Технологические средства изготовления микрополосковых линий для ГИС КВЧ-диапазона

Показано, что основные задачи реализации пленочных ГИС сверхвысоких и крайне высоких частот состоят в выборе материала подложки, методов точного формирования проводников, методов и режимов осаждения металлов с высокой проводимостью без адгезионного подслоя. Эти задачи могут быть успешно решены при п...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Date:2002
Main Author: Кренделев, А.Е.
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2002
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70788
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Технологические средства изготовления микрополосковых линий для ГИС КВЧ-диапазона / А.Е. Кренделев // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2002. — № 4-5. — С. 34-39. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-70788
record_format dspace
spelling Кренделев, А.Е.
2014-11-13T06:15:26Z
2014-11-13T06:15:26Z
2002
Технологические средства изготовления микрополосковых линий для ГИС КВЧ-диапазона / А.Е. Кренделев // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2002. — № 4-5. — С. 34-39. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
2225-5818
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70788
621.385.69
Показано, что основные задачи реализации пленочных ГИС сверхвысоких и крайне высоких частот состоят в выборе материала подложки, методов точного формирования проводников, методов и режимов осаждения металлов с высокой проводимостью без адгезионного подслоя. Эти задачи могут быть успешно решены при применении полимерных подложек, методов ионного травления с использованием источника ионов типа Кауфмана и при использовании магнетронного распыления металлов.
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Технология производства
Технологические средства изготовления микрополосковых линий для ГИС КВЧ-диапазона
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Технологические средства изготовления микрополосковых линий для ГИС КВЧ-диапазона
spellingShingle Технологические средства изготовления микрополосковых линий для ГИС КВЧ-диапазона
Кренделев, А.Е.
Технология производства
title_short Технологические средства изготовления микрополосковых линий для ГИС КВЧ-диапазона
title_full Технологические средства изготовления микрополосковых линий для ГИС КВЧ-диапазона
title_fullStr Технологические средства изготовления микрополосковых линий для ГИС КВЧ-диапазона
title_full_unstemmed Технологические средства изготовления микрополосковых линий для ГИС КВЧ-диапазона
title_sort технологические средства изготовления микрополосковых линий для гис квч-диапазона
author Кренделев, А.Е.
author_facet Кренделев, А.Е.
topic Технология производства
topic_facet Технология производства
publishDate 2002
language Russian
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
format Article
description Показано, что основные задачи реализации пленочных ГИС сверхвысоких и крайне высоких частот состоят в выборе материала подложки, методов точного формирования проводников, методов и режимов осаждения металлов с высокой проводимостью без адгезионного подслоя. Эти задачи могут быть успешно решены при применении полимерных подложек, методов ионного травления с использованием источника ионов типа Кауфмана и при использовании магнетронного распыления металлов.
issn 2225-5818
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70788
citation_txt Технологические средства изготовления микрополосковых линий для ГИС КВЧ-диапазона / А.Е. Кренделев // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2002. — № 4-5. — С. 34-39. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT krendelevae tehnologičeskiesredstvaizgotovleniâmikropoloskovyhliniidlâgiskvčdiapazona
first_indexed 2025-12-07T17:09:50Z
last_indexed 2025-12-07T17:09:50Z
_version_ 1850870218657628160