Вплив відпалу на фазові і структурні зміни у тонких плівках AIVBVI

Досліджено вплив відпалу в атмосфері кисню на хемічний і фазовий склади, реальну структуру плівок халькогенідів олива і телуриду цини. Виявлено, що деґрадаційні процеси визначаються як станом кристалічної структури, так і температурою та часом відпалу плівок. Effect of annealing in oxygen atmosph...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Datum:2009
Hauptverfasser: Фреїк, Д.М., Кланічка, Ю.В., Куницький, Ю.А.
Format: Artikel
Sprache:Ukrainian
Veröffentlicht: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2009
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76421
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Вплив відпалу на фазові і структурні зміни у тонких плівках AIVBVI / Д.М. Фреїк, Ю.В. Кланічка, Ю.А. Куницький // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2009. — Т. 7, № 2. — С. 459-466. — Бібліогр.: 11 назв. — укр.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Beschreibung
Zusammenfassung:Досліджено вплив відпалу в атмосфері кисню на хемічний і фазовий склади, реальну структуру плівок халькогенідів олива і телуриду цини. Виявлено, що деґрадаційні процеси визначаються як станом кристалічної структури, так і температурою та часом відпалу плівок. Effect of annealing in oxygen atmosphere on chemical and phase compositions and real structure of films of lead chalcogenides and tin telluride is investigated. As revealed, the degradation processes are determined by the state of crystal structure of films and temperature and time of their annealing. Исследовано влияние отжига в атмосфере кислорода на химический и фазовый составы, реальную структуру пленок халькогенидов свинца и теллурида олова. Установлено, что деградационные процессы определяются как состоянием кристаллической структуры пленок, так и температурой и временем отжига.
ISSN:1816-5230