Характиристики вакуумно-дуговых покрытий из чередующихся слоев TiN/ TiNCu
Исследованы характеристики вакуумно-дуговых покрытий, состоящих из чередующихся слоев TiN и слоев TiN, легированных Сu при одновременной работе источника с титановым катодом в постоянном режиме, а с медным катодом в импульсном. Установлено, что с ростом концентрации Cu от 0,3 до 34 вес.% размер ОКР...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Дата: | 2011 |
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2011
|
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76347 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Характиристики вакуумно-дуговых покрытий из чередующихся слоев TiN/ TiNCu / В.М. Лунёв, И.П. Непипенко, Е.Н. Решетняк, И.В. Колодий // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 2. — С. 125–133. — Бібліогр.: 21 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-76347 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Лунёв, В.М. Непипенко, И.П. Решетняк, Е.Н. Колодий, И.В. 2015-02-09T20:02:34Z 2015-02-09T20:02:34Z 2011 Характиристики вакуумно-дуговых покрытий из чередующихся слоев TiN/ TiNCu / В.М. Лунёв, И.П. Непипенко, Е.Н. Решетняк, И.В. Колодий // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 2. — С. 125–133. — Бібліогр.: 21 назв. — рос. 1999-8074 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76347 621.793.7 Исследованы характеристики вакуумно-дуговых покрытий, состоящих из чередующихся слоев TiN и слоев TiN, легированных Сu при одновременной работе источника с титановым катодом в постоянном режиме, а с медным катодом в импульсном. Установлено, что с ростом концентрации Cu от 0,3 до 34 вес.% размер ОКР нитрида титана уменьшается от 22 до 11 нм, что может свидетельствовать о подавлении тенденции к столбчатому росту кристаллитов TiN. Если в покрытиях TiN присутствуют фрагменты столбчатой структуры то при концентрации Сu ∼ 0.3 вес.% и выше, таковая не обнаруживается. Наибольшая микротвердость покрытий (37 ГПа) достигается при 1,2 вес.% Сu. Досліджено характеристики вакуумно-дугових покриттів, що складаються з шарів TiN і шарів TiN, що чергуються, легованих Сu при одночасній роботі джерела з титановим катодом в постійному режимі і мідним катодом в імпульсному. Встановлено, що із зростанням концентрації Cu від 0,3 до 34 ваг. % розмір ОКР нітриду титану зменшується від 22 до 11 нм, що може свідчити про придушення тенденції до стовпчатого зростання кристалітів TiN. Якщо у покриттях TiN присутні фрагменти стовпчатої структури то при концентрації Сu ~ 0.3 ваг% і вище, така не виявляється. Найбільша мікротвердість покриттів (37 Гпа ) досягається при 1,2 ваг. % Сu. Properties of the vacuum-arc coatings composed of alternate layers of TiN and TiN doped by Сu were studied. Dopant Cu was added from copper cathode by means of pulse vacuum arc. It was find out while Cu concentration increased from 0,3 to 34 wt.%, size of TiN coherent dispersion area decreased from 22 to 11 nm. This can be an evidence of TiN columnar crystal growth suppression. When doped Cu percentage becomes more than 0.3 wt.% no TiN columnar structure was found. The greatest microhardness was reached (37 GPa) at 1,2 wt. % doped Сu. ru Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України Физическая инженерия поверхности Характиристики вакуумно-дуговых покрытий из чередующихся слоев TiN/ TiNCu Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Характиристики вакуумно-дуговых покрытий из чередующихся слоев TiN/ TiNCu |
| spellingShingle |
Характиристики вакуумно-дуговых покрытий из чередующихся слоев TiN/ TiNCu Лунёв, В.М. Непипенко, И.П. Решетняк, Е.Н. Колодий, И.В. |
| title_short |
Характиристики вакуумно-дуговых покрытий из чередующихся слоев TiN/ TiNCu |
| title_full |
Характиристики вакуумно-дуговых покрытий из чередующихся слоев TiN/ TiNCu |
| title_fullStr |
Характиристики вакуумно-дуговых покрытий из чередующихся слоев TiN/ TiNCu |
| title_full_unstemmed |
Характиристики вакуумно-дуговых покрытий из чередующихся слоев TiN/ TiNCu |
| title_sort |
характиристики вакуумно-дуговых покрытий из чередующихся слоев tin/ tincu |
| author |
Лунёв, В.М. Непипенко, И.П. Решетняк, Е.Н. Колодий, И.В. |
| author_facet |
Лунёв, В.М. Непипенко, И.П. Решетняк, Е.Н. Колодий, И.В. |
| publishDate |
2011 |
| language |
Russian |
| container_title |
Физическая инженерия поверхности |
| publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| format |
Article |
| description |
Исследованы характеристики вакуумно-дуговых покрытий, состоящих из чередующихся слоев TiN и слоев TiN, легированных Сu при одновременной работе источника с титановым катодом в постоянном режиме, а с медным катодом в импульсном. Установлено, что с ростом концентрации Cu от 0,3 до 34 вес.% размер ОКР нитрида титана уменьшается от 22 до 11 нм, что может свидетельствовать о подавлении тенденции к столбчатому росту кристаллитов TiN. Если в покрытиях TiN присутствуют фрагменты столбчатой структуры то при концентрации Сu ∼ 0.3 вес.% и выше, таковая не обнаруживается. Наибольшая микротвердость покрытий (37 ГПа) достигается при 1,2 вес.% Сu.
Досліджено характеристики вакуумно-дугових покриттів, що складаються з шарів TiN і шарів TiN, що чергуються, легованих Сu при одночасній роботі джерела з титановим катодом в постійному режимі і мідним катодом в імпульсному. Встановлено, що із зростанням концентрації Cu від 0,3 до 34 ваг. % розмір ОКР нітриду титану зменшується від 22 до 11 нм, що може свідчити про придушення тенденції до стовпчатого зростання кристалітів TiN. Якщо у покриттях TiN присутні фрагменти стовпчатої структури то при концентрації Сu ~ 0.3 ваг% і вище, така не виявляється. Найбільша мікротвердість покриттів (37 Гпа ) досягається при
1,2 ваг. % Сu.
Properties of the vacuum-arc coatings composed of alternate layers of TiN and TiN doped by Сu were studied. Dopant Cu was added from copper cathode by means of pulse vacuum arc. It was find out while Cu concentration increased from 0,3 to 34 wt.%, size of TiN coherent dispersion area decreased from 22 to 11 nm. This can be an evidence of TiN columnar crystal growth suppression. When doped Cu percentage becomes more than 0.3 wt.% no TiN columnar structure was found. The greatest microhardness was reached (37 GPa) at 1,2 wt. % doped Сu.
|
| issn |
1999-8074 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76347 |
| citation_txt |
Характиристики вакуумно-дуговых покрытий из чередующихся слоев TiN/ TiNCu / В.М. Лунёв, И.П. Непипенко, Е.Н. Решетняк, И.В. Колодий // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 2. — С. 125–133. — Бібліогр.: 21 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT lunevvm haraktiristikivakuumnodugovyhpokrytiiizčereduûŝihsâsloevtintincu AT nepipenkoip haraktiristikivakuumnodugovyhpokrytiiizčereduûŝihsâsloevtintincu AT rešetnâken haraktiristikivakuumnodugovyhpokrytiiizčereduûŝihsâsloevtintincu AT kolodiiiv haraktiristikivakuumnodugovyhpokrytiiizčereduûŝihsâsloevtintincu |
| first_indexed |
2025-11-30T22:32:22Z |
| last_indexed |
2025-11-30T22:32:22Z |
| _version_ |
1850858580889042944 |