Диодные реакторные системы микротравления
Выполнены разработки малоэнергоемкого плазменного технологического оборудования на основе разрядов с комбинированными постоянным и переменным электрическим и магнитным полями. В настоящей работе приведены результаты исследований характеристик высокочастотного емкостного разряда и разработки диодных...
Saved in:
| Published in: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Date: | 2002 |
| Main Author: | |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2002
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70773 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Диодные реакторные системы микротравления / В.И. Фареник // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2002. — № 3. — С. 38-42. — Бібліогр.: 8 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862717536745816064 |
|---|---|
| author | Фареник, В.И. |
| author_facet | Фареник, В.И. |
| citation_txt | Диодные реакторные системы микротравления / В.И. Фареник // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2002. — № 3. — С. 38-42. — Бібліогр.: 8 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| description | Выполнены разработки малоэнергоемкого плазменного технологического оборудования на основе разрядов с комбинированными постоянным и переменным электрическим и магнитным полями. В настоящей работе приведены результаты исследований характеристик высокочастотного емкостного разряда и разработки диодных реакторов установок микротравления с малым энерговкладом.
The development low-power intensive plasma technological equipment is maid on the basis of discharges with combined direct and alternating electrical and magnetic fields. The results of parameter investigations of high-frequency capacitive discharge and development of diode-reactors of the microetching devices with a low-energy deposition are adduced.
|
| first_indexed | 2025-12-07T18:10:56Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-70773 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 2225-5818 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T18:10:56Z |
| publishDate | 2002 |
| publisher | Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Фареник, В.И. 2014-11-12T07:57:23Z 2014-11-12T07:57:23Z 2002 Диодные реакторные системы микротравления / В.И. Фареник // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2002. — № 3. — С. 38-42. — Бібліогр.: 8 назв. — рос. 2225-5818 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70773 533.915;539.23 Выполнены разработки малоэнергоемкого плазменного технологического оборудования на основе разрядов с комбинированными постоянным и переменным электрическим и магнитным полями. В настоящей работе приведены результаты исследований характеристик высокочастотного емкостного разряда и разработки диодных реакторов установок микротравления с малым энерговкладом. The development low-power intensive plasma technological equipment is maid on the basis of discharges with combined direct and alternating electrical and magnetic fields. The results of parameter investigations of high-frequency capacitive discharge and development of diode-reactors of the microetching devices with a low-energy deposition are adduced. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Технология и конструирование в электронной аппаратуре Новое технологическое оборудование для микроэлектроники Диодные реакторные системы микротравления Diode-reactor systems of a microetching Article published earlier |
| spellingShingle | Диодные реакторные системы микротравления Фареник, В.И. Новое технологическое оборудование для микроэлектроники |
| title | Диодные реакторные системы микротравления |
| title_alt | Diode-reactor systems of a microetching |
| title_full | Диодные реакторные системы микротравления |
| title_fullStr | Диодные реакторные системы микротравления |
| title_full_unstemmed | Диодные реакторные системы микротравления |
| title_short | Диодные реакторные системы микротравления |
| title_sort | диодные реакторные системы микротравления |
| topic | Новое технологическое оборудование для микроэлектроники |
| topic_facet | Новое технологическое оборудование для микроэлектроники |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70773 |
| work_keys_str_mv | AT farenikvi diodnyereaktornyesistemymikrotravleniâ AT farenikvi diodereactorsystemsofamicroetching |