Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре

На основании исследования переходных характеристик кремниевой p⁺pn⁺-структуры методом переключения из прямого направления на обратное определены зависимости времени жизни неосновных носителей заряда и времени восстановления обратного тока в кремниевых p⁺pn⁺- структурах с различной толщиной базовой о...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Физическая инженерия поверхности
Date:2011
Main Authors: Абдулхаев, О.А., Асанова, Г.О., Гиясова, Ф.А., Ёдгорова, Д.М., Каримов, А.А., Каримов, А.В.
Format: Article
Language:Russian
Published: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2011
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76894
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре / О.А. Абдулхаев, Г.О. Асанова, Ф.А. Гиясова, Д.М. Ёдгорова, А.А. Каримов, А.В. Каримов // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 2. — С. 188–193. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-76894
record_format dspace
spelling Абдулхаев, О.А.
Асанова, Г.О.
Гиясова, Ф.А.
Ёдгорова, Д.М.
Каримов, А.А.
Каримов, А.В.
2015-02-13T06:40:50Z
2015-02-13T06:40:50Z
2011
Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре / О.А. Абдулхаев, Г.О. Асанова, Ф.А. Гиясова, Д.М. Ёдгорова, А.А. Каримов, А.В. Каримов // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 2. — С. 188–193. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76894
621.383.52:535.243
На основании исследования переходных характеристик кремниевой p⁺pn⁺-структуры методом переключения из прямого направления на обратное определены зависимости времени жизни неосновных носителей заряда и времени восстановления обратного тока в кремниевых p⁺pn⁺- структурах с различной толщиной базовой области. Экспериментально показано, что как зависимости времени восстановления, так и времени жизни неосновных носителей от величины прямого тока стремятся к насыщению, которую можно объяснить наличием дополнительных рекомбинационных центров в базовой области.
На підставі дослідження перехідних характеристик кремнієвої p⁺pn⁺-структури методом перемикання із прямого напрямку на зворотній визначені залежності часу життя неосновних носіїв заряду та часу відновлення зворотного струму в кремнієвих p⁺pn⁺-структурах з різною товщиною базової області. Експериментально показано, що як залежності часу відновлення, так і часу життя неосновних носіїв від величини прямого струму прагнуть до насичення, яку можна пояснити наявністю додаткових рекомбінаційних центрів у базовій області.
Based on the research of transitional characteristics of silicon p⁺pn⁺-structure by method of switching from direct to reverse bias are obtained the dependences of the lifetime of minority carriers, and recovery time of the reverse current in silicon p⁺pn⁺-structures with different thickness of the base region. It is experimentally shown that the dependences of the recovery time as well as minority carriers lifetime from values of forward current tends to saturation, which can be explained by the presence of additional recombination centers in the base region.
ru
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре
spellingShingle Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре
Абдулхаев, О.А.
Асанова, Г.О.
Гиясова, Ф.А.
Ёдгорова, Д.М.
Каримов, А.А.
Каримов, А.В.
title_short Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре
title_full Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре
title_fullStr Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре
title_full_unstemmed Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре
title_sort исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре
author Абдулхаев, О.А.
Асанова, Г.О.
Гиясова, Ф.А.
Ёдгорова, Д.М.
Каримов, А.А.
Каримов, А.В.
author_facet Абдулхаев, О.А.
Асанова, Г.О.
Гиясова, Ф.А.
Ёдгорова, Д.М.
Каримов, А.А.
Каримов, А.В.
publishDate 2011
language Russian
container_title Физическая инженерия поверхности
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
format Article
description На основании исследования переходных характеристик кремниевой p⁺pn⁺-структуры методом переключения из прямого направления на обратное определены зависимости времени жизни неосновных носителей заряда и времени восстановления обратного тока в кремниевых p⁺pn⁺- структурах с различной толщиной базовой области. Экспериментально показано, что как зависимости времени восстановления, так и времени жизни неосновных носителей от величины прямого тока стремятся к насыщению, которую можно объяснить наличием дополнительных рекомбинационных центров в базовой области. На підставі дослідження перехідних характеристик кремнієвої p⁺pn⁺-структури методом перемикання із прямого напрямку на зворотній визначені залежності часу життя неосновних носіїв заряду та часу відновлення зворотного струму в кремнієвих p⁺pn⁺-структурах з різною товщиною базової області. Експериментально показано, що як залежності часу відновлення, так і часу життя неосновних носіїв від величини прямого струму прагнуть до насичення, яку можна пояснити наявністю додаткових рекомбінаційних центрів у базовій області. Based on the research of transitional characteristics of silicon p⁺pn⁺-structure by method of switching from direct to reverse bias are obtained the dependences of the lifetime of minority carriers, and recovery time of the reverse current in silicon p⁺pn⁺-structures with different thickness of the base region. It is experimentally shown that the dependences of the recovery time as well as minority carriers lifetime from values of forward current tends to saturation, which can be explained by the presence of additional recombination centers in the base region.
issn 1999-8074
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76894
citation_txt Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре / О.А. Абдулхаев, Г.О. Асанова, Ф.А. Гиясова, Д.М. Ёдгорова, А.А. Каримов, А.В. Каримов // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 2. — С. 188–193. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT abdulhaevoa issledovanieperehodnyhprocessovvkremnievoippnstrukture
AT asanovago issledovanieperehodnyhprocessovvkremnievoippnstrukture
AT giâsovafa issledovanieperehodnyhprocessovvkremnievoippnstrukture
AT edgorovadm issledovanieperehodnyhprocessovvkremnievoippnstrukture
AT karimovaa issledovanieperehodnyhprocessovvkremnievoippnstrukture
AT karimovav issledovanieperehodnyhprocessovvkremnievoippnstrukture
first_indexed 2025-12-07T20:34:45Z
last_indexed 2025-12-07T20:34:45Z
_version_ 1850883110667812864