Установка толстослойного анодирования алюминия

• Veröffentlicht in: Технология и конструирование в электронной аппаратуре
• Datum: 2003
• Hauptverfasser: Сокол, В.А., Игнашев, Е.П.
• Format: Artikel
• Sprache: Russian
• Veröffentlicht: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2003
• Schlagworte: Технология производства
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70611
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Установка толстослойного анодирования алюминия / В.А. Сокол, Е.П. Игнашев // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2003. — № 2. — С. 40-41. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.

С целью повышения эффективности охлаждения пластин при получении оснований из анодированного алюминия предложено производить процесс толстослойного анодирования при непрерывном движении пластин. На этом принципе создана установка динамического анодирования, которая обеспечивает получение оксидных сл...