Нанорельєф поверхонь поліімідних плівок, похило оброблених плазмовим жмутом
Досліджено зв’язок між нанорельєфом поліімідних поверхонь, похило
 оброблених жмутом прискореної плазми, й орієнтацією рідких кристалів
 (РК) на таких поверхнях. Показано, що плазмове оброблення поверхні
 призводить до зміни її шорсткости у нанометровому діяпазоні висот рельє...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології |
|---|---|
| Дата: | 2009 |
| Автори: | , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Українська |
| Опубліковано: |
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
2009
|
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76395 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Нанорельєф поверхонь поліімідних плівок,
 похило оброблених плазмовим жмутом / С.М. Губарєв, А.М. Добровольський, А.М. Євсюков, Р.М. Кравчук,
 І.М. Проценко, О.В. Ярощук // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2009. — Т. 7, № 1. — С. 169-176. — Бібліогр.: 14 назв. — укр. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1860062980223270912 |
|---|---|
| author | Губарєв, С.М. Добровольський, А.М. Євсюков, А.М. Кравчук, Р.М. Проценко, І.М. Ярощук, О.В. |
| author_facet | Губарєв, С.М. Добровольський, А.М. Євсюков, А.М. Кравчук, Р.М. Проценко, І.М. Ярощук, О.В. |
| citation_txt | Нанорельєф поверхонь поліімідних плівок,
 похило оброблених плазмовим жмутом / С.М. Губарєв, А.М. Добровольський, А.М. Євсюков, Р.М. Кравчук,
 І.М. Проценко, О.В. Ярощук // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2009. — Т. 7, № 1. — С. 169-176. — Бібліогр.: 14 назв. — укр. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології |
| description | Досліджено зв’язок між нанорельєфом поліімідних поверхонь, похило
оброблених жмутом прискореної плазми, й орієнтацією рідких кристалів
(РК) на таких поверхнях. Показано, що плазмове оброблення поверхні
призводить до зміни її шорсткости у нанометровому діяпазоні висот рельєфу. При цьому шорсткості у напрямку проєкції плазмового жмута на поверхню й у перпендикулярному напрямку відрізняються. Простежується
чітка кореляція між анізотропією шорсткости і напрямком РК-орієнтації. Це вказує на важливу, можливо, головну, роль топологічного фактора
в планарній орієнтації РК на поверхнях оброблених йонними і плазмовими жмутами.
The relationship between the nanorelief of polyimide surfaces obliquely
treated by the beam of accelerated plasma and the alignment of LC on these
surfaces is investigated. As shown, the plasma treatment of the surface results
in a change of its roughness in nanometre scale. The roughness in the
direction of plasma-beam projection on the surface is different from that in
the perpendicular direction. Clear correlation between the anisotropy of surface
roughness and the direction of LC alignment is observed. This implies
the important, possibly crucial, role of the topology factor in planar alignment
of LC on the surfaces obliquely treated by plasma/ion beams.
Исследована связь между нанорельефом полиимидных поверхностей, наклонно обработанных пучком ускоренной плазмы, и ориентацией жидких кристаллов (ЖК) на таких поверхностях. Показано, что плазменная
обработка поверхности приводит к изменению ее шероховатости в нанометровом диапазоне высот рельефа. При этом шероховатость в направлении проекции плазменного пучка на поверхность и в перпендикулярном
направлении различаются. Прослеживается четкая корреляция между
анизотропией шероховатости и направлением ЖК-ориентации. Это указывает на важную, возможно, главную, роль топологического фактора впланарной ориентации ЖК на поверхностях, обработанных ионными или
газовыми пучками.
|
| first_indexed | 2025-12-07T17:05:40Z |
| format | Article |
| fulltext |
169
PACS numbers: 61.30.Hn, 68.35.Ct, 68.37.Ps, 68.47.Pe, 79.20.Rf, 81.16.Rf, 81.65.Cf
Нанорельєф поверхонь поліімідних плівок,
похило оброблених плазмовим жмутом
С. М. Губарєв, А. М. Добровольський
*, А. М. Євсюков, Р. М. Кравчук,
І. М. Проценко, О. В. Ярощук
Інститут фізики НАН України,
просп. Науки, 46,
03028 Київ, Україна
Досліджено зв’язок між нанорельєфом поліімідних поверхонь, похило
оброблених жмутом прискореної плазми, й орієнтацією рідких кристалів
(РК) на таких поверхнях. Показано, що плазмове оброблення поверхні
призводить до зміни її шорсткости у нанометровому діяпазоні висот рель-
єфу. При цьому шорсткості у напрямку проєкції плазмового жмута на по-
верхню й у перпендикулярному напрямку відрізняються. Простежується
чітка кореляція між анізотропією шорсткости і напрямком РК-орієнта-
ції. Це вказує на важливу, можливо, головну, роль топологічного фактора
в планарній орієнтації РК на поверхнях оброблених йонними і плазмови-
ми жмутами.
The relationship between the nanorelief of polyimide surfaces obliquely
treated by the beam of accelerated plasma and the alignment of LC on these
surfaces is investigated. As shown, the plasma treatment of the surface re-
sults in a change of its roughness in nanometre scale. The roughness in the
direction of plasma-beam projection on the surface is different from that in
the perpendicular direction. Clear correlation between the anisotropy of sur-
face roughness and the direction of LC alignment is observed. This implies
the important, possibly crucial, role of the topology factor in planar align-
ment of LC on the surfaces obliquely treated by plasma/ion beams.
Исследована связь между нанорельефом полиимидных поверхностей, на-
клонно обработанных пучком ускоренной плазмы, и ориентацией жид-
ких кристаллов (ЖК) на таких поверхностях. Показано, что плазменная
обработка поверхности приводит к изменению ее шероховатости в нано-
метровом диапазоне высот рельефа. При этом шероховатость в направле-
нии проекции плазменного пучка на поверхность и в перпендикулярном
направлении различаются. Прослеживается четкая корреляция между
анизотропией шероховатости и направлением ЖК-ориентации. Это ука-
зывает на важную, возможно, главную, роль топологического фактора в
Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Nanosystems, Nanomaterials, Nanotechnologies
2009, т. 7, № 1, сс. 169—176
© 2009 ІМФ (Інститут металофізики
ім. Г. В. Курдюмова НАН України)
Надруковано в Україні.
Фотокопіювання дозволено
тільки відповідно до ліцензії
170 С. М. ГУБАРЄВ, А. М. ДОБРОВОЛЬСЬКИЙ, А. М. ЄВСЮКОВ та ін.
планарной ориентации ЖК на поверхностях, обработанных ионными или
газовыми пучками.
Ключові слова: рідкий кристал, орієнтація рідкого кристала, плазмове
оброблення, нанорельєф, атомово-силова мікроскопія.
(Отримано 20 грудня 2007 р.)
1. ВСТУП
Перехід до наномасштабів, який окреслює один із найголовніших
напрямків сучасної науки, дозволяє проявити нові властивості добре
знаних матеріялів. Нанорозмірні зерна, стрижні, трубки та ін. – все
це приклади наноформ, що відкривають нові, неможливі на макро-
рівні, властивості. Не менш цікаві властивості можуть демонструва-
ти й ансамблі наноутворень завдяки впливу на загальну картину
ступеня їх упорядкування. Наноструктура поверхні також може
суттєво впливати на її фізико-хемічні властивості. Зокрема, форму-
вання нанопризм на приймальній поверхні фотоперетворюючих
елементів дозволяє суттєво збільшити їх коефіцієнт корисної дії [1].
Однією з метод наноструктурування поверхні є її оброблення
пришвидшеними частинками, зокрема, потоками йонів чи плазми.
На відміну від йонних потоків, плазмові не заряджають ціль і до-
зволяють ефективно уникати проблем утворення поверхневого за-
ряду. Питання дії плазми на поверхню досліджують не одне деся-
тиліття. Однак, поява нових засобів вивчення стану поверхні до-
зволяє подивитись на цю проблему під новим кутом. Так, можливо-
сті сучасних сканівних зондових мікроскопів давати результат із
роздільчою здатністю до 1 нм та менше дозволяють у молекулярно-
му масштабі відстежити зміни рельєфу поверхні. Дослідженню
процесів формування нанорельєфу поверхонь при ізотропному пла-
змовому обробленні присвячено багато робіт, наприклад, [2—6].
В даній роботі розглядається зміна нанорельєфу органічної пове-
рхні при анізотропному плазмовому обробленні, що досягається
шляхом похилого опромінення поверхні напрямленим жмутом
прискореної плазми. Також вивчається кореляція між параметра-
ми нанорельєфу та орієнтацією рідких кристалів (РК) на таких по-
верхнях. Це дає змогу краще зрозуміти механізми орієнтації рід-
ких кристалів при так званій методі йонно-жмутової [6] чи плазмо-
во-жмутової [7, 8] орієнтації. Нещодавно ця метода викликала ве-
ликий практичний інтерес як альтернатива методі натирання оріє-
нтуючих поверхонь, що має багато обмежень. Ця метода забезпечує
прекрасну однорідність РК-орієнтації (як на макро-, так і на мікро-
рівні), сильне зчеплення та можливість просторового модулювання
параметрів орієнтації. В роботі [7] на прикладі скляних підкладок
ми прослідкували певну кореляцію між анізотропією нанорельєфу
НАНОРЕЛЬЄФ ПОЛІІМІДНИХ ПЛІВОК, ОБРОБЛЕНИХ ПЛАЗМОВИМ ЖМУТОМ171
поверхонь та орієнтацією рідкого кристала. В той же час залишало-
ся нез’ясованим, наскільки добре корелюють ці параметри при різ-
них дозах опромінення та наскільки добре виконуються емпірично
встановлені правила для різних матеріялів підкладок. В даній ро-
боті показано, що спостережена раніше кореляція між нанорельє-
фом поверхні неорганічного матеріялу та орієнтацією РК просте-
жується також для органічних матеріялів. Більше того, ці параме-
три корелюють при різних дозах опромінення, що вказує на визна-
чальну роль нанорельєфу в реалізації деяких переходів зчеплення
та проміжних станів орієнтації РК.
2. МАТЕРІЯЛИ І МЕТОДИ
Оброблення зразків виконувалась за допомогою джерела із анодним
шаром, що детально описаний нами в [7, 8]. Джерело розміщувалося
у вакуумній камері. Його кріплення забезпечувало можливість обер-
тання джерела, а отже, вибору кута падіння плазмового жмута на
поверхню. Залишковий тиск у камері складав 2⋅10−5
мм рт.ст. Робо-
чим газом був арґон. Його тиск при опроміненні складав 4⋅10−4
мм
рт.ст. Це при анодному потенціялі 600 В забезпечувало густину йон-
ного струму 8—10 мкА/см2.
Схема опромінення зображена на рис. 1. Плазмовий потік скеро-
вувався під кутом 70° до нормалі зразка. Під час опромінення зраз-
ки рухалися під плазмовим потоком у зворотньо-поступальному
напрямку зі швидкістю ∼ 2 мм/сек. Режим сканування забезпечу-
вав декілька разове проходження під плазмовим потоком кожної
ділянки зразка. Завдяки цьому зразки оброблялися рівномірно.
Зразки складалися зі скляної пластинки та нанесеного на неї з од-
ного боку тонкого шару полііміду. Поліімід (комерційна назва
AL3046, JSR, Japan), розведений у співвідношенні 1:1 в DMF (диме-
1
2
3 4 5
Рис. 1. Схема опромінення зразків: 1 – джерело плазми; 2 – напрямок
руху зразка; 3 – плазмовий потік; 4 – зразок; 5 – тримач зразків.
172 С. М. ГУБАРЄВ, А. М. ДОБРОВОЛЬСЬКИЙ, А. М. ЄВСЮКОВ та ін.
тилформамід), було нанесено на порізане (13×25 мм) та очищене пре-
дметне скло фірми VWR International (25×75мм, товщина 1 мм). Ро-
зчин нанесено за допомогою центрифуґи (швидкість обертання 3000
об/хв., тривалість 20—30 сек). Відразу після цього проводили вису-
шування (80—90°С, 5—10 хв.) на нагрівному столику ‘Corning’ та від-
пал (220—230°С, 90 хв.) в сушильній шафі ‘Termolab’. Зразки вигото-
влялися партіями. З кожної партії один зразок відбирався для дослі-
дження нанорельєфу шару до оброблення плазмою.
Після оброблення плазмовим потоком з кожної серії закладених
1 2 3
à
á
â
ã
Рис. 2. Тривимірна реконструкція стану поверхні полііміду на основі да-
них сканівного мікроскопа (стовпчик 1) та 2D швидкий Фур’є-перетвір
для неї (стовпчик 2). У стовпчику 3 – фото асиметричних РК-комірок, що
демонструють орієнтацію рідкого кристала відповідними плівками. В ко-
мірках проєкція напрямку опромінення (верхнє підложжя) та натирання
(нижнє підложжя) антипаралельні. Комірки мають товщину 20 мкм та
заправлені РК ZLI-2293 (Мерк). Час плазмового опромінення у випадках
а, б, в і г становить відповідно 0, 2, 10 і 20 хв.
НАНОРЕЛЬЄФ ПОЛІІМІДНИХ ПЛІВОК, ОБРОБЛЕНИХ ПЛАЗМОВИМ ЖМУТОМ173
зразків відбирали 3 підложжя для тестування РК-орієнтації. Інші
зразки міряли на серійному сканівному зондовому мікроскопі
NanoScope IIIa (виробництва фірми Digital Instruments) в режимі
періодичного контакту з кремнійовим зондом. В усіх випадках ана-
лізувалися фраґменти поверхні розміром 1×1 мкм. Сканування по-
верхонь завжди виконувалося в напрямку паралельному проєкції
осі плазмового жмута на площину зразка.
Для тесту РК-орієнтації виготовлялися симетричні (обидві під-
кладки оброблені плазмовим жмутом) та асиметричні (комбінація
підкладок – опроміненої плазмою та натертої) РК-комірки. Промі-
жок між підкладками задавали за допомогою спейсерів розміром 20
мкм. Комірки заправлялися нематичним РК ZLI-2293 фірми Мерк за
кімнатної температури за рахунок капілярних сил. Якість та тип
орієнтації РК перевірялися в схрещених поляризаторах та за допо-
могою поляризаційного мікроскопу.
3. РЕЗУЛЬТАТИ ТА ЇХ ОБГОВОРЕННЯ
З метою з’ясування зв’язку між нанорельєфом поверхні та орієнта-
цією рідкого кристалу було виконано ряд опромінень з різним ча-
сом експозиції (від 0,5 до 30 хв.) та максимальним збереженням
інших параметрів процесу без змін. Підложжя кожної серії (кож-
ного часу опромінення) використовувалися як для дослідження на-
норельєфу, так і для дослідження особливостей РК-орієнтації.
На рисунку 2 представлено тривимірні реконструкції рельєфу
поверхні (колонка 1), швидкі Фур’є-перетвори (FFT) даних міряння
(колонка 2) та фото комірок, що демонструють тип і якість РК-
орієнтації при різних дозах опромінення (колонка 3).
Порівнюючи тривимірні зображення, можна бачити, що нерів-
ність (шорсткість) поверхні зростає з часом опромінення. Цей висно-
вок підтверджують прямі розрахунки шорсткости проведені за до-
помогою оброблення мікроскопічних даних відповідним модулем
програми Gwyddion 2.8. Нами визначалося середнє значення шорст-
кости в напрямку проєкції жмута на площину підложжя (R⎢⎢) та у
напрямку перпендикулярному до площини падіння (R⊥) (див. рис. 3,
а). Відповідні значення шорсткости для різних доз опромінення
представлено на рис. 4. Можна бачити, що обидва параметри шорст-
кости зростають зі збільшенням часу опромінення. В той же час змі-
нюється співвідношення між R⎢⎢ та R⊥: якщо до часу опромінення
меншого 10 хв. R⎢⎢ < R⊥, то при більших часах нерівність змінюється
на протилежну. Іншими словами, якщо до t = 10 хв. поверхня рівні-
ша в напрямку проєкції жмута на підкладку, то при більшому часові
вона стає рівнішою у напрямку перпендикулярному до площини па-
діння жмута. Це добре узгоджується із результатами Фур’є-перетво-
рів (колонка 2). Останні вказують на ще один цікавий факт: при ча-
174 С. М. ГУБАРЄВ, А. М. ДОБРОВОЛЬСЬКИЙ, А. М. ЄВСЮКОВ та ін.
сах 10—15 хв. існує деякий проміжний стан між станами R⎢⎢ < R⊥ та
R⎢⎢ > R⊥, коли шорсткість у переважній більшости просканованих
місць стає майже ізотропною (R⎢⎢ ≈ R⊥).
Зіставимо тепер поведінку шорсткости та РК-орієнтації при зміні
дози опромінення. На неопромінених плівках однорідної орієнтації
РК не спостерігається (деяка орієнтація в напрямку заливання РК в
комірку визначається напрямком потоку). При невеликих дозах
αα
R⊥⊥
R ⎢⎢⎢⎢
а
αα
L2
L1
б
Рис. 3. Схеми, що вказують напрямок міряння коефіцієнтів шорсткости
(а) та напрямок РК-орієнтації (б).
Рис. 4. Діяграма значень шорсткости при різних дозах опромінення.
НАНОРЕЛЬЄФ ПОЛІІМІДНИХ ПЛІВОК, ОБРОБЛЕНИХ ПЛАЗМОВИМ ЖМУТОМ175
опромінення (до 10 хв.) спостерігається орієнтація в площині па-
діння плазмового жмута з невеликим кутом переднахилу (легка
вісь L1 на рис. 3, б). Такий тип орієнтації ми називаємо першою орі-
єнтаційною модою. При дозах більших за 15 хв. спостерігається
планарна орієнтація з легкою віссю L2, перпендикулярною площині
падіння жмута плазми (рис. 3, б). При цьому кут переднахилу рів-
ний нулю. Другий тип орієнтації ми називаємо другою орієнтацій-
ною модою. При проміжному часові 10—15 хв. орієнтація РК муль-
тидоменна: поряд із орієнтацією в 1 та 2 моді спостерігаються доме-
ни з орієнтацією під кутом ±45° до напрямку опромінення. Порів-
няння колонок 1, 2 та 3 рис. 2 засвідчує, що існує чітка кореляція
між анізотропією шорсткости та напрямком РК-орієнтації: рідкий
кристал орієнтується у напрямку з меншою шорсткістю. Теоретич-
но такий результат пояснюється мінімізацією вільної енергії РК у
більш гладкому напрямку [9]. Це підтверджується багатьма спо-
стереженнями РК-орієнтації на поверхнях з анізотропією рельєфу
[10—14]. Кореляція між рельєфом та РК-орієнтацією спостерігаєть-
ся і при проміжних дозах опромінення: проміжний по анізотропії
шорсткості стан поверхні добре узгоджується з існуванням промі-
жної мультидоменної орієнтації (рис. 2, в). Ці результати вказують
на те, що анізотропія рельєфу є важливим, якщо не вирішальним,
фактором РК-орієнтації на поверхнях оброблених плазмовим жму-
том.
4. ВИСНОВКИ
Оброблення поверхні полііміду плазмовим потоком викликає зрос-
тання її шорсткости у нанометровому діяпазоні висот рельєфу. При
цьому виникають різні зміни в напрямку проєкції жмута на повер-
хню та у перпендикулярному напрямку. При різних дозах опромі-
нення простежується чітка кореляція між анізотропією шорсткос-
ти та напрямком РК-орієнтації. При цьому виконується правило,
теоретично встановлене Береманом [9]: РК орієнтується у напрямку
з меншою шорсткістю. Це вказує на визначальну роль топологічно-
го фактору в планарній орієнтації РК на поверхнях, оброблених
йонними та плазмовими жмутами. Міжфазова взаємодія на межі
РК—підложжя, безумовно, модифікує роль рельєфу, що проявля-
ється у полярних переходах зчеплення та відмінності в орієнтації
РК-сумішей з позитивною та неґативною діелектричною анізотро-
пією [8].
ПОДЯКИ
Автори висловлюють вдячність працівникам Центру колективного
176 С. М. ГУБАРЄВ, А. М. ДОБРОВОЛЬСЬКИЙ, А. М. ЄВСЮКОВ та ін.
користування приладами НАНУ «Діагностика напівпровідникових
матеріалів, структур та прикладних систем» при Інституті фізики
напівпровідників ім. В. Є. Лашкарьова НАН України О. Литвин та
П. Литвину за допомогу в мікроскопічних дослідженнях підкладок.
Робота була підтримана цільовим проєктом НАНУ 10/07-Н.
ЦИТОВАНА ЛІТЕРАТУРА
1. B. K. Nayak et al., Nanotechnology, 18: 195302 (2007).
2. N. Inagaki, S. Tasaka, J. Ohkudo, and H. Kawai, Plasma Polymerization and
Plasma Interactions with Polymeric Materials (Ed. H. K. Yasuda) (New York:
John Wiley&Sons: 1990), p. 399.
3. A. Holländer, J. Behnisch, and M. R. Wertheimer, R. d’Agostino et al., Plasma
Processing of Polymers (Amsterdam: Kluwer: 1997), p. 411.
4. A. Holländer, J. E. Klemberg-Saphieha, and M. R. Wertheimer, J. Polym. Sci.
Part A, 33: 2013 (1995).
5. O. D. Greenwood, J. Hopkins, and J. P. S. Badyal, Macromolecules, 30: 1091
(1997).
6. P. Chaudhari et al., Nature, 411: 56 (2001).
7. O. Yaroshchuk, R. Kravchuk, A. Dobrovolskyy, L. Qiu, and O. D. Lavrentovich,
Liq. Cryst., 31, No. 6: 859 (2004).
8. O. Yaroshchuk, R. Kravchuk, A. Dobrovolskyy, P. C. Liu, and C. D. Lee, J. of
the SID, 13/4: 289 (2005).
9. D. Berreman, Phys. Rev. Lett., 28: 1683 (1972).
10. M. Nakamura and M. Ura, J. Appl. Phys., 52, No. 1: 210 (1981).
11. Y. Shi, B. Cull, and S. Kumar, Phys. Rev. Lett., 71, No. 17: 2773 (1993).
12. C. J. Newsome, M. O’Neill, and J. Farbey, Appl. Phys. Lett., 72, No. 17: 2078
(1998).
13. M. H. Kim, J. D. Kim, T. Fukuda, and H. Matsuda, Liq. Cryst., 27, No. 12: 1633
(2000).
14. D. Dantsker, J. Kumar, and S. K. Tripathy, J. Appl. Phys., 89, No. 8: 4318 (2001).
|
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-76395 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1816-5230 |
| language | Ukrainian |
| last_indexed | 2025-12-07T17:05:40Z |
| publishDate | 2009 |
| publisher | Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Губарєв, С.М. Добровольський, А.М. Євсюков, А.М. Кравчук, Р.М. Проценко, І.М. Ярощук, О.В. 2015-02-10T10:59:13Z 2015-02-10T10:59:13Z 2009 Нанорельєф поверхонь поліімідних плівок,
 похило оброблених плазмовим жмутом / С.М. Губарєв, А.М. Добровольський, А.М. Євсюков, Р.М. Кравчук,
 І.М. Проценко, О.В. Ярощук // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2009. — Т. 7, № 1. — С. 169-176. — Бібліогр.: 14 назв. — укр. 1816-5230 PACS numbers: 61.30.Hn,68.35.Ct,68.37.Ps,68.47.Pe,79.20.Rf,81.16.Rf,81.65.Cf https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76395 Досліджено зв’язок між нанорельєфом поліімідних поверхонь, похило
 оброблених жмутом прискореної плазми, й орієнтацією рідких кристалів
 (РК) на таких поверхнях. Показано, що плазмове оброблення поверхні
 призводить до зміни її шорсткости у нанометровому діяпазоні висот рельєфу. При цьому шорсткості у напрямку проєкції плазмового жмута на поверхню й у перпендикулярному напрямку відрізняються. Простежується
 чітка кореляція між анізотропією шорсткости і напрямком РК-орієнтації. Це вказує на важливу, можливо, головну, роль топологічного фактора
 в планарній орієнтації РК на поверхнях оброблених йонними і плазмовими жмутами. The relationship between the nanorelief of polyimide surfaces obliquely
 treated by the beam of accelerated plasma and the alignment of LC on these
 surfaces is investigated. As shown, the plasma treatment of the surface results
 in a change of its roughness in nanometre scale. The roughness in the
 direction of plasma-beam projection on the surface is different from that in
 the perpendicular direction. Clear correlation between the anisotropy of surface
 roughness and the direction of LC alignment is observed. This implies
 the important, possibly crucial, role of the topology factor in planar alignment
 of LC on the surfaces obliquely treated by plasma/ion beams. Исследована связь между нанорельефом полиимидных поверхностей, наклонно обработанных пучком ускоренной плазмы, и ориентацией жидких кристаллов (ЖК) на таких поверхностях. Показано, что плазменная
 обработка поверхности приводит к изменению ее шероховатости в нанометровом диапазоне высот рельефа. При этом шероховатость в направлении проекции плазменного пучка на поверхность и в перпендикулярном
 направлении различаются. Прослеживается четкая корреляция между
 анизотропией шероховатости и направлением ЖК-ориентации. Это указывает на важную, возможно, главную, роль топологического фактора впланарной ориентации ЖК на поверхностях, обработанных ионными или
 газовыми пучками. Автори висловлюють вдячність працівникам Центру колективного користування приладами НАНУ «Діагностика напівпровідникових
 матеріалів, структур та прикладних систем» при Інституті фізики
 напівпровідників ім. В. Є. Лашкарьова НАН України О. Литвин та
 П. Литвину за допомогу в мікроскопічних дослідженнях підкладок.
 Робота була підтримана цільовим проєктом НАНУ 10/07-Н. uk Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології Нанорельєф поверхонь поліімідних плівок, похило оброблених плазмовим жмутом Nanorelief of Surfaces of Polyimide Films Obliquely Treated by Plasma Beam Article published earlier |
| spellingShingle | Нанорельєф поверхонь поліімідних плівок, похило оброблених плазмовим жмутом Губарєв, С.М. Добровольський, А.М. Євсюков, А.М. Кравчук, Р.М. Проценко, І.М. Ярощук, О.В. |
| title | Нанорельєф поверхонь поліімідних плівок, похило оброблених плазмовим жмутом |
| title_alt | Nanorelief of Surfaces of Polyimide Films Obliquely Treated by Plasma Beam |
| title_full | Нанорельєф поверхонь поліімідних плівок, похило оброблених плазмовим жмутом |
| title_fullStr | Нанорельєф поверхонь поліімідних плівок, похило оброблених плазмовим жмутом |
| title_full_unstemmed | Нанорельєф поверхонь поліімідних плівок, похило оброблених плазмовим жмутом |
| title_short | Нанорельєф поверхонь поліімідних плівок, похило оброблених плазмовим жмутом |
| title_sort | нанорельєф поверхонь поліімідних плівок, похило оброблених плазмовим жмутом |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76395 |
| work_keys_str_mv | AT gubarêvsm nanorelʹêfpoverhonʹpolíímídnihplívokpohiloobroblenihplazmovimžmutom AT dobrovolʹsʹkiiam nanorelʹêfpoverhonʹpolíímídnihplívokpohiloobroblenihplazmovimžmutom AT êvsûkovam nanorelʹêfpoverhonʹpolíímídnihplívokpohiloobroblenihplazmovimžmutom AT kravčukrm nanorelʹêfpoverhonʹpolíímídnihplívokpohiloobroblenihplazmovimžmutom AT procenkoím nanorelʹêfpoverhonʹpolíímídnihplívokpohiloobroblenihplazmovimžmutom AT âroŝukov nanorelʹêfpoverhonʹpolíímídnihplívokpohiloobroblenihplazmovimžmutom AT gubarêvsm nanoreliefofsurfacesofpolyimidefilmsobliquelytreatedbyplasmabeam AT dobrovolʹsʹkiiam nanoreliefofsurfacesofpolyimidefilmsobliquelytreatedbyplasmabeam AT êvsûkovam nanoreliefofsurfacesofpolyimidefilmsobliquelytreatedbyplasmabeam AT kravčukrm nanoreliefofsurfacesofpolyimidefilmsobliquelytreatedbyplasmabeam AT procenkoím nanoreliefofsurfacesofpolyimidefilmsobliquelytreatedbyplasmabeam AT âroŝukov nanoreliefofsurfacesofpolyimidefilmsobliquelytreatedbyplasmabeam |