Моделирование процессов фотолитографии на суперкомпьютере СКИФ К-1000

Разработана параллельная реализация моделирования процессов фотолитографии для применения на
 суперкомпьютере СКИФ К-1000. Использование параллельных средств вычисления позволило получить
 хорошие результаты по ускорению процесса формирования изображения в слое фоторезиста и последую...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2008
Hauptverfasser: Дудкин, А.А., Инютин, А.В., Отвагин, А.В.
Format: Artikel
Sprache:Russisch
Veröffentlicht: Інститут проблем штучного інтелекту МОН України та НАН України 2008
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/7477
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Моделирование процессов фотолитографии на суперкомпьютере СКИФ К-1000 / А.А. Дудкин, А.В. Инютин, А.В. Отвагин // Штучний інтелект. — 2008. — № 4. — С. 348-352. — Бібліогр.: 11 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Beschreibung
Zusammenfassung:Разработана параллельная реализация моделирования процессов фотолитографии для применения на
 суперкомпьютере СКИФ К-1000. Использование параллельных средств вычисления позволило получить
 хорошие результаты по ускорению процесса формирования изображения в слое фоторезиста и последующего
 автоматического контроля оригиналов топологии. Розроблена паралельна реалізація моделювання процесів фотолітографії для застосування на
 суперкомп’ютері СКІФ К-1000. Використання паралельних засобів обчислення дозволило одержати
 добрі результати з прискорення процесу формування зображення в шарі фоторезиста і подальшого
 автоматичного контролю оригіналів топології. The parallel realization of modeling of photolithography processes was developed for application on
 supercomputer SKIF К-1000. Parallel means of calculation have allowed accelerating of image generation
 process in a photoresist layer and the subsequent automatic mask inspection.
ISSN:1561-5359