A Charge Transport in Ultrathin Electrically Continuous Metal Films
The problems of ultrathin stable electrically continuous metal films fabrication and their electron-transport properties are discussed. To prevent the coagulation process of metal grains during metal film condensation, the surfactant underlayers utilizing is discussed. Analysis of current theoretica...
Saved in:
| Published in: | Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології |
|---|---|
| Date: | 2010 |
| Main Authors: | , , |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
2010
|
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/72472 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | A Charge Transport in Ultrathin Electrically Continuous Metal Films / R.I. Bigun, Yu.A. Kunitsky, Z.V. Stasyuk // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2010. — Т. 8, № 1. — С. 129-142. — Бібліогр.: 50 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Summary: | The problems of ultrathin stable electrically continuous metal films fabrication and their electron-transport properties are discussed. To prevent the coagulation process of metal grains during metal film condensation, the surfactant underlayers utilizing is discussed. Analysis of current theoretical concepts concerning electron-transport properties of metal film is performed. The experimental data are explained within the scope of the modern theoretical models.
Обговорено проблему створення надтонких (товщина шару від 2 нм до 50 нм) електрично суцільних стабільних провідних шарів металів і вивчення їхніх електричних властивостей. Розглянуто можливість застосування сурфактантних підшарів для запобігання коаґуляції зародків кристалізації в процесі росту плівок. Здійснено аналізу сучасного стану модельних уявлень про перенесення заряду в металевих зразках обмежених розмірів, і на його основі проведено трактування результатів експериментального дослідження надтонких металевих плівок.
Обсуждается проблема создания сверхтонких (толщина слоя от 2 нм до 50 нм) электрически сплошных проводящих стабильных слоев металлов и исследования их электрических свойств. Рассмотрена возможность применения сурфактантных подслоев для предотвращения коагуляции зародышей кристаллизации в процессе роста пленок. Сделан анализ современного состояния модельных представлений о переносе заряда в металлических образцах ограниченных размеров, и на его основе проведена трактовка результатов экспериментального исследования сверхтонких металлических пленок.
|
|---|---|
| ISSN: | 1816-5230 |