Подготовка поверхности подложек перед нанесением вакуумно-дуговых покрытий бомбардировкой ионами титана и циркония
Рассмотрены вопросы, связанные с очисткой поверхности подложки путём бомбардировки ионами титана и циркония вакуумно-дуговым методом. Показано, что очистку подложек перед нанесением вакуумно-дуговых покрытий необходимо проводить в высоком вакууме (давление не более 0,004 Па) при отрицательном потенц...
Saved in:
| Published in: | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Date: | 2011 |
| Main Authors: | , , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2011
|
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76410 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Подготовка поверхности подложек перед нанесением вакуумно-дуговых покрытий бомбардировкой ионами титана и циркония / В.А. Столбовой, С.С. Фурсов, И.С. Зуйко // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 2. — С. 164–169. — Бібліогр.: 5 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1860244872791851008 |
|---|---|
| author | Столбовой, В.А. Фурсов, С.С. Зуйко, И.С. |
| author_facet | Столбовой, В.А. Фурсов, С.С. Зуйко, И.С. |
| citation_txt | Подготовка поверхности подложек перед нанесением вакуумно-дуговых покрытий бомбардировкой ионами титана и циркония / В.А. Столбовой, С.С. Фурсов, И.С. Зуйко // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 2. — С. 164–169. — Бібліогр.: 5 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Физическая инженерия поверхности |
| description | Рассмотрены вопросы, связанные с очисткой поверхности подложки путём бомбардировки ионами титана и циркония вакуумно-дуговым методом. Показано, что очистку подложек перед нанесением вакуумно-дуговых покрытий необходимо проводить в высоком вакууме (давление не более 0,004 Па) при отрицательном потенциале не менее 900 В. Показано, что очистка поверхности подложки ионами хрома более эффективна, чем ионами титана или циркония.
Розглянуто питання, пов’язані з очищенням поверхні підкладки шляхом бомбардування іонами титану й цирконію вакуумно-дуговим методом. Показано, що очищення підкладки перед нанесенням вакуумно-дугових покриттів необхідно проводити у високому вакуумі (тиск не більше 0,004 Па) при негативному потенціалі не менш 900 В. Показано, що очищення поверхні підкладки іонами хрому більше ефективна, чим іонами титану або цирконію.
The problems associated with cleaning the surface of the substrate by bombardment of ion titanium and zirconium a vacuum-arc method investigation. Shown that treatment of substrates before application of vacuum arc coatings should be carried out in high vacuum (pressure less than 0.004 Pa) at a negative potential of 900 V. It is shown that cleaning the substrate surface with chromium ions is more effective than titanium or zirconium ions.
|
| first_indexed | 2025-12-07T18:35:05Z |
| format | Article |
| fulltext |
164
ВВЕДЕНИЕ
Известно, что окончательной стадией очист-
ки подложек перед нанесением вакуумных
покрытий является бомбардировка ионами
инертных газов (обычно, аргона) или метал-
лов. Очистка бомбардировкой ионами аргона
менее эффективна, чем ионами металла. На-
пример, после очистки стальной подложки
бомбардировкой ионами аргона в тлеющем
разряде при потенциале подложки 1200 В,
критическая нагрузка осаждённого затем по-
крытия TiAlN, характеризующая адгезию, cо-
ставила (27 ± 3) Н, в то время как после бом-
бардировки ионами хрома в дуговом разряде
при том же потенциале подложки этот па-
раметр увеличился до (63 ± 2) Н [1].
Вакуумно-дуговой метод характеризуется
наличием потоков высоко-ионизированной
плазмы испаряемого материала [2]. При пода-
че на подложку высокого отрицательного по-
тенциала происходит очистка и активация
(путём распыления) её поверхности ионами
испаряемого материала, а также диффузия
атомов покрытия в подложку. При последую-
щем нанесении покрытия наблюдается вза-
имная диффузия атомов материала подложки
в покрытие, и наоборот, а на границе обра-
зуется диффузионный слой толщиной до 1,5
÷ 2,5 мкм. Это обеспечивает адгезию по-
крытий к подложке значительно более высо-
кую, чем при других PVD-методах нанесения.
Обычно подготовку подложки к нанесе-
нию покрытия (очистку распылением, нагрев
и активацию поверхности) производят иона-
ми металла, на основе которого осаждается
покрытие. Наиболее широко используются в
промышленности износостойкие покрытия
на основе соединений титана и циркония,
поскольку это одни из самых износостойких,
и относительно дешевых металлов.
При вакуумно-дуговой бомбардировке
ионами титана при давлении остаточных га-
зов порядка 1⋅10–3 Па “равновесный” потен-
циал (т.е. потенциал подложки, при котором
УДК 621.793.7
ПОДГОТОВКА ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖЕК ПЕРЕД НАНЕСЕНИЕМ
ВАКУУМНО-ДУГОВЫХ ПОКРЫТИЙ БОМБАРДИРОВКОЙ ИОНАМИ
ТИТАНА И ЦИРКОНИЯ
В.А. Столбовой1, С.С. Фурсов1, И.С. Зуйко2
1Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
2Харьковский национальный университет им. В.Н. Каразина
Поступила в редакцию 18.06.2011
Рассмотрены вопросы, связанные с очисткой поверхности подложки путём бомбардировки
ионами титана и циркония вакуумно-дуговым методом. Показано, что очистку подложек перед
нанесением вакуумно-дуговых покрытий необходимо проводить в высоком вакууме (давление
не более 0,004 Па) при отрицательном потенциале не менее 900 В. Показано, что очистка
поверхности подложки ионами хрома более эффективна, чем ионами титана или циркония.
Ключевые слова: Вакуумная дуга, ионы, титан, цирконий, распыление, осаждение.
Розглянуто питання, пов’язані з очищенням поверхні підкладки шляхом бомбардування іонами
титану й цирконію вакуумно-дуговим методом. Показано, що очищення підкладки перед
нанесенням вакуумно-дугових покриттів необхідно проводити у високому вакуумі (тиск не
більше 0,004 Па) при негативному потенціалі не менш 900 В. Показано, що очищення поверхні
підкладки іонами хрому більше ефективна, чим іонами титану або цирконію.
Ключові слова: вакуумна дуга, іони, титан, цирконій, розпилення, осадження.
The problems associated with cleaning the surface of the substrate by bombardment of ion titanium
and zirconium a vacuum-arc method investigation. Shown that treatment of substrates before
application of vacuum arc coatings should be carried out in high vacuum (pressure less than 0.004
Pa) at a negative potential of 900 V. It is shown that cleaning the substrate surface with chromium
ions is more effective than titanium or zirconium ions.
Keywords: vacuum arc, ions, titanium, sputtering, deposition.
В.А. Столбовой, С.С. Фурсов, И.С. Зуйко, 2011
165ФІП ФИП PSE, 2011, т. 9, № 2, vol. 9, No. 2
скорости распыления и осаждения равны)
составляет около 700 В [3]. Для качественной
очистки необходимо, чтобы скорость распы-
ления в высоком вакууме превышала ско-
рость осаждения. Однако на практике в нача-
ле очистки давление 1⋅10–3 Па достигается не
всегда. Более того, в начальной стадии очист-
ки из-за газовыделений из внутренних элеме-
нтов вакуумной камеры давление остаточ-
ных газов нередко увеличивается до 3⋅10–2 Па,
что приводит к увеличению “равновесного”
потенциала. Поэтому представляет интерес
выяснение условий очистки подложки при
увеличенном давлении азота при бомбарди-
ровке ионами титана. Аналогичные исследо-
вания также важно провести при очистке под-
ложки ионами циркония. Целью данной ра-
боты является выяснение влияния величины
потенциала подложки и давления азота в ва-
куумной камере на процессы распыления
подложки при бомбардировке ионами титана
и циркония вакуумно-дуговым способом.
МАТЕРИАЛЫ И УСЛОВИЯ
ЭКСПЕРИМЕНТОВ
Эксперименты проводились с использовани-
ем вакуумно-дуговой установки “Булат-6”.
Испаряемые материалы – молибден марки
МЧВП и хром марки ВХ-2К. Подложки диа-
метром 18 мм и толщиной 3 мм изготовлены
из нержавеющей стали 12Х18Н10Т. После
полирования и промывания в ультразвуковой
ванне щелочным раствором и протирки бя-
зью, смоченной нефрасом 80/20 С2 их взве-
шивали на аналитических весах ВЛР-200. На
этих же весах их взвешивали после проведе-
ния экспериментов.
Расстояние от испарителя до подложки
250 мм. Ток дуги в испарителях составлял
100 А, давление в камере изменяли в пре-
делах от 0,004 Па до 0,66 Па· путём напуска
азота. При проведении экспериментов на
подложку подавали отрицательный потен-
циал в диапазоне 50 ÷ 1300В. Время бомбар-
дировки во всех экспериментах составляло
10 мин. Температура подложки, измеряемая
термопарой хромель-алюмель, составляла
450 ÷ 550 °С.
Морфология поверхности и характер рас-
пределения частиц капельной фазы исследо-
вались на растровом электронном микроско-
пе JEOL JSM-840.
РЕЗУЛЬТАТЫ ЭКСПЕРИМЕНТОВ И
ИХ ОБСУЖДЕНИЕ
На рис. 1 представлены результаты измене-
ния толщины подложки в случаях осаждения
покрытия (+∆h) и при распылении подложки
(–∆h) после бомбардировки ионами молиб-
дена. Они были определены путём взвеши-
вания. В случае положительных значений ∆h
при расчёте принимали удельный вес нитри-
да титана или циркония, при отрицательных
значениях “h учитывали удельный вес нержа-
веющей стали.
РЕЗУЛЬТАТЫ ЭКСПЕРИМЕНТОВ И
ИХ ОБСУЖДЕНИЕ
В табл. 1 представлены результаты изменений
толщины подложки в случаях осаждения
покрытия (+∆h) и при распылении подложки
(–∆h) после бомбардировки ионами титана.
Они были определены путём взвешивания.
В случае положительных значений ∆h при
расчёте принимали удельный вес титана или
нитрида титана, при отрицательных значе-
ниях ∆h принимался удельный вес нержаве-
ющей стали.
Необходимо отметить, что при потенциа-
лах –900 и –1300 В температура подложек
возрастала до 550 и 600 °С соответственно.
Для наглядности эти данные представлены
в виде кривых (рис. 1).
Как видно из результатов исследований в
высоком вакууме при потенциалах подложки
в диапазоне –50 ÷ –300 В происходит осаж-
дение титанового покрытия, толщина кото-
Рис.1. Зависимость изменений толщины подложки от
её потенциала. • – р = 0,004 Па, > – р = 0,0665 Па,
• – р = 0,4 Па.
В.А. СТОЛБОВОЙ, С.С. ФУРСОВ, И.С. ЗУЙКО
166
рого уменьшается по мере увеличения потен-
циала вследствие распыления. При потен-
циале –600 В наступает равновесие между
процессами распыления и осаждения, а при
дальнейшем увеличении потенциала прева-
лирует распыление.
Твёрдость подложек перед ионной обра-
боткой составляла около 0,160 ГПа.
Увеличение твёрдости после распыления
сви-детельствует о том, что присутствии на
её поверхности тонкого слоя соединений ти-
тана с металлами, содержащимися в нержа-
веющей стали, и диффузии титана в поверх-
ностный слой подложки [4]. Отрицательное
значение ∆h может свидетельствовать о том,
что имеет место очистка поверхности под-
ложки от различных загрязнений. Уменьше-
ние твёрдости подложки при потенциалах
–900 и –1300 В может быть следствием двух
конкурирующих факторов: увеличения тем-
пературы и, как следствие, протекания фазо-
вых превращений в стали, снижающие твёр-
дость, и присутствием атомов титана, способ-
ствующих её увеличению.
В случаях присутствия азота в вакуумной
камере равновесие между осаждением и рас-
пылением наступает при потенциале –900 В
при давлении 0,0665 Па, при этом подложка
имеет бледно-жёлтый цвет, свидетельству-
ющий о наличии нитрида титана. При дав-
лении 0,4 Па на подложке образуется покры-
тие жёлтого цвета, характерного для нитрида
титана.
Морфология поверхности подложек, под-
вергнутых ионной бомбардировкой в высо-
ком вакууме при потенциалах –600 и –1300 В
представлена рис. 2 и 3.
На рис. 2 видны следы травления, при этом
нет изменения толщины подложки. Имеется
значительное количество капель с размерами
от 4 мкм и меньше. Большинство их имеет
сферическую форму. Плотность расположе-
ния капель увеличивается по мере уменьше-
ния их размеров.
Явные следы интенсивного травления вид-
ны на рис. 3. Форма капель отличается от сфе-
рической. Более крупные капли имеют не-
правильную плоскую форму. Видно, что кап-
ли были нагреты до высоких температур, час-
тично распылены.
Присутствие покрытий видно на рис. 4 и
5, несмотря на распыление подложки, пред-
ставленной на рис. 4.
–Uп, B Р, Па ∆h, мкм Н50, ГПа
50 0,004 +0,3 0,3
100 0,004 +0,39 0,313
300 0,004 +0,17 0,313
600 0,004 0 0,370
900 0,004 –0,5 0,286
1300 0,004 –1,1 0,236
900 0,0665 +0,075 0,435
1300 0,0665 –0,26 0,500
900 0,4 +0,49 0,345
1300 0,4 +0,23 0,286
Таблица 1
Изменение толщины подложки и её
микротвёрдость после бомбардировки
ионами титана при различных потенциалах
и давлениях азота
Рис. 2. Морфология поверхности подложки после бом-
бардировки ионами титана. Uп
= –600 В, р = 0,004 Па.
Рис. 3. Морфология поверхности подложки после бом-
бардировки ионами титана.Uп
= –1300 В, р = 0,004 Па.
(снято под углом 45°).
ПОДГОТОВКА ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖЕК ПЕРЕД НАНЕСЕНИЕМ ВАКУУМНО-ДУГОВЫХ ПОКРЫТИЙ БОМБАРДИРОВКОЙ ...
ФІП ФИП PSE, 2011, т. 9, № 2, vol. 9, No. 2
167ФІП ФИП PSE, 2011, т. 9, № 2, vol. 9, No. 2
Заметно, что плотность и размеры капель
снижаются по мере увеличения давления
азота
Обработка подложек бомбардировкой
ионами циркония показывает аналогичные
результаты.
В табл. 2 представлены результаты изме-
нений толщины подложки в случаях осажде-
ния покрытия (+∆h) и при распылении под-
ложки (–∆h) после бомбардировки ионами
циркония.
Также эти данные приведены в виде кри-
вых на рис. 6.
Заметно, что ход этих кривых подобен кр-
ивым, полученным при бомбардировке иона-
ми титана (рис. 1). Также имеется уменьше-
ние +∆h при потенциале –50 В, вызванное
шелушением покрытий, осаждённых на не
подготовленную ионной бомбардировкой
подложку. Наблюдается снижение ∆h с увели-
чением потенциала подложки. Равновесие
(∆h = 0) в высоком вакууме имеет место при
потенциале –500 В, а при р = 0,0665 Па оно
также наступает при –900 В.
Необходимо отметить, что в производст-
венных условиях, в особенности при боль-
ших загрузках изделий в вакуумной камере,
при достижении исходного высокого вакуума
в начальный момент ионной бомбардировки
давление резко повышается почти на поря-
док. Поэтому обычно требуется импульсная
обработка, чтобы во время пауз восстанавли-
Рис. 4. Морфология поверхности подложки после
бомбардировки ионами титана. Uп = –1300 В,
р = 0,0665 Па.
Рис. 5. Морфология поверхности подложки после бом-
бардировки ионами титана. Uп
= –1300 В, р = 0,4 Па.
Таблица 2
Изменение толщины подложки и её
микротвёрдость после бомбардировки
ионами циркония при различных
потенциалах и давлениях азота
–Uп, B Р, Па ∆h, мкм Н50, ГПа
50 0,004 +0,368 0,270
100 0,004 +0,645 0,210
300 0,004 +0,184 0,260
600 0,004 –0,08 0,230
900 0,004 –0,782 0,286
1300 0,004 –1,303 0,336
300 0,0665 +0,26 0,330
600 0,0665 +0,32 0,386
900 0,0665 +0,12 0,345
1300 0,0665 –0,72 0,190
600 0,4 +0,41 0,270
900 0,4 +0,645 0,320
1300 0,4 +0,322 0,370
Рис. 6. Зависимость величины изменений толщины
подложки от её потенциала. • – р = 0,004 Па,
> – р = 0,0665 Па, • – р = 0,4 Па.
В.А. СТОЛБОВОЙ, С.С. ФУРСОВ, И.С. ЗУЙКО
168
вался высокий вакуум. Однако в это время
частично осаждаются соединения испаряе-
мого металла с остаточными газами, для рас-
пыления которых требуется потенциал под-
ложки больший, чем значение равновесного,
определённого в условиях высокого вакуума.
Исходя из этих соображений, потенциал для
ионной очистки подложек при использова-
нии титана или циркония следует устанав-
ливать на уровне не менее –1000 В.
Морфология поверхности подложек ана-
логична подложкам, обработанным бомбар-
дировкой ионами титана.
Ниже представлен график зависимости из-
менений толщины подложки от её потенциа-
ла при бомбардировке ионами Cr, Mo, Zr, Ti
в высоком вакууме (р = 0,004 Па) (рис. 7).
Из рис. 7 видно, что наиболее эффектив-
ная вакуумно-дуговая очистка поверхности
подложки осуществляется ионами хрома. Не-
сколько хуже себя происходит очистка иона-
ми молибдена, а травление ионами титана и
циркония происходит не столь эффективно.
Поэтому для подготовки поверхности изде-
лий перед нанесением покрытий желательно
использовать бомбардировку ионами хрома.
При этом процесс нужно проводить в им-
пульсном режиме, чтобы за период паузы дав-
ление в вакуумной камере успевало восста-
навливаться.
ВЫВОДЫ
1. Для обеспечения высокой адгезии вакуум-
но-дуговых покрытий на основе титана
или циркония подготовку поверхности
подложки ионной бомбардировкой нане-
сением необходимо проводить в высоком
вакууме (давление не более 0,004 Па) и
при отрицательном потенциале не менее
–1000 В.
2. Для снижения температуры подложки
при очистке следует использовать молиб-
деновый либо хромовый катод. Это позво-
ляет снижать потенциал на подложке, что
в свою очередь приводит к меньшему
разогреву поверхности образцов, что осо-
бенно важно при последующем нанесе-
нии покрытий на изделия с низкой тем-
пературой отпуска.
ЛИТЕРАТУРА
1. Schonjahn S., Donohue L.A., Levis D.W.,
Munz W.-D., Twesten R.D., Petrov I. Enhanced
adhesion through local epitaxy of transition-me-
tal nitride coatings on ferritic steel promoted by
metal ion etching in a combined cathodic arc/
unbalanced magnetron deposition system//J. of
Vacuum Science Technology. – 2000. – Vol. A,
18(4). – P. 1718-1723.
2. Андреев А.А., Саблев Л.П., Григорьев С.Н.
Вакуумно-дуговые покрытия. ННЦ ХТИ,
2010. – 318 с.
3. Аксенов И.И., Андреев А.А., Брень В.Г., и др.
Покрытия, полученные конденсацией плаз-
менных потоков в вакууме (Способ конден-
сации с ионной бомбардировкой)//УФЖ. –
1979. – Т. 24, № 4. – С. 515-525.
4. Кунченко Ю.В., Картмазов Г.Н., Кунчен-
ко В.В., Неклюдов И.М. Влияние условий
вакуумно-дугового осаждения покрытий и
материала подложки на свойства переходного
слоя//Труды 16-й Межд. конф. по физике
радиационных явлений и радиационного
материаловедения. Алушта. – 2004. – С. 293.
5. Столбовой В.А. Вакуумно-дуговое распы-
ление поверхности подложки ионами хрома
и молибдена//Физическая инженерия повер-
хности. – 2009. – Т. 7, № 1-2. – С. 90-95.
LITERATURA
1. Schonjahn S., Donohue L.A., Levis D.W.,
Munz W.-D., Twesten R.D., Petrov I. Enhanced
adhesion through local epitaxy of transition-
metal nitride coatings on ferritic steel promoted
by metal ion etching in a combined cathodic arc/
unbalanced magnetron deposition system//J. of
Vacuum Science Technology. – 2000. – Vol. A,
18(4). – P. 1718-1723.
Рис. 7. Зависимость изменений толщины подложки
от её потенциала, при бомбардировки ионами раз-
личных металлов в высоком вакууме (р = 0,004 Па).
(• – хром; • – молибден[5] ); > – цирконий; ♦ – титан.
ПОДГОТОВКА ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖЕК ПЕРЕД НАНЕСЕНИЕМ ВАКУУМНО-ДУГОВЫХ ПОКРЫТИЙ БОМБАРДИРОВКОЙ ...
ФІП ФИП PSE, 2011, т. 9, № 2, vol. 9, No. 2
169ФІП ФИП PSE, 2011, т. 9, № 2, vol. 9, No. 2
2. Andreyev A.A., Sablev L.P., Grigoryev S.N. Va-
kuumno-dugovyye pokrytiya. NNTs KhTI, 2010.
– 318 s.
3. Aksenov I.I., Andreyev A.A., Bren V.G., i dr. Po-
krytiya, poluchennyye kondensatsiyey plazmen-
nykh potokov v vakuume (Sposob kondensatsii
s ionnoy bombardirovkoy)//UFZh. – 1979. –
T. 24, № 4. – S. 515-525.
4. Kunchenko Yu.V., Kartmazov G.N., Kunchen-
ko V.V., Neklyudov I.M. Vliyaniye usloviy vaku-
umnodugovogo osazhdeniya pokrytiy i mate-
riala podlozhki na svoystva perekhodnogo sloya
//Trudy 16-y Mezhd. konf. po fizike radiatsion-
nykh yavleniy i radiatsionnogo materialovede-
niya. Alushta. – 2004. – S. 293.
5. Stolbovoy V.A. Vakuumno-dugovoye raspyleniye
poverkhnosti podlozhki ionami khroma i molib-
dena//Fizicheskaya inzheneriya poverkhnosti. –
2009. – T. 7, № 1-2. – S. 90-95.
В.А. СТОЛБОВОЙ, С.С. ФУРСОВ, И.С. ЗУЙКО
|
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-76410 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1999-8074 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T18:35:05Z |
| publishDate | 2011 |
| publisher | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Столбовой, В.А. Фурсов, С.С. Зуйко, И.С. 2015-02-10T12:05:04Z 2015-02-10T12:05:04Z 2011 Подготовка поверхности подложек перед нанесением вакуумно-дуговых покрытий бомбардировкой ионами титана и циркония / В.А. Столбовой, С.С. Фурсов, И.С. Зуйко // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 2. — С. 164–169. — Бібліогр.: 5 назв. — рос. 1999-8074 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76410 621.793.7 Рассмотрены вопросы, связанные с очисткой поверхности подложки путём бомбардировки ионами титана и циркония вакуумно-дуговым методом. Показано, что очистку подложек перед нанесением вакуумно-дуговых покрытий необходимо проводить в высоком вакууме (давление не более 0,004 Па) при отрицательном потенциале не менее 900 В. Показано, что очистка поверхности подложки ионами хрома более эффективна, чем ионами титана или циркония. Розглянуто питання, пов’язані з очищенням поверхні підкладки шляхом бомбардування іонами титану й цирконію вакуумно-дуговим методом. Показано, що очищення підкладки перед нанесенням вакуумно-дугових покриттів необхідно проводити у високому вакуумі (тиск не більше 0,004 Па) при негативному потенціалі не менш 900 В. Показано, що очищення поверхні підкладки іонами хрому більше ефективна, чим іонами титану або цирконію. The problems associated with cleaning the surface of the substrate by bombardment of ion titanium and zirconium a vacuum-arc method investigation. Shown that treatment of substrates before application of vacuum arc coatings should be carried out in high vacuum (pressure less than 0.004 Pa) at a negative potential of 900 V. It is shown that cleaning the substrate surface with chromium ions is more effective than titanium or zirconium ions. ru Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України Физическая инженерия поверхности Подготовка поверхности подложек перед нанесением вакуумно-дуговых покрытий бомбардировкой ионами титана и циркония Article published earlier |
| spellingShingle | Подготовка поверхности подложек перед нанесением вакуумно-дуговых покрытий бомбардировкой ионами титана и циркония Столбовой, В.А. Фурсов, С.С. Зуйко, И.С. |
| title | Подготовка поверхности подложек перед нанесением вакуумно-дуговых покрытий бомбардировкой ионами титана и циркония |
| title_full | Подготовка поверхности подложек перед нанесением вакуумно-дуговых покрытий бомбардировкой ионами титана и циркония |
| title_fullStr | Подготовка поверхности подложек перед нанесением вакуумно-дуговых покрытий бомбардировкой ионами титана и циркония |
| title_full_unstemmed | Подготовка поверхности подложек перед нанесением вакуумно-дуговых покрытий бомбардировкой ионами титана и циркония |
| title_short | Подготовка поверхности подложек перед нанесением вакуумно-дуговых покрытий бомбардировкой ионами титана и циркония |
| title_sort | подготовка поверхности подложек перед нанесением вакуумно-дуговых покрытий бомбардировкой ионами титана и циркония |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76410 |
| work_keys_str_mv | AT stolbovoiva podgotovkapoverhnostipodložekperednaneseniemvakuumnodugovyhpokrytiibombardirovkoiionamititanaicirkoniâ AT fursovss podgotovkapoverhnostipodložekperednaneseniemvakuumnodugovyhpokrytiibombardirovkoiionamititanaicirkoniâ AT zuikois podgotovkapoverhnostipodložekperednaneseniemvakuumnodugovyhpokrytiibombardirovkoiionamititanaicirkoniâ |