrolysis allows by changing of amplitude of voltage and current impulses, their duration and off-on-time ratio, to control the deposition velocity and quality both of separate metals and ratio of metal component amount in electro-deposited mixture considering their electrode potentials. Investigations of nickel deposition and eutectic alloys in In—Sn, In—Bi system were carried out.
|
|---|---|
| ISSN: | 2225-5818 |