Нанорельєф поверхонь поліімідних плівок, похило оброблених плазмовим жмутом - Губарєв, С.М.; Добровольський, А.М.; Євсюков, А.М.; Кравчук, Р.М.; Проценко, І.М.; Ярощук, О.В. (Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології, 2009)
Досліджено зв’язок між нанорельєфом поліімідних поверхонь, похило
оброблених жмутом прискореної плазми, й орієнтацією рідких кристалів
(РК) на таких поверхнях. Показано, що плазмове оброблення поверхні
призводить до зміни її шорсткости у нанометровому діяпазоні висот рельєфу. При цьому шорсткості у напрямку проєкції плазмового жмута на поверхню й у перпендикулярному напрямку відрізняються. Простежується
чітка кореляція між анізотропією шорсткости і напрямком РК-орієнтації. Це вказує на важливу, можливо, головну, роль топологічного фактора
в планарній орієнтації РК на поверхнях оброблених йонними і плазмовими жмутами. The relationship between the nanorelief of polyimide surfaces obliquely
treated by the beam of accelerated plasma and the alignment of LC on these
surfaces is investigated. As shown, the plasma treatment of the surface results
in a change of its roughness in nanometre scale. The roughness in the
direction of plasma-beam projection on the surface is different from that in
the perpendicular direction. Clear correlation between the anisotropy of surface
roughness and the direction of LC alignment is observed. This implies
the important, possibly crucial, role of the topology factor in planar alignment
of LC on the surfaces obliquely treated by plasma/ion beams. Исследована связь между нанорельефом полиимидных поверхностей, наклонно обработанных пучком ускоренной плазмы, и ориентацией жидких кристаллов (ЖК) на таких поверхностях. Показано, что плазменная
обработка поверхности приводит к изменению ее шероховатости в нанометровом диапазоне высот рельефа. При этом шероховатость в направлении проекции плазменного пучка на поверхность и в перпендикулярном
направлении различаются. Прослеживается четкая корреляция между
анизотропией шероховатости и направлением ЖК-ориентации. Это указывает на важную, возможно, главную, роль топологического фактора впланарной ориентации ЖК на поверхностях, обработанных ионными или
газовыми пучками.