Лебедева, Т., Шпилевой, П., & Войтович, И. (2003). Применение контролируемого анодного окисления для экспресс-контроля в технологии пленок и тонкопленочных структур. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України.
Chicago Style (17th ed.) CitationЛебедева, Т.С, П.Б Шпилевой, and И.Д Войтович. Применение контролируемого анодного окисления для экспресс-контроля в технологии пленок и тонкопленочных структур. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України, 2003.
MLA (8th ed.) CitationЛебедева, Т.С, et al. Применение контролируемого анодного окисления для экспресс-контроля в технологии пленок и тонкопленочных структур. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України, 2003.
Warning: These citations may not always be 100% accurate.