Иващук, А., & В.П, К. (2000). Устройство для очистки и легирования поверхности полупроводника. Технология и конструирование в электронной аппаратуре.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Иващук, А.В, und Кохан В.П. "Устройство для очистки и легирования поверхности полупроводника." Технология и конструирование в электронной аппаратуре 2000.
MLA-Zitierstil (8. Ausg.)Иващук, А.В, und Кохан В.П. "Устройство для очистки и легирования поверхности полупроводника." Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2000.
Achtung: Diese Zitate sind unter Umständen nicht zu 100% korrekt.