Structural, optical, and electrical properties of ZnO: al prepared by CVD

• Veröffentlicht in: Физическая инженерия поверхности
• Datum: 2011
• Hauptverfasser: Pogrebnyak, A.D., Jamil, N.Y., Muhammed, A.K.M.
• Format: Artikel
• Sprache: Englisch
• Veröffentlicht: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2011
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76893
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Structural, optical, and electrical properties of ZnO: al prepared by CVD / A.D. Pogrebnyak, N.Y. Jamil, A.K.M. Muhammed // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 3. — С. 244–249. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.

In this paper we will prepared thin films from transparent conductive oxide(TCO) ZnO pure, and doped for various concentration of aluminum (4,8%) using technique chemical vapor deposition (CVD) at different substrates temperatures (400, 450, 500 °C) on glass substrates. The films were characterized...