Казаков, А., Андриянов, А., Миронов, В., & Поляруш, О. (2003). Расчет частотной зависимости диэлектрических характеристик тонких пленок системы HfO₂—Nd₂O₃. Технология и конструирование в электронной аппаратуре.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Казаков, А.И, А.В Андриянов, В.С Миронов, та О.В Поляруш. "Расчет частотной зависимости диэлектрических характеристик тонких пленок системы HfO₂—Nd₂O₃." Технология и конструирование в электронной аппаратуре 2003.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Казаков, А.И, et al. "Расчет частотной зависимости диэлектрических характеристик тонких пленок системы HfO₂—Nd₂O₃." Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2003.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.