Оптические свойства субмикронных пленок оксида кремния после высокотемпературной обработки

Оптические свойства субмикронных пленок оксида кремния после высокотемпературной обработки

В работе рассматривается влияние высокотемпературной обработки тонких (100 ÷ 500 нм) пленок оксида кремния на кремниевой подложке, полученных в вакууме методом электронно-лучевого испарения. Обнаружена структурная перестройка полученных тонких пленок SiOx и изменение их состава вплоть до SiO2 при вы...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Физическая инженерия поверхности
Дата:2011
Автори: Литвиненко, В.В., Родионов, В.Е., Родионова, Н.А., Шмидко, И.Н.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2011
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76937
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Оптические свойства субмикронных пленок оксида кремния после высокотемпературной обработки / В.В. Литвиненко, В.Е. Родионов, Н.А. Родионова, И.Н. Шмидко // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 4. — С. 346–349. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-76937
record_format dspace
spelling Литвиненко, В.В.
Родионов, В.Е.
Родионова, Н.А.
Шмидко, И.Н.
2015-02-14T15:50:36Z
2015-02-14T15:50:36Z
2011
Оптические свойства субмикронных пленок оксида кремния после высокотемпературной обработки / В.В. Литвиненко, В.Е. Родионов, Н.А. Родионова, И.Н. Шмидко // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 4. — С. 346–349. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76937
535.376.546.667
В работе рассматривается влияние высокотемпературной обработки тонких (100 ÷ 500 нм) пленок оксида кремния на кремниевой подложке, полученных в вакууме методом электронно-лучевого испарения. Обнаружена структурная перестройка полученных тонких пленок SiOx и изменение их состава вплоть до SiO2 при высокотемпературной обработке. Показано, что смещение пика ИК поглощения прямо связано с количеством кислорода в оксиде кремния, полученном вакуумным электронно-лучевым испарением.
У роботі розглядається вплив високотемпературної термообробки тонких (100 ÷ 500 нм) плівок оксиду кремнію на кремнієвій підкладці, отриманих у вакуумі методом електронно-променевого випару. Виявлена структурна перебудова отриманих тонких плівок SiOx і зміна їх складу аж до SiO2 при високотемпературній обробці. Показано, що зрушення піку ІЧ поглинання прямо пов’язано з кількістю кисню в оксиді кремнію, отриманому вакуумним електронно-променевим випаром.
This paper consider the influence of high temperature treatment of thin (100 ÷ 500 nm) films of silicon oxide on a silicon substrate obtained in vacuum by electron-beam evaporation. Found restructuring of SiOx thin films and the change in composition up to SiO2 at high temperature treatment. It is shown that the shift of the peak IR absorbance is directly related to the amount of oxygen in silicon oxide, obtained by vacuum electron beam evaporation.
ru
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Оптические свойства субмикронных пленок оксида кремния после высокотемпературной обработки
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Оптические свойства субмикронных пленок оксида кремния после высокотемпературной обработки
spellingShingle Оптические свойства субмикронных пленок оксида кремния после высокотемпературной обработки
Литвиненко, В.В.
Родионов, В.Е.
Родионова, Н.А.
Шмидко, И.Н.
title_short Оптические свойства субмикронных пленок оксида кремния после высокотемпературной обработки
title_full Оптические свойства субмикронных пленок оксида кремния после высокотемпературной обработки
title_fullStr Оптические свойства субмикронных пленок оксида кремния после высокотемпературной обработки
title_full_unstemmed Оптические свойства субмикронных пленок оксида кремния после высокотемпературной обработки
title_sort оптические свойства субмикронных пленок оксида кремния после высокотемпературной обработки
author Литвиненко, В.В.
Родионов, В.Е.
Родионова, Н.А.
Шмидко, И.Н.
author_facet Литвиненко, В.В.
Родионов, В.Е.
Родионова, Н.А.
Шмидко, И.Н.
publishDate 2011
language Russian
container_title Физическая инженерия поверхности
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
format Article
description В работе рассматривается влияние высокотемпературной обработки тонких (100 ÷ 500 нм) пленок оксида кремния на кремниевой подложке, полученных в вакууме методом электронно-лучевого испарения. Обнаружена структурная перестройка полученных тонких пленок SiOx и изменение их состава вплоть до SiO2 при высокотемпературной обработке. Показано, что смещение пика ИК поглощения прямо связано с количеством кислорода в оксиде кремния, полученном вакуумным электронно-лучевым испарением. У роботі розглядається вплив високотемпературної термообробки тонких (100 ÷ 500 нм) плівок оксиду кремнію на кремнієвій підкладці, отриманих у вакуумі методом електронно-променевого випару. Виявлена структурна перебудова отриманих тонких плівок SiOx і зміна їх складу аж до SiO2 при високотемпературній обробці. Показано, що зрушення піку ІЧ поглинання прямо пов’язано з кількістю кисню в оксиді кремнію, отриманому вакуумним електронно-променевим випаром. This paper consider the influence of high temperature treatment of thin (100 ÷ 500 nm) films of silicon oxide on a silicon substrate obtained in vacuum by electron-beam evaporation. Found restructuring of SiOx thin films and the change in composition up to SiO2 at high temperature treatment. It is shown that the shift of the peak IR absorbance is directly related to the amount of oxygen in silicon oxide, obtained by vacuum electron beam evaporation.
issn 1999-8074
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76937
citation_txt Оптические свойства субмикронных пленок оксида кремния после высокотемпературной обработки / В.В. Литвиненко, В.Е. Родионов, Н.А. Родионова, И.Н. Шмидко // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 4. — С. 346–349. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT litvinenkovv optičeskiesvoistvasubmikronnyhplenokoksidakremniâposlevysokotemperaturnoiobrabotki
AT rodionovve optičeskiesvoistvasubmikronnyhplenokoksidakremniâposlevysokotemperaturnoiobrabotki
AT rodionovana optičeskiesvoistvasubmikronnyhplenokoksidakremniâposlevysokotemperaturnoiobrabotki
AT šmidkoin optičeskiesvoistvasubmikronnyhplenokoksidakremniâposlevysokotemperaturnoiobrabotki
first_indexed 2025-12-07T21:09:21Z
last_indexed 2025-12-07T21:09:21Z
_version_ 1850885288006516736

Схожі ресурси