Структура та електропровідність ультратонких плівок міді, золота та срібла

Вивчено вплив поверхневого та зерномежового розсіяння носіїв струму на перенесення заряду в плівках Cu, Au та Ag в умовах надвисокого вакууму при тиску залишкових газів Рз ≤ 10⁻⁷ Па. Досліджено вплив сурфактантних підшарів Sb, Ge та Si на структуру та кінетичні коефіцієнти тонких плівок Cu, Au та Ag...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Date:2010
Main Authors: Шпак, А.П., Бігун, Р.І., Стасюк, З.В., Куницький, Ю.А.
Format: Article
Language:Ukrainian
Published: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2010
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/72617
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Структура та електропровідність ультратонких плівок міді, золота та срібла / А.П. Шпак, Р.І. Бігун, З.В. Стасюк, Ю.А. Куницький // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2010. — Т. 8, № 2. — С. 339-388. — Бібліогр.: 115 назв. — укр.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862539717983076352
author Шпак, А.П.
Бігун, Р.І.
Стасюк, З.В.
Куницький, Ю.А.
author_facet Шпак, А.П.
Бігун, Р.І.
Стасюк, З.В.
Куницький, Ю.А.
citation_txt Структура та електропровідність ультратонких плівок міді, золота та срібла / А.П. Шпак, Р.І. Бігун, З.В. Стасюк, Ю.А. Куницький // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2010. — Т. 8, № 2. — С. 339-388. — Бібліогр.: 115 назв. — укр.
collection DSpace DC
container_title Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
description Вивчено вплив поверхневого та зерномежового розсіяння носіїв струму на перенесення заряду в плівках Cu, Au та Ag в умовах надвисокого вакууму при тиску залишкових газів Рз ≤ 10⁻⁷ Па. Досліджено вплив сурфактантних підшарів Sb, Ge та Si на структуру та кінетичні коефіцієнти тонких плівок Cu, Au та Ag. Залежності від товщини шару питомого опору ρ, температурного коефіцієнта опору β в широкому діяпазоні товщин (d = 2—70 нм) плівок тлумачаться на основі теоретичних моделів квазикласичних та квантових кінетичних явищ у зразках обмежених розмірів. Виконано розрахунок зонної структури ультратонких плівок Cu, Au та Ag. Виявлено, що для плівок досліджуваних металів товщиною, більшою за 5—6 атомових шарів, зонна енергетична структура близька до зонної енергетичної структури масивного
 зразка металу. Розмірні залежності електропровідности ультратонких плівок (товщиною 2—8 нм) досліджуваних металів пояснено за допомогою квантових теорій балістичного перенесення заряду. Параметри перенесення заряду в плівках металів розраховано в рамках моделів класичного та внутрішнього розмірних ефектів. Изучено влияние поверхностного и зернограничного рассеяния носителей тока на перенос заряда в ультратонких пленках Cu, Au и Ag в условиях сверхвысокого вакуума при давлении остаточных газов, не превышающем Рост ≤ 10⁻⁷ Па. Исследовано влияние сурфактантных подслоев Sb, Ge и Si на структуру и кинетические коэффициенты тонких пленок Cu, Au и Ag. Зависимости от толщины пленки металла удельного сопротивления ρ и температурного коэффициента сопротивления β в широком диапазоне толщин пленок трактуются с помощью теоретических квазиклассических и квантовых моделей явлений переноса заряда в образцах ограниченных размеров. Параметры переноса заряда в металлических пленках вычислены в рамках теорий классического и внутреннего размерных эффектов. The resistivity ρ and the temperature coefficient of resistivity β dependences
 on thin films thickness are investigated experimentally. The experiment
 showed that ρ and β possess size dependence. The experimental results for ρ are
 interpreted within the scope of the inhomogeneous cross-section polycrystalline-
 film model size-effect theories. The grain-boundary scattering is explained
 within the framework of the Mayadas—Shatzkes and Tellier—Tosser—
 Pichard theories. The electron-transport parameters for thin films are calculated
 within the scope of the classical size effect. As shown, a value of the coefficient of charge-carrier grain-boundary transmission, t, do not depend on
 temperature in the range from 78 K to 370 K and surfactants under layers. The
 average amplitude of one-dimensional surface asperities, h, is estimated by
 means of the results of electrical measurements and shows good correlation
 with crystallite-size (D) data. The Sb, Ge or Si surfactant sublayers (of massive
 thickness less than 6 nm) hasten the Cu, Au and Ag films metallization. The
 calculations of electronic band structure of Cu, Au and Ag films show that
 films with thickness more than 5—6 atom layers have the same electronic band
 structure as bulk metal samples. The experimental results are explained within
 the framework of the classical and quantum size-effect theories. Generalized
 conclusion about electron transport in thin metal films for a wide thickness
 range is made. The ballistic electron transport in ultrathin metal films is explained
 within the scope of the Fishman—Calecki theory.
first_indexed 2025-11-24T15:58:08Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-72617
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1816-5230
language Ukrainian
last_indexed 2025-11-24T15:58:08Z
publishDate 2010
publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
record_format dspace
spelling Шпак, А.П.
Бігун, Р.І.
Стасюк, З.В.
Куницький, Ю.А.
2014-12-26T22:37:52Z
2014-12-26T22:37:52Z
2010
Структура та електропровідність ультратонких плівок міді, золота та срібла / А.П. Шпак, Р.І. Бігун, З.В. Стасюк, Ю.А. Куницький // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2010. — Т. 8, № 2. — С. 339-388. — Бібліогр.: 115 назв. — укр.
1816-5230
PACS numbers: 68.35.Ct, 68.37.-d, 68.55.J-, 72.10.Fk, 73.23.Ad, 73.25.+i, 73.50.Bk
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/72617
Вивчено вплив поверхневого та зерномежового розсіяння носіїв струму на перенесення заряду в плівках Cu, Au та Ag в умовах надвисокого вакууму при тиску залишкових газів Рз ≤ 10⁻⁷ Па. Досліджено вплив сурфактантних підшарів Sb, Ge та Si на структуру та кінетичні коефіцієнти тонких плівок Cu, Au та Ag. Залежності від товщини шару питомого опору ρ, температурного коефіцієнта опору β в широкому діяпазоні товщин (d = 2—70 нм) плівок тлумачаться на основі теоретичних моделів квазикласичних та квантових кінетичних явищ у зразках обмежених розмірів. Виконано розрахунок зонної структури ультратонких плівок Cu, Au та Ag. Виявлено, що для плівок досліджуваних металів товщиною, більшою за 5—6 атомових шарів, зонна енергетична структура близька до зонної енергетичної структури масивного
 зразка металу. Розмірні залежності електропровідности ультратонких плівок (товщиною 2—8 нм) досліджуваних металів пояснено за допомогою квантових теорій балістичного перенесення заряду. Параметри перенесення заряду в плівках металів розраховано в рамках моделів класичного та внутрішнього розмірних ефектів.
Изучено влияние поверхностного и зернограничного рассеяния носителей тока на перенос заряда в ультратонких пленках Cu, Au и Ag в условиях сверхвысокого вакуума при давлении остаточных газов, не превышающем Рост ≤ 10⁻⁷ Па. Исследовано влияние сурфактантных подслоев Sb, Ge и Si на структуру и кинетические коэффициенты тонких пленок Cu, Au и Ag. Зависимости от толщины пленки металла удельного сопротивления ρ и температурного коэффициента сопротивления β в широком диапазоне толщин пленок трактуются с помощью теоретических квазиклассических и квантовых моделей явлений переноса заряда в образцах ограниченных размеров. Параметры переноса заряда в металлических пленках вычислены в рамках теорий классического и внутреннего размерных эффектов.
The resistivity ρ and the temperature coefficient of resistivity β dependences
 on thin films thickness are investigated experimentally. The experiment
 showed that ρ and β possess size dependence. The experimental results for ρ are
 interpreted within the scope of the inhomogeneous cross-section polycrystalline-
 film model size-effect theories. The grain-boundary scattering is explained
 within the framework of the Mayadas—Shatzkes and Tellier—Tosser—
 Pichard theories. The electron-transport parameters for thin films are calculated
 within the scope of the classical size effect. As shown, a value of the coefficient of charge-carrier grain-boundary transmission, t, do not depend on
 temperature in the range from 78 K to 370 K and surfactants under layers. The
 average amplitude of one-dimensional surface asperities, h, is estimated by
 means of the results of electrical measurements and shows good correlation
 with crystallite-size (D) data. The Sb, Ge or Si surfactant sublayers (of massive
 thickness less than 6 nm) hasten the Cu, Au and Ag films metallization. The
 calculations of electronic band structure of Cu, Au and Ag films show that
 films with thickness more than 5—6 atom layers have the same electronic band
 structure as bulk metal samples. The experimental results are explained within
 the framework of the classical and quantum size-effect theories. Generalized
 conclusion about electron transport in thin metal films for a wide thickness
 range is made. The ballistic electron transport in ultrathin metal films is explained
 within the scope of the Fishman—Calecki theory.
uk
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Структура та електропровідність ультратонких плівок міді, золота та срібла
Structure and Electroconductivity of Ultrathin Films of Copper, Gold, and Silver
Article
published earlier
spellingShingle Структура та електропровідність ультратонких плівок міді, золота та срібла
Шпак, А.П.
Бігун, Р.І.
Стасюк, З.В.
Куницький, Ю.А.

title Структура та електропровідність ультратонких плівок міді, золота та срібла
title_alt Structure and Electroconductivity of Ultrathin Films of Copper, Gold, and Silver
title_full Структура та електропровідність ультратонких плівок міді, золота та срібла
title_fullStr Структура та електропровідність ультратонких плівок міді, золота та срібла
title_full_unstemmed Структура та електропровідність ультратонких плівок міді, золота та срібла
title_short Структура та електропровідність ультратонких плівок міді, золота та срібла
title_sort структура та електропровідність ультратонких плівок міді, золота та срібла
topic
topic_facet
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/72617
work_keys_str_mv AT špakap strukturataelektroprovídnístʹulʹtratonkihplívokmídízolotatasríbla
AT bígunrí strukturataelektroprovídnístʹulʹtratonkihplívokmídízolotatasríbla
AT stasûkzv strukturataelektroprovídnístʹulʹtratonkihplívokmídízolotatasríbla
AT kunicʹkiiûa strukturataelektroprovídnístʹulʹtratonkihplívokmídízolotatasríbla
AT špakap structureandelectroconductivityofultrathinfilmsofcoppergoldandsilver
AT bígunrí structureandelectroconductivityofultrathinfilmsofcoppergoldandsilver
AT stasûkzv structureandelectroconductivityofultrathinfilmsofcoppergoldandsilver
AT kunicʹkiiûa structureandelectroconductivityofultrathinfilmsofcoppergoldandsilver