Выращивание гетероструктур GaSb/InAs жидкофазной эпитаксией без растворения подложки

Рассмотрены особенности выращивания гетероструктур GaSb/InAs из жидкой фазы. Предложен модифицированный метод импульсного охлаждения раствора-расплава, позволяющий избежать растворения подложки InAs при контакте с неравновесной ей жидкой фазой Ga+Sb. Показано, что при отсутствии растворения подложки...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Date:2003
Main Authors: Марончук, И.Е., Курак, В.В., Андронова, Е.В., Баганов, Е.А.
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2003
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70709
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Выращивание гетероструктур GaSb/InAs жидкофазной эпитаксией без растворения подложки / И.Е. Марончук, В.В. Курак, Е.В. Андронова, Е.А. Баганов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2003. — № 6. — С. 6-9. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-70709
record_format dspace
spelling Марончук, И.Е.
Курак, В.В.
Андронова, Е.В.
Баганов, Е.А.
2014-11-11T14:54:37Z
2014-11-11T14:54:37Z
2003
Выращивание гетероструктур GaSb/InAs жидкофазной эпитаксией без растворения подложки / И.Е. Марончук, В.В. Курак, Е.В. Андронова, Е.А. Баганов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2003. — № 6. — С. 6-9. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.
2225-5818
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70709
621.362:621.383
Рассмотрены особенности выращивания гетероструктур GaSb/InAs из жидкой фазы. Предложен модифицированный метод импульсного охлаждения раствора-расплава, позволяющий избежать растворения подложки InAs при контакте с неравновесной ей жидкой фазой Ga+Sb. Показано, что при отсутствии растворения подложки раствором-расплавом образование твердых растворов InGaAsSb в процессе роста эпитаксиального слоя GaSb не происходит, поскольку твердофазное растворение GaSb подложкой InAs является энергетически невыгодным.
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Материалы для микроэлектроники
Выращивание гетероструктур GaSb/InAs жидкофазной эпитаксией без растворения подложки
Вирощування гетероструктур GaSb/InAs рідкофазною епітаксією без розчинення підкладинки
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Выращивание гетероструктур GaSb/InAs жидкофазной эпитаксией без растворения подложки
spellingShingle Выращивание гетероструктур GaSb/InAs жидкофазной эпитаксией без растворения подложки
Марончук, И.Е.
Курак, В.В.
Андронова, Е.В.
Баганов, Е.А.
Материалы для микроэлектроники
title_short Выращивание гетероструктур GaSb/InAs жидкофазной эпитаксией без растворения подложки
title_full Выращивание гетероструктур GaSb/InAs жидкофазной эпитаксией без растворения подложки
title_fullStr Выращивание гетероструктур GaSb/InAs жидкофазной эпитаксией без растворения подложки
title_full_unstemmed Выращивание гетероструктур GaSb/InAs жидкофазной эпитаксией без растворения подложки
title_sort выращивание гетероструктур gasb/inas жидкофазной эпитаксией без растворения подложки
author Марончук, И.Е.
Курак, В.В.
Андронова, Е.В.
Баганов, Е.А.
author_facet Марончук, И.Е.
Курак, В.В.
Андронова, Е.В.
Баганов, Е.А.
topic Материалы для микроэлектроники
topic_facet Материалы для микроэлектроники
publishDate 2003
language Russian
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
format Article
title_alt Вирощування гетероструктур GaSb/InAs рідкофазною епітаксією без розчинення підкладинки
description Рассмотрены особенности выращивания гетероструктур GaSb/InAs из жидкой фазы. Предложен модифицированный метод импульсного охлаждения раствора-расплава, позволяющий избежать растворения подложки InAs при контакте с неравновесной ей жидкой фазой Ga+Sb. Показано, что при отсутствии растворения подложки раствором-расплавом образование твердых растворов InGaAsSb в процессе роста эпитаксиального слоя GaSb не происходит, поскольку твердофазное растворение GaSb подложкой InAs является энергетически невыгодным.
issn 2225-5818
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70709
citation_txt Выращивание гетероструктур GaSb/InAs жидкофазной эпитаксией без растворения подложки / И.Е. Марончук, В.В. Курак, Е.В. Андронова, Е.А. Баганов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2003. — № 6. — С. 6-9. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT marončukie vyraŝivaniegeterostrukturgasbinasžidkofaznoiépitaksieibezrastvoreniâpodložki
AT kurakvv vyraŝivaniegeterostrukturgasbinasžidkofaznoiépitaksieibezrastvoreniâpodložki
AT andronovaev vyraŝivaniegeterostrukturgasbinasžidkofaznoiépitaksieibezrastvoreniâpodložki
AT baganovea vyraŝivaniegeterostrukturgasbinasžidkofaznoiépitaksieibezrastvoreniâpodložki
AT marončukie viroŝuvannâgeterostrukturgasbinasrídkofaznoûepítaksíêûbezrozčinennâpídkladinki
AT kurakvv viroŝuvannâgeterostrukturgasbinasrídkofaznoûepítaksíêûbezrozčinennâpídkladinki
AT andronovaev viroŝuvannâgeterostrukturgasbinasrídkofaznoûepítaksíêûbezrozčinennâpídkladinki
AT baganovea viroŝuvannâgeterostrukturgasbinasrídkofaznoûepítaksíêûbezrozčinennâpídkladinki
first_indexed 2025-12-07T18:01:53Z
last_indexed 2025-12-07T18:01:53Z
_version_ 1850873493175926784