Механизм начального этапа роста пленок Cr, полученных при помощи магнетронного распыления на постоянном токе

Методом микродифракции электронов и просвечивающей электронной микроскопии был исследован механизм образования пленок Cr, осажденных на сколы NaCl при помощи магнетронного распыления на постоянном токе. При повышении энергии конденсируемых атомов, а также при снижении скорости наращивания пленки и п...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Вопросы атомной науки и техники
Datum:2000
Hauptverfasser: Перекрестов, В.И., Кравченко, С.Н.
Format: Artikel
Sprache:Russisch
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2000
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78215
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Механизм начального этапа роста пленок Cr, полученных при помощи магнетронного распыления на постоянном токе / В.И. Перекрестов, С.Н. Кравченко // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 4. — С. 173-175. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862730360721244160
author Перекрестов, В.И.
Кравченко, С.Н.
author_facet Перекрестов, В.И.
Кравченко, С.Н.
citation_txt Механизм начального этапа роста пленок Cr, полученных при помощи магнетронного распыления на постоянном токе / В.И. Перекрестов, С.Н. Кравченко // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 4. — С. 173-175. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Вопросы атомной науки и техники
description Методом микродифракции электронов и просвечивающей электронной микроскопии был исследован механизм образования пленок Cr, осажденных на сколы NaCl при помощи магнетронного распыления на постоянном токе. При повышении энергии конденсируемых атомов, а также при снижении скорости наращивания пленки и повышении температуры осаждения усиливается тенденция к зарождению сверхтонких пленок в виде метастабильной аморфной фазы (АФ). Переход из аморфного в кристаллическое состояние происходит в процессе наращивания пленки и при весомом вкладе диффузионных потоков в направлении АФ→кристалл.
first_indexed 2025-12-07T19:19:50Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-78215
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1562-6016
language Russian
last_indexed 2025-12-07T19:19:50Z
publishDate 2000
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
record_format dspace
spelling Перекрестов, В.И.
Кравченко, С.Н.
2015-03-12T20:12:11Z
2015-03-12T20:12:11Z
2000
Механизм начального этапа роста пленок Cr, полученных при помощи магнетронного распыления на постоянном токе / В.И. Перекрестов, С.Н. Кравченко // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 4. — С. 173-175. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.
1562-6016
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78215
533.9
Методом микродифракции электронов и просвечивающей электронной микроскопии был исследован механизм образования пленок Cr, осажденных на сколы NaCl при помощи магнетронного распыления на постоянном токе. При повышении энергии конденсируемых атомов, а также при снижении скорости наращивания пленки и повышении температуры осаждения усиливается тенденция к зарождению сверхтонких пленок в виде метастабильной аморфной фазы (АФ). Переход из аморфного в кристаллическое состояние происходит в процессе наращивания пленки и при весомом вкладе диффузионных потоков в направлении АФ→кристалл.
ru
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Механизм начального этапа роста пленок Cr, полученных при помощи магнетронного распыления на постоянном токе
Article
published earlier
spellingShingle Механизм начального этапа роста пленок Cr, полученных при помощи магнетронного распыления на постоянном токе
Перекрестов, В.И.
Кравченко, С.Н.
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
title Механизм начального этапа роста пленок Cr, полученных при помощи магнетронного распыления на постоянном токе
title_full Механизм начального этапа роста пленок Cr, полученных при помощи магнетронного распыления на постоянном токе
title_fullStr Механизм начального этапа роста пленок Cr, полученных при помощи магнетронного распыления на постоянном токе
title_full_unstemmed Механизм начального этапа роста пленок Cr, полученных при помощи магнетронного распыления на постоянном токе
title_short Механизм начального этапа роста пленок Cr, полученных при помощи магнетронного распыления на постоянном токе
title_sort механизм начального этапа роста пленок cr, полученных при помощи магнетронного распыления на постоянном токе
topic Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
topic_facet Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78215
work_keys_str_mv AT perekrestovvi mehanizmnačalʹnogoétaparostaplenokcrpolučennyhpripomoŝimagnetronnogoraspyleniânapostoânnomtoke
AT kravčenkosn mehanizmnačalʹnogoétaparostaplenokcrpolučennyhpripomoŝimagnetronnogoraspyleniânapostoânnomtoke