Моделирование процессов фотолитографии на суперкомпьютере СКИФ К-1000

Разработана параллельная реализация моделирования процессов фотолитографии для применения на суперкомпьютере СКИФ К-1000. Использование параллельных средств вычисления позволило получить хорошие результаты по ускорению процесса формирования изображения в слое фоторезиста и последующего автоматиче...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2008
Автори: Дудкин, А.А., Инютин, А.В., Отвагин, А.В.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут проблем штучного інтелекту МОН України та НАН України 2008
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/7477
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Моделирование процессов фотолитографии на суперкомпьютере СКИФ К-1000 / А.А. Дудкин, А.В. Инютин, А.В. Отвагин // Штучний інтелект. — 2008. — № 4. — С. 348-352. — Бібліогр.: 11 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:Разработана параллельная реализация моделирования процессов фотолитографии для применения на суперкомпьютере СКИФ К-1000. Использование параллельных средств вычисления позволило получить хорошие результаты по ускорению процесса формирования изображения в слое фоторезиста и последующего автоматического контроля оригиналов топологии. Розроблена паралельна реалізація моделювання процесів фотолітографії для застосування на суперкомп’ютері СКІФ К-1000. Використання паралельних засобів обчислення дозволило одержати добрі результати з прискорення процесу формування зображення в шарі фоторезиста і подальшого автоматичного контролю оригіналів топології. The parallel realization of modeling of photolithography processes was developed for application on supercomputer SKIF К-1000. Parallel means of calculation have allowed accelerating of image generation process in a photoresist layer and the subsequent automatic mask inspection.
ISSN:1561-5359