A Charge Transport in Ultrathin Electrically Continuous Metal Films

The problems of ultrathin stable electrically continuous metal films fabrication and their electron-transport properties are discussed. To prevent the coagulation process of metal grains during metal film condensation, the surfactant underlayers utilizing is discussed. Analysis of current theoretica...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Date:2010
Main Authors: Bigun, R.I., Kunitsky, Yu.A., Stasyuk, Z.V.
Format: Article
Language:English
Published: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2010
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/72472
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:A Charge Transport in Ultrathin Electrically Continuous Metal Films / R.I. Bigun, Yu.A. Kunitsky, Z.V. Stasyuk // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2010. — Т. 8, № 1. — С. 129-142. — Бібліогр.: 50 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Description
Summary:The problems of ultrathin stable electrically continuous metal films fabrication and their electron-transport properties are discussed. To prevent the coagulation process of metal grains during metal film condensation, the surfactant underlayers utilizing is discussed. Analysis of current theoretical concepts concerning electron-transport properties of metal film is performed. The experimental data are explained within the scope of the modern theoretical models. Обговорено проблему створення надтонких (товщина шару від 2 нм до 50 нм) електрично суцільних стабільних провідних шарів металів і вивчення їхніх електричних властивостей. Розглянуто можливість застосування сурфактантних підшарів для запобігання коаґуляції зародків кристалізації в процесі росту плівок. Здійснено аналізу сучасного стану модельних уявлень про перенесення заряду в металевих зразках обмежених розмірів, і на його основі проведено трактування результатів експериментального дослідження надтонких металевих плівок. Обсуждается проблема создания сверхтонких (толщина слоя от 2 нм до 50 нм) электрически сплошных проводящих стабильных слоев металлов и исследования их электрических свойств. Рассмотрена возможность применения сурфактантных подслоев для предотвращения коагуляции зародышей кристаллизации в процессе роста пленок. Сделан анализ современного состояния модельных представлений о переносе заряда в металлических образцах ограниченных размеров, и на его основе проведена трактовка результатов экспериментального исследования сверхтонких металлических пленок.
ISSN:1816-5230