Affects deposition time and substrate temperature on optical properties of ZnO thin film
ZnO thin films have been prepared with different processes such as pulsed-laser deposition, chemical vapor deposition spray pyrolysis and sol-gel process etc. Among them, chemical vapor deposition (CVD), in this paper we will study the effect of, deposition time and temperature of the substrates. Th...
Saved in:
| Published in: | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Date: | 2011 |
| Main Authors: | , , |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2011
|
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/75998 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Affects deposition time and substrate temperature on optical properties of zno thin film / A.D. Pogrebnyak, N.Y. Jameel, G.A-K.M. Mommed // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 1. — С. 21-24. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-75998 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Pogrebnyak, A.D. Jameel, N.Y. Mommed, G.A-K.M. 2015-02-07T07:10:20Z 2015-02-07T07:10:20Z 2011 Affects deposition time and substrate temperature on optical properties of zno thin film / A.D. Pogrebnyak, N.Y. Jameel, G.A-K.M. Mommed // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 1. — С. 21-24. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. 1999-8074 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/75998 621.715.539.376 ZnO thin films have been prepared with different processes such as pulsed-laser deposition, chemical vapor deposition spray pyrolysis and sol-gel process etc. Among them, chemical vapor deposition (CVD), in this paper we will study the effect of, deposition time and temperature of the substrates. The temperatures of substrate was varied as was the deposition time of ZnO in order to determine the best substrate temperature and deposition time to produce the best physical properties of deposition. using pure zinc acetate hydrous Zn(Ch₃COO)₂⋅2H₂0 with 98% purity. The best deposition time was found to be (20 min) while the best temperature degree was (500 °C). ZnO тонких плівок були підготовлені з різними процесами, такими як імпульсного лазерного осадження, хімічного осадження парів ПІРОЛІЗ і золь-гель процесу і т.д. Серед них, хімічне осадження парів (CVD), в цій статті ми будемо вивчати вплив, час осадження і температури підкладки. Температура підкладки варіювалася як було часу осадження з ZnO з метою визначення кращих температур підкладки та осадження час, щоб зробити найкращі фізичні властивості осадження, з використанням чистого цинку ацетат водний Zn(Ch₃COO)₂⋅2H₂ з 98% чистоти. Кращий час осадження виявиться (20 хв), а найкраща температура мірою була (500 °С). ZnO тонких пленок были подготовлены с различными процессами, такими как импульсного лазерного осаждения, химического осаждения паров ПИРОЛИЗОМ и золь-гель процесса и т.д. Среди них, химическое осаждение паров (CVD), в этой статье мы будем изучать влияние, время осаждения и температуры подложки. Температура подложки варьировалась как было времени осаждения из ZnO с целью определения лучших температуры подложки и осаждения время, чтобы произвести самые лучшие физические свойства осаждения. с использованием чистого цинка ацетат водный Zn(Ch₃COO)₂⋅2H₂ с 98% чистоты. Лучшее время осаждения оказалось (20 мин), а лучшая температура степени была (500 °С). en Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України Физическая инженерия поверхности Affects deposition time and substrate temperature on optical properties of ZnO thin film Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Affects deposition time and substrate temperature on optical properties of ZnO thin film |
| spellingShingle |
Affects deposition time and substrate temperature on optical properties of ZnO thin film Pogrebnyak, A.D. Jameel, N.Y. Mommed, G.A-K.M. |
| title_short |
Affects deposition time and substrate temperature on optical properties of ZnO thin film |
| title_full |
Affects deposition time and substrate temperature on optical properties of ZnO thin film |
| title_fullStr |
Affects deposition time and substrate temperature on optical properties of ZnO thin film |
| title_full_unstemmed |
Affects deposition time and substrate temperature on optical properties of ZnO thin film |
| title_sort |
affects deposition time and substrate temperature on optical properties of zno thin film |
| author |
Pogrebnyak, A.D. Jameel, N.Y. Mommed, G.A-K.M. |
| author_facet |
Pogrebnyak, A.D. Jameel, N.Y. Mommed, G.A-K.M. |
| publishDate |
2011 |
| language |
English |
| container_title |
Физическая инженерия поверхности |
| publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| format |
Article |
| description |
ZnO thin films have been prepared with different processes such as pulsed-laser deposition, chemical vapor deposition spray pyrolysis and sol-gel process etc. Among them, chemical vapor deposition (CVD), in this paper we will study the effect of, deposition time and temperature of the substrates. The temperatures of substrate was varied as was the deposition time of ZnO in order to determine the best substrate temperature and deposition time to produce the best physical properties of deposition.
using pure zinc acetate hydrous Zn(Ch₃COO)₂⋅2H₂0 with 98% purity. The best deposition time was found to be (20 min) while the best temperature degree was (500 °C).
ZnO тонких плівок були підготовлені з різними процесами, такими як імпульсного лазерного осадження, хімічного осадження парів ПІРОЛІЗ і золь-гель процесу і т.д. Серед них, хімічне осадження парів (CVD), в цій статті ми будемо вивчати вплив, час осадження і температури підкладки. Температура підкладки варіювалася як було часу осадження з ZnO з метою визначення кращих температур підкладки та осадження час, щоб зробити найкращі фізичні властивості осадження, з використанням чистого цинку ацетат водний Zn(Ch₃COO)₂⋅2H₂ з 98% чистоти. Кращий час осадження виявиться (20 хв), а найкраща температура мірою була (500 °С).
ZnO тонких пленок были подготовлены с различными процессами, такими как импульсного лазерного осаждения, химического осаждения паров ПИРОЛИЗОМ и золь-гель процесса и т.д. Среди них, химическое осаждение паров (CVD), в этой статье мы будем изучать влияние, время осаждения и температуры подложки. Температура подложки варьировалась как было времени осаждения из ZnO с целью определения лучших температуры подложки и осаждения время, чтобы произвести самые лучшие физические свойства осаждения. с использованием
чистого цинка ацетат водный Zn(Ch₃COO)₂⋅2H₂ с 98% чистоты. Лучшее время осаждения оказалось (20 мин), а лучшая температура степени была (500 °С).
|
| issn |
1999-8074 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/75998 |
| citation_txt |
Affects deposition time and substrate temperature on optical properties of zno thin film / A.D. Pogrebnyak, N.Y. Jameel, G.A-K.M. Mommed // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 1. — С. 21-24. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
| work_keys_str_mv |
AT pogrebnyakad affectsdepositiontimeandsubstratetemperatureonopticalpropertiesofznothinfilm AT jameelny affectsdepositiontimeandsubstratetemperatureonopticalpropertiesofznothinfilm AT mommedgakm affectsdepositiontimeandsubstratetemperatureonopticalpropertiesofznothinfilm |
| first_indexed |
2025-12-07T18:30:55Z |
| last_indexed |
2025-12-07T18:30:55Z |
| _version_ |
1850875320467456000 |