Технологические средства изготовления микрополосковых линий для ГИС КВЧ-диапазона

• Published in: Технология и конструирование в электронной аппаратуре
• Date: 2002
• Main Author: Кренделев, А.Е.
• Format: Article
• Language: Russian
• Published: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2002
• Subjects: Технология производства
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70788
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Технологические средства изготовления микрополосковых линий для ГИС КВЧ-диапазона / А.Е. Кренделев // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2002. — № 4-5. — С. 34-39. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.

Показано, что основные задачи реализации пленочных ГИС сверхвысоких и крайне высоких частот состоят в выборе материала подложки, методов точного формирования проводников, методов и режимов осаждения металлов с высокой проводимостью без адгезионного подслоя. Эти задачи могут быть успешно решены при п...