Фазовые портреты деформационных эффектов на тензочувствительных плёнках Bi₂Te₃ и Sb₂Te₃

Исследовано влияние переменной деформации на сопротивление тензочувствительных пленок Bi₂Te₃ и Sb₂Te₃. Получены фазовые траектории тензорезистивного эффекта на плоскости сопротивления деформации. Показано, что замкнутые фазовые траектории обусловлены электронными релаксационными процессами. Открытые...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Физическая инженерия поверхности
Дата:2011
Автори: Шамирзаев, C.Х., Гулямов, Г., Дадамирзаев, М.Г., Шарибаев, Н.Ю., Гулямов, А.Г.
Формат: Стаття
Мова:Російська
Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2011
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76169
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Фазовые портреты деформационных эффектов на тензочувствительных плёнках Bi₂Te₃ и Sb₂Te₃ / C.Х. Шамирзаев, Г. Гулямов, М.Г. Дадамирзаев, Н.Ю. Шарибаев, А.Г. Гулямов // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 1. — С. 68–71. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:Исследовано влияние переменной деформации на сопротивление тензочувствительных пленок Bi₂Te₃ и Sb₂Te₃. Получены фазовые траектории тензорезистивного эффекта на плоскости сопротивления деформации. Показано, что замкнутые фазовые траектории обусловлены электронными релаксационными процессами. Открытые фазовые траектории релаксационными процессами, обусловленные изменением параметров материала. Досліджено вплив змінної деформації на опір тензочутливих плівок Bi₂Te₃ і Sb₂Te₃. Отримано фазові траєкторії тензорезистивного ефекту на площині опору деформації. Показано, що замкнуті фазові траєкторії зумовлені електронними релаксаційними процесами, а відкриті фазові траєкторії-релаксаційними процесами та зміною параметрів матеріалу. Influence of variable deformation on resistance tens sensitivity films Bi₂Te₃ and Sb₂Te₃ is investigated. Phase trajectories tens sensitivity effect on a plane of resistance deformation are received. It is shown, that the closed phase trajectories are caused electronic relaxation by processes, and open phase trajectories relaxation the processes, caused by change of parameters of a material.
ISSN:1999-8074