Оборудование для зондовой диагностики и контроля плазменных технологических процессов

Проведен обзор методов и устройств зондового контроля плазменных технологических процессов. Описана серия приборов «Контроль», использующих специально разработанные схемы компенсации и обработки зондового сигнала, а также оригинальные алгоритмы анализа кривых травления. Описан также универсальный пр...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Date:2002
Main Authors: Дудин, С.В., Яцков, А.П., Фареник, В.И.
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2002
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70774
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Оборудование для зондовой диагностики и контроля плазменных технологических процессов / С.В. Дудин, А.П. Яцков, В.И. Фареник // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2002. — № 3. — С. 43-50. — Бібліогр.: 24 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Description
Summary:Проведен обзор методов и устройств зондового контроля плазменных технологических процессов. Описана серия приборов «Контроль», использующих специально разработанные схемы компенсации и обработки зондового сигнала, а также оригинальные алгоритмы анализа кривых травления. Описан также универсальный прибор «Плазмометр», предназначенный для автоматизированного определения ключевых параметров лабораторной и технологической плазмы. The review of methods and devices for probe control of plasma technological processes is carried out. A series of "Kontrol" devices using specially designed schemes of the probe signal compensation and processing as well as original algorithms of the analysis of etching curves is described. Versatile instrument "PlasmaMeter" designed for automated definition of key parameters of laboratory and technological plasma is described too.
ISSN:2225-5818