Применение контролируемого анодного окисления для экспресс-контроля в технологии пленок и тонкопленочных структур
Приведены основы метода контролируемого анодного окисления ("анодной спектроскопии"), методики его применения, результаты исследований многослойных тонкопленочных структур. Получены и проанализированы профили анодирования структур, сформированных при осаждении пленок Nb и Al электронно-луч...
Gespeichert in:
| Datum: | 2003 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russian |
| Veröffentlicht: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2003
|
| Schriftenreihe: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70698 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Применение контролируемого анодного окисления для экспресс-контроля в технологии пленок и тонкопленочных структур / Т.С. Лебедева, П.Б. Шпилевой, И.Д. Войтович // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2003. — № 5. — С. 42-46. — Бібліогр.: 8 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-70698 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| fulltext |
|
| spelling |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-706982025-02-09T10:39:40Z Применение контролируемого анодного окисления для экспресс-контроля в технологии пленок и тонкопленочных структур Лебедева, Т.С. Шпилевой, П.Б. Войтович, И.Д. Технология производства Приведены основы метода контролируемого анодного окисления ("анодной спектроскопии"), методики его применения, результаты исследований многослойных тонкопленочных структур. Получены и проанализированы профили анодирования структур, сформированных при осаждении пленок Nb и Al электронно-лучевым способом и магнетроном, с формированием барьерного оксида AlOx термическим окислением и в тлеющем разряде магнетрона. Продемонстрировано применение метода для контроля формирования наноструктурированных анодных пленок оксида алюминия. Показана плодотворность метода для экспресс-контроля тонкопленочных технологий. 2003 Article Применение контролируемого анодного окисления для экспресс-контроля в технологии пленок и тонкопленочных структур / Т.С. Лебедева, П.Б. Шпилевой, И.Д. Войтович // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2003. — № 5. — С. 42-46. — Бібліогр.: 8 назв. — рос. 2225-5818 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70698 539.216.2:691.5 ru Технология и конструирование в электронной аппаратуре application/pdf Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
Russian |
| topic |
Технология производства Технология производства |
| spellingShingle |
Технология производства Технология производства Лебедева, Т.С. Шпилевой, П.Б. Войтович, И.Д. Применение контролируемого анодного окисления для экспресс-контроля в технологии пленок и тонкопленочных структур Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| description |
Приведены основы метода контролируемого анодного окисления ("анодной спектроскопии"), методики его применения, результаты исследований многослойных тонкопленочных структур. Получены и проанализированы профили анодирования структур, сформированных при осаждении пленок Nb и Al электронно-лучевым способом и магнетроном, с формированием барьерного оксида AlOx термическим окислением и в тлеющем разряде магнетрона. Продемонстрировано применение метода для контроля формирования наноструктурированных анодных пленок оксида алюминия. Показана плодотворность метода для экспресс-контроля тонкопленочных технологий. |
| format |
Article |
| author |
Лебедева, Т.С. Шпилевой, П.Б. Войтович, И.Д. |
| author_facet |
Лебедева, Т.С. Шпилевой, П.Б. Войтович, И.Д. |
| author_sort |
Лебедева, Т.С. |
| title |
Применение контролируемого анодного окисления для экспресс-контроля в технологии пленок и тонкопленочных структур |
| title_short |
Применение контролируемого анодного окисления для экспресс-контроля в технологии пленок и тонкопленочных структур |
| title_full |
Применение контролируемого анодного окисления для экспресс-контроля в технологии пленок и тонкопленочных структур |
| title_fullStr |
Применение контролируемого анодного окисления для экспресс-контроля в технологии пленок и тонкопленочных структур |
| title_full_unstemmed |
Применение контролируемого анодного окисления для экспресс-контроля в технологии пленок и тонкопленочных структур |
| title_sort |
применение контролируемого анодного окисления для экспресс-контроля в технологии пленок и тонкопленочных структур |
| publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| publishDate |
2003 |
| topic_facet |
Технология производства |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70698 |
| citation_txt |
Применение контролируемого анодного окисления для экспресс-контроля в технологии пленок и тонкопленочных структур / Т.С. Лебедева, П.Б. Шпилевой, И.Д. Войтович // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2003. — № 5. — С. 42-46. — Бібліогр.: 8 назв. — рос. |
| series |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| work_keys_str_mv |
AT lebedevats primeneniekontroliruemogoanodnogookisleniâdlâékspresskontrolâvtehnologiiplenokitonkoplenočnyhstruktur AT špilevojpb primeneniekontroliruemogoanodnogookisleniâdlâékspresskontrolâvtehnologiiplenokitonkoplenočnyhstruktur AT vojtovičid primeneniekontroliruemogoanodnogookisleniâdlâékspresskontrolâvtehnologiiplenokitonkoplenočnyhstruktur |
| first_indexed |
2025-11-25T20:42:34Z |
| last_indexed |
2025-11-25T20:42:34Z |
| _version_ |
1849796438611984384 |