Електропровідність дрібнокристалічних плівок міді нанометрової товщини

В умовах надвисокого вакууму вивчено електропровідність ультратонких
 плівок міді, нанесених на поверхню обтопленого полірованого скла та поверхню підшару ґерманію субатомової товщини. Результати експерименту трактовано в межах сучасних теоретичних моделей квантового та класичного розмірних...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Дата:2013
Автори: Бучковська, М.Д., Бігун, Р.І., Стасюк, З.В., Леонов, Д.С.
Формат: Стаття
Мова:Українська
Опубліковано: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2013
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/75911
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Електропровідність дрібнокристалічних плівок міді
 нанометрової товщини
 / М.Д. Бучковська, Р.І. Бігун, З.В. Стасюк, Д.С. Леонов // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2013. — Т. 11, № 3. — С. 551-564. — Бібліогр.: 15 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:В умовах надвисокого вакууму вивчено електропровідність ультратонких
 плівок міді, нанесених на поверхню обтопленого полірованого скла та поверхню підшару ґерманію субатомової товщини. Результати експерименту трактовано в межах сучасних теоретичних моделей квантового та класичного розмірних ефектів. Проаналізовано деякі недоліки наявних модельних уявлень, які не ураховують особливості будови реальних плівок
 металів, що не уможливлює досягнути надійного кількісного опису експериментальних даних. Under ultrahigh vacuum conditions, the electrical conductivity of ultrathin
 copper films (with thickness d15 nm) deposited on glass surface or on glass
 surface predeposited with germanium underlayer is investigated. Some difficulties
 of contemporary size-effect theories of electron-transport phenomenon
 are analysed. If the peculiarities of real metal-film structure are not taken
 into account, quantitative description of experimental data cannot be
 achieved. В условиях сверхвысокого вакуума изучена электропроводность ультратонких плёнок меди, сформированных на поверхности оплавленного полированного стекла и поверхности подслоя германия субатомной толщины, предварительно нанесённого на поверхность стекла. Результаты эксперимента рассмотрены в рамках современных теоретических моделей
 квантового и классического размерных эффектов. Проанализированы некоторые недостатки существующих модельных представлений, которые
 не учитывают особенности строения реальных плёнок металлов, что не
 позволяет достичь надёжного количественного описания экспериментальных данных.
ISSN:1816-5230