Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”

Проведена модернизация промышленной установки фотонного отжига полупроводниковых пластин "Оникс" для обеспечения повторяемости и воспроизводимости температурно-временных циклов отжига малой длительности при высоких скоростях нарастания температуры. Управляющая программа позволяет формирова...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Datum:2002
Hauptverfasser: Савицкий, Г.В., Бончик, А.Ю., Ижнин, И.И., Кияк, С.Г., Могиляк, И.А., Тростинский, И.П.
Format: Artikel
Sprache:Russisch
Veröffentlicht: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2002
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70808
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс” / Г.В. Савицкий, А.Ю. Бончик, И.И. Ижнин, С.Г. Кияк, И.А. Могиляк, И.П. Тростинский // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2002. — № 6. — С. 45-47. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862543642730692608
author Савицкий, Г.В.
Бончик, А.Ю.
Ижнин, И.И.
Кияк, С.Г.
Могиляк, И.А.
Тростинский, И.П.
author_facet Савицкий, Г.В.
Бончик, А.Ю.
Ижнин, И.И.
Кияк, С.Г.
Могиляк, И.А.
Тростинский, И.П.
citation_txt Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс” / Г.В. Савицкий, А.Ю. Бончик, И.И. Ижнин, С.Г. Кияк, И.А. Могиляк, И.П. Тростинский // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2002. — № 6. — С. 45-47. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description Проведена модернизация промышленной установки фотонного отжига полупроводниковых пластин "Оникс" для обеспечения повторяемости и воспроизводимости температурно-временных циклов отжига малой длительности при высоких скоростях нарастания температуры. Управляющая программа позволяет формировать температурно-временную диаграмму процесса отжига пластин по заданной с точностью установления времени ~0,01 секунды с визуальным контролем. Modernisation of the “Oникс” system for photon annealing of semiconductor wafers was carried out. It has provided to increase a repetition and reproducibility of the temperature-time annealing cycles with small duration at high temperature increasing rate. The control software of the IBM compatible PC allows to form the temperature-time annealing cycle according to adjusted one with the time accuracy established about 0,01 s at the typical annealing time up to 100 s and annealing temperature up to 1000°C.
first_indexed 2025-11-24T23:19:38Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-70808
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 2225-5818
language Russian
last_indexed 2025-11-24T23:19:38Z
publishDate 2002
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
record_format dspace
spelling Савицкий, Г.В.
Бончик, А.Ю.
Ижнин, И.И.
Кияк, С.Г.
Могиляк, И.А.
Тростинский, И.П.
2014-11-13T19:49:05Z
2014-11-13T19:49:05Z
2002
Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс” / Г.В. Савицкий, А.Ю. Бончик, И.И. Ижнин, С.Г. Кияк, И.А. Могиляк, И.П. Тростинский // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2002. — № 6. — С. 45-47. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.
2225-5818
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70808
621.382: 621.315.59
Проведена модернизация промышленной установки фотонного отжига полупроводниковых пластин "Оникс" для обеспечения повторяемости и воспроизводимости температурно-временных циклов отжига малой длительности при высоких скоростях нарастания температуры. Управляющая программа позволяет формировать температурно-временную диаграмму процесса отжига пластин по заданной с точностью установления времени ~0,01 секунды с визуальным контролем.
Modernisation of the “Oникс” system for photon annealing of semiconductor wafers was carried out. It has provided to increase a repetition and reproducibility of the temperature-time annealing cycles with small duration at high temperature increasing rate. The control software of the IBM compatible PC allows to form the temperature-time annealing cycle according to adjusted one with the time accuracy established about 0,01 s at the typical annealing time up to 100 s and annealing temperature up to 1000°C.
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Новое технологическое оборудование для микроэлектроники
Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”
Modernization of the "Oникс" system for photon annealing of semiconductor wafers
Article
published earlier
spellingShingle Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”
Савицкий, Г.В.
Бончик, А.Ю.
Ижнин, И.И.
Кияк, С.Г.
Могиляк, И.А.
Тростинский, И.П.
Новое технологическое оборудование для микроэлектроники
title Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”
title_alt Modernization of the "Oникс" system for photon annealing of semiconductor wafers
title_full Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”
title_fullStr Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”
title_full_unstemmed Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”
title_short Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”
title_sort модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “оникс”
topic Новое технологическое оборудование для микроэлектроники
topic_facet Новое технологическое оборудование для микроэлектроники
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70808
work_keys_str_mv AT savickiigv modernizaciâustanovkifotonnogootžigapoluprovodnikovyhplastinoniks
AT bončikaû modernizaciâustanovkifotonnogootžigapoluprovodnikovyhplastinoniks
AT ižninii modernizaciâustanovkifotonnogootžigapoluprovodnikovyhplastinoniks
AT kiâksg modernizaciâustanovkifotonnogootžigapoluprovodnikovyhplastinoniks
AT mogilâkia modernizaciâustanovkifotonnogootžigapoluprovodnikovyhplastinoniks
AT trostinskiiip modernizaciâustanovkifotonnogootžigapoluprovodnikovyhplastinoniks
AT savickiigv modernizationoftheonikssystemforphotonannealingofsemiconductorwafers
AT bončikaû modernizationoftheonikssystemforphotonannealingofsemiconductorwafers
AT ižninii modernizationoftheonikssystemforphotonannealingofsemiconductorwafers
AT kiâksg modernizationoftheonikssystemforphotonannealingofsemiconductorwafers
AT mogilâkia modernizationoftheonikssystemforphotonannealingofsemiconductorwafers
AT trostinskiiip modernizationoftheonikssystemforphotonannealingofsemiconductorwafers