Светличный, А., Агеев, О., & Шляховой, Д. (2001). Особенности получения тонких пленок SiO₂ методом быстрой термической обработки. Технология и конструирование в электронной аппаратуре.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Светличный, А.М, О.А Агеев, та Д.А Шляховой. "Особенности получения тонких пленок SiO₂ методом быстрой термической обработки." Технология и конструирование в электронной аппаратуре 2001.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Светличный, А.М, et al. "Особенности получения тонких пленок SiO₂ методом быстрой термической обработки." Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2001.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.