Лебедева, Т., Шпилевой, П., & Войтович, И. (2003). Применение контролируемого анодного окисления для экспресс-контроля в технологии пленок и тонкопленочных структур. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Лебедева, Т.С, П.Б Шпилевой, та И.Д Войтович. Применение контролируемого анодного окисления для экспресс-контроля в технологии пленок и тонкопленочных структур. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України, 2003.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Лебедева, Т.С, et al. Применение контролируемого анодного окисления для экспресс-контроля в технологии пленок и тонкопленочных структур. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України, 2003.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.