Оборудование для зондовой диагностики и контроля плазменных технологических процессов
Проведен обзор методов и устройств зондового контроля плазменных технологических процессов. Описана серия приборов «Контроль», использующих специально разработанные схемы компенсации и обработки зондового сигнала, а также оригинальные алгоритмы анализа кривых травления. Описан также универсальный пр...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Datum: | 2002 |
| Hauptverfasser: | Дудин, С.В., Яцков, А.П., Фареник, В.И. |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russisch |
| Veröffentlicht: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2002
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70774 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Оборудование для зондовой диагностики и контроля плазменных технологических процессов / С.В. Дудин, А.П. Яцков, В.И. Фареник // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2002. — № 3. — С. 43-50. — Бібліогр.: 24 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineÄhnliche Einträge
Особенности автоматизации диодных реакторных систем микротравления
von: Будянский, А.М., et al.
Veröffentlicht: (2001)
von: Будянский, А.М., et al.
Veröffentlicht: (2001)
Диодные реакторные системы микротравления
von: Фареник, В.И.
Veröffentlicht: (2002)
von: Фареник, В.И.
Veröffentlicht: (2002)
Конструкционные материалы с покрытиями в узлах технологического оборудования
von: Дудник, С.Ф., et al.
Veröffentlicht: (2001)
von: Дудник, С.Ф., et al.
Veröffentlicht: (2001)
Установка для выращивания малодислокационных монокристаллов GaAs большого диаметра
von: Ковтун, Г.П., et al.
Veröffentlicht: (2001)
von: Ковтун, Г.П., et al.
Veröffentlicht: (2001)
Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”
von: Савицкий, Г.В., et al.
Veröffentlicht: (2002)
von: Савицкий, Г.В., et al.
Veröffentlicht: (2002)
Камера тепла и холода для изделий фотоэлектронной техники
von: Дунаенко, А.Х., et al.
Veröffentlicht: (2003)
von: Дунаенко, А.Х., et al.
Veröffentlicht: (2003)
Измерительный комплекс для определения фотоэлектрических параметров приемников излучения
von: Ащеулов, А.А., et al.
Veröffentlicht: (2004)
von: Ащеулов, А.А., et al.
Veröffentlicht: (2004)
Установка электрохимического профилирования для диагностирования эпитаксиальных структур GaAs
von: Вакив, Н.М., et al.
Veröffentlicht: (2005)
von: Вакив, Н.М., et al.
Veröffentlicht: (2005)
Оборудование для производства технологических атмосфер (Обзор)
von: Марчук, Ю.В., et al.
Veröffentlicht: (2010)
von: Марчук, Ю.В., et al.
Veröffentlicht: (2010)
Получение высокочистых галлия, цинка, кадмия и теллура для микроэлектроники
von: Ковтун, Г.П., et al.
Veröffentlicht: (2001)
von: Ковтун, Г.П., et al.
Veröffentlicht: (2001)
Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского
von: Ковтун, Г.П., et al.
Veröffentlicht: (2004)
von: Ковтун, Г.П., et al.
Veröffentlicht: (2004)
Математическое моделирование деградации керамических терморезисторов с отрицательным ТКС
von: Балицкая, В.А., et al.
Veröffentlicht: (2002)
von: Балицкая, В.А., et al.
Veröffentlicht: (2002)
Исследование контакта "металл—полупроводник на основе НgMnTe"
von: Косяченко, Л.А., et al.
Veröffentlicht: (2002)
von: Косяченко, Л.А., et al.
Veröffentlicht: (2002)
Комплексный подход к получению высокочистых материалов для микроэлектроники
von: Ажажа, В.М., et al.
Veröffentlicht: (2002)
von: Ажажа, В.М., et al.
Veröffentlicht: (2002)
Ультрадисперсные субфазы в молекулярной электронике
von: Ковальчук, В.В.
Veröffentlicht: (2002)
von: Ковальчук, В.В.
Veröffentlicht: (2002)
Влияние облучения быстрыми нейтронами на эпитаксиальный арсенид галлия
von: Завадский, В.А., et al.
Veröffentlicht: (2002)
von: Завадский, В.А., et al.
Veröffentlicht: (2002)
Способы прогнозирования параметров стеклокерамики с межфазным слоем
von: Дмитриев, М.В.
Veröffentlicht: (2001)
von: Дмитриев, М.В.
Veröffentlicht: (2001)
Выбор полупроводникового материала для детекторов гамма-излучения
von: Абызов, А.С., et al.
Veröffentlicht: (2004)
von: Абызов, А.С., et al.
Veröffentlicht: (2004)
Токопроводящий клей на основе порошка меди
von: Каркина, Е.А., et al.
Veröffentlicht: (2001)
von: Каркина, Е.А., et al.
Veröffentlicht: (2001)
Обработка монокристаллов Сd–Zn–Te для применения в датчиках γ-излучения
von: Мокрицкий, В.А., et al.
Veröffentlicht: (2001)
von: Мокрицкий, В.А., et al.
Veröffentlicht: (2001)
Радиационная обработка ИК-фотоприемников на основе CdHgTe
von: Завадский, В.А., et al.
Veröffentlicht: (2001)
von: Завадский, В.А., et al.
Veröffentlicht: (2001)
Деградационные превращения в топологически разупорядоченных твердых телах: 3. Бимолекулярная кинетика затухания радиационных эффектов в ХСП
von: Вакив, Н.М.
Veröffentlicht: (2004)
von: Вакив, Н.М.
Veröffentlicht: (2004)
Полупроводниковые гетеропереходы оксид-InSe(GaSe) для фотоэлектрических анализаторов поляризованного излучения
von: Ковалюк, З.Д., et al.
Veröffentlicht: (2004)
von: Ковалюк, З.Д., et al.
Veröffentlicht: (2004)
Исследование свойств полупроводниковых материалов для детекторов ионизирующих излучений
von: Кондрик, А.И., et al.
Veröffentlicht: (2003)
von: Кондрик, А.И., et al.
Veröffentlicht: (2003)
Исследование свойств слоев поликремния на изоляторе при криогенных температурах для создания сенсоров
von: Дружинин, А.А., et al.
Veröffentlicht: (2003)
von: Дружинин, А.А., et al.
Veröffentlicht: (2003)
Выращивание гетероструктур GaSb/InAs жидкофазной эпитаксией без растворения подложки
von: Марончук, И.Е., et al.
Veröffentlicht: (2003)
von: Марончук, И.Е., et al.
Veröffentlicht: (2003)
Кремниевые МДП-структуры с оксидами редкоземельных элементов в качестве диэлектрика
von: Курмашев, Ш.Д., et al.
Veröffentlicht: (2001)
von: Курмашев, Ш.Д., et al.
Veröffentlicht: (2001)
Влияние режимов ионного легирования и фотонного отжига на параметры имплантированных слоев n-GaAs:Si
von: Бончик, А.Ю., et al.
Veröffentlicht: (2005)
von: Бончик, А.Ю., et al.
Veröffentlicht: (2005)
Квантовый выход межзонной излучательной рекомбинации в кристаллах CdHgTe
von: Власенко, А.И., et al.
Veröffentlicht: (2004)
von: Власенко, А.И., et al.
Veröffentlicht: (2004)
Радиационное легирование сульфида кадмия и арсенида галлия
von: Мокрицкий, В.А., et al.
Veröffentlicht: (2003)
von: Мокрицкий, В.А., et al.
Veröffentlicht: (2003)
Вакуумное напыление тонких пленок органических полупроводников и исследование их структуры
von: Орлов, В.Д., et al.
Veröffentlicht: (2001)
von: Орлов, В.Д., et al.
Veröffentlicht: (2001)
Акустостимулированное понижение температуры отжига радиационных дефектов в кристаллах Ge
von: Олих, Я.М., et al.
Veröffentlicht: (2004)
von: Олих, Я.М., et al.
Veröffentlicht: (2004)
Температурное поле в кристалле иттрий-алюминиевого граната при двухстадийном выращивании
von: Ковтун, Г.П., et al.
Veröffentlicht: (2005)
von: Ковтун, Г.П., et al.
Veröffentlicht: (2005)
Собственные полупроводники группы A³₂B⁶₃ как перспективные материалы для радиационно стойкой электроники
von: Королюк, С.Л., et al.
Veröffentlicht: (2001)
von: Королюк, С.Л., et al.
Veröffentlicht: (2001)
Деградационные превращения в топологически разупорядоченных твердых телах: 4. Особенности экспоненциальной кинетики
von: Балицкая, В.А., et al.
Veröffentlicht: (2005)
von: Балицкая, В.А., et al.
Veröffentlicht: (2005)
Радиометрическое оборудование для контроля технологических процессов переработки геоматериалов техногенного уранового месторождения
von: Копанев, А.В., et al.
Veröffentlicht: (2007)
von: Копанев, А.В., et al.
Veröffentlicht: (2007)
ПЕРЕХОДНЫЕ ПРОЦЕССЫ В ВЫХОДНЫХ ЦЕПЯХ ИСТОЧНИКА ПИТАНИЯ, РАБОТАЮЩЕГО НА НЕСТАЦИОНАРНУЮ ТЕХНОЛОГИЧЕСКУЮ НАГРУЗКУ
von: Руденко, Ю.В.
Veröffentlicht: (2013)
von: Руденко, Ю.В.
Veröffentlicht: (2013)
Лабораторное оборудование для применения озоновых технологий в биологии и медицине
von: Зинченко, В.Д., et al.
Veröffentlicht: (2005)
von: Зинченко, В.Д., et al.
Veröffentlicht: (2005)
Источник бескапельных плазменных потоков для наноэлектроники
von: Борисенко, А.Г.
Veröffentlicht: (2013)
von: Борисенко, А.Г.
Veröffentlicht: (2013)
СПЕЦИАЛИЗИРОВАННЫЕ СИСТЕМЫ ЭЛЕКТРОПИТАНИЯ ДЛЯ ЭЛЕКТРОТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ОБОРУДОВАНИЯ
von: Мартынов , В.В., et al.
Veröffentlicht: (2012)
von: Мартынов , В.В., et al.
Veröffentlicht: (2012)
Ähnliche Einträge
-
Особенности автоматизации диодных реакторных систем микротравления
von: Будянский, А.М., et al.
Veröffentlicht: (2001) -
Диодные реакторные системы микротравления
von: Фареник, В.И.
Veröffentlicht: (2002) -
Конструкционные материалы с покрытиями в узлах технологического оборудования
von: Дудник, С.Ф., et al.
Veröffentlicht: (2001) -
Установка для выращивания малодислокационных монокристаллов GaAs большого диаметра
von: Ковтун, Г.П., et al.
Veröffentlicht: (2001) -
Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”
von: Савицкий, Г.В., et al.
Veröffentlicht: (2002)