Установка толстослойного анодирования алюминия

С целью повышения эффективности охлаждения пластин при получении оснований из анодированного алюминия предложено производить процесс толстослойного анодирования при непрерывном движении пластин. На этом принципе создана установка динамического анодирования, которая обеспечивает получение оксидных сл...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Дата:2003
Автори: Сокол, В.А., Игнашев, Е.П.
Формат: Стаття
Мова:Російська
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2003
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70611
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Установка толстослойного анодирования алюминия / В.А. Сокол, Е.П. Игнашев // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2003. — № 2. — С. 40-41. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862604924705046528
author Сокол, В.А.
Игнашев, Е.П.
author_facet Сокол, В.А.
Игнашев, Е.П.
citation_txt Установка толстослойного анодирования алюминия / В.А. Сокол, Е.П. Игнашев // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2003. — № 2. — С. 40-41. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description С целью повышения эффективности охлаждения пластин при получении оснований из анодированного алюминия предложено производить процесс толстослойного анодирования при непрерывном движении пластин. На этом принципе создана установка динамического анодирования, которая обеспечивает получение оксидных слоев толщиной до 0,4 мм на основаниях размерами от 48×60 мм до 100×100 мм и подложек из свободного анодного оксида толщиной до 1 мм с высокими физико-механическими свойствами без разрыхления оксида. As a rule, in the devices used for obtaining bases out of anodized aluminium the deprivation of the plates of Joule heat during anodizing is carried out by a static electrolyte. That, however, doesn't necessarily lead to plates' overheating and etching of the oxide layer. In order to increase the efficiency of plates' coding it is proposed to carry out thick-wall anodizing parallel with their continuous motion. This principle is laid into basis of a dynamic anodizing device,which provides oxide layers up to 0,4 mm thick and having dimensions from 48×60 up to 100×100 mm, as well as the base plates up to 1 mm thick, having strong and weak mechanical properties, causing no oxide loosening.
 As a rule, in the devices used for obtaining bases out of anodized aluminium the deprivation of the plates of Joule heat during anodizing is carried out by a static electrolyte. That, however, doesn't necessarily lead to plates' overheating and etching of the oxide layer. In order to increase the efficiency of plates' coding it is proposed to carry out thick-wall anodizing parallel with their continuous motion. This principle is laid into basis of a dynamic anodizing device,which provides oxide layers up to 0,4 mm thick and having dimensions from 48×60 up to 100×100 mm, as well as the base plates up to 1 mm thick, having strong and weak mechanical properties, causing no oxide loosening.
first_indexed 2025-11-28T08:53:28Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-70611
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 2225-5818
language Russian
last_indexed 2025-11-28T08:53:28Z
publishDate 2003
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
record_format dspace
spelling Сокол, В.А.
Игнашев, Е.П.
2014-11-09T07:32:04Z
2014-11-09T07:32:04Z
2003
Установка толстослойного анодирования алюминия / В.А. Сокол, Е.П. Игнашев // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2003. — № 2. — С. 40-41. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.
2225-5818
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70611
С целью повышения эффективности охлаждения пластин при получении оснований из анодированного алюминия предложено производить процесс толстослойного анодирования при непрерывном движении пластин. На этом принципе создана установка динамического анодирования, которая обеспечивает получение оксидных слоев толщиной до 0,4 мм на основаниях размерами от 48×60 мм до 100×100 мм и подложек из свободного анодного оксида толщиной до 1 мм с высокими физико-механическими свойствами без разрыхления оксида.
As a rule, in the devices used for obtaining bases out of anodized aluminium the deprivation of the plates of Joule heat during anodizing is carried out by a static electrolyte. That, however, doesn't necessarily lead to plates' overheating and etching of the oxide layer. In order to increase the efficiency of plates' coding it is proposed to carry out thick-wall anodizing parallel with their continuous motion. This principle is laid into basis of a dynamic anodizing device,which provides oxide layers up to 0,4 mm thick and having dimensions from 48×60 up to 100×100 mm, as well as the base plates up to 1 mm thick, having strong and weak mechanical properties, causing no oxide loosening.
 As a rule, in the devices used for obtaining bases out of anodized aluminium the deprivation of the plates of Joule heat during anodizing is carried out by a static electrolyte. That, however, doesn't necessarily lead to plates' overheating and etching of the oxide layer. In order to increase the efficiency of plates' coding it is proposed to carry out thick-wall anodizing parallel with their continuous motion. This principle is laid into basis of a dynamic anodizing device,which provides oxide layers up to 0,4 mm thick and having dimensions from 48×60 up to 100×100 mm, as well as the base plates up to 1 mm thick, having strong and weak mechanical properties, causing no oxide loosening.
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Технология производства
Установка толстослойного анодирования алюминия
Thick-wall aluminium anodizing device
Article
published earlier
spellingShingle Установка толстослойного анодирования алюминия
Сокол, В.А.
Игнашев, Е.П.
Технология производства
title Установка толстослойного анодирования алюминия
title_alt Thick-wall aluminium anodizing device
title_full Установка толстослойного анодирования алюминия
title_fullStr Установка толстослойного анодирования алюминия
title_full_unstemmed Установка толстослойного анодирования алюминия
title_short Установка толстослойного анодирования алюминия
title_sort установка толстослойного анодирования алюминия
topic Технология производства
topic_facet Технология производства
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70611
work_keys_str_mv AT sokolva ustanovkatolstosloinogoanodirovaniâalûminiâ
AT ignaševep ustanovkatolstosloinogoanodirovaniâalûminiâ
AT sokolva thickwallaluminiumanodizingdevice
AT ignaševep thickwallaluminiumanodizingdevice