Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди
Исследовался процесс низкоэнергетичного (Е<З кэВ ) облучения поверхности меди ионами Ti и Al из сепарированного потока плазмы вакуумной дуги. Представлены результаты измерения концентрационных профилей титана и алюминия в зависимости от дозы облучения и температуры подложки. Установлено, что глуб...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2000 |
| Main Authors: | , , , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2000
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78218 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди / В.И. Сафонов, И.Г. Марченко, Г.Н. Картмазов, Н.И. Дикий // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 4. — С. 182-184. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-78218 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Сафонов, В.И. Марченко, И.Г. Картмазов, Г.Н. Дикий, Н.И. 2015-03-12T20:14:09Z 2015-03-12T20:14:09Z 2000 Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди / В.И. Сафонов, И.Г. Марченко, Г.Н. Картмазов, Н.И. Дикий // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 4. — С. 182-184. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. 1562-6016 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78218 533.9 Исследовался процесс низкоэнергетичного (Е<З кэВ ) облучения поверхности меди ионами Ti и Al из сепарированного потока плазмы вакуумной дуги. Представлены результаты измерения концентрационных профилей титана и алюминия в зависимости от дозы облучения и температуры подложки. Установлено, что глубина залегания бомбардируемых ионов существенно превышает проекционный пробег ионов и зависит от температуры подложки и вида ионов. Процесс накопления внедренных примесей Ti и Al является термоактивируемым, с характерной энергией 7…15 кДж/г.моль. Одним из объяснений полученных результатов является радиационно-стимулированная диффузия внедренной примеси по междоузельному механизму. Данные, полученные методом ядерных реакций, коррелируют с измерениями внедренной дозы, полученными рентгенофлюоресцентным методом. ru Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Облучательная техника, ядерно-физические методы исследования структуры и свойств твердых тел Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди |
| spellingShingle |
Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди Сафонов, В.И. Марченко, И.Г. Картмазов, Г.Н. Дикий, Н.И. Облучательная техника, ядерно-физические методы исследования структуры и свойств твердых тел |
| title_short |
Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди |
| title_full |
Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди |
| title_fullStr |
Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди |
| title_full_unstemmed |
Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди |
| title_sort |
формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди |
| author |
Сафонов, В.И. Марченко, И.Г. Картмазов, Г.Н. Дикий, Н.И. |
| author_facet |
Сафонов, В.И. Марченко, И.Г. Картмазов, Г.Н. Дикий, Н.И. |
| topic |
Облучательная техника, ядерно-физические методы исследования структуры и свойств твердых тел |
| topic_facet |
Облучательная техника, ядерно-физические методы исследования структуры и свойств твердых тел |
| publishDate |
2000 |
| language |
Russian |
| container_title |
Вопросы атомной науки и техники |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| format |
Article |
| description |
Исследовался процесс низкоэнергетичного (Е<З кэВ ) облучения поверхности меди ионами Ti и Al из сепарированного потока плазмы вакуумной дуги. Представлены результаты измерения концентрационных профилей титана и алюминия в зависимости от дозы облучения и температуры подложки. Установлено, что глубина залегания бомбардируемых ионов существенно превышает проекционный пробег ионов и зависит от температуры подложки и вида ионов. Процесс накопления внедренных примесей Ti и Al является термоактивируемым, с характерной энергией 7…15 кДж/г.моль. Одним из объяснений полученных результатов является радиационно-стимулированная диффузия внедренной примеси по междоузельному механизму. Данные, полученные методом ядерных реакций, коррелируют с измерениями внедренной дозы, полученными рентгенофлюоресцентным методом.
|
| issn |
1562-6016 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78218 |
| citation_txt |
Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди / В.И. Сафонов, И.Г. Марченко, Г.Н. Картмазов, Н.И. Дикий // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 4. — С. 182-184. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT safonovvi formirovaniepripoverhnostnyhsloevprinizkoénergetičnomvysokodoznomionnoplazmennomoblučeniipoverhnostimedi AT marčenkoig formirovaniepripoverhnostnyhsloevprinizkoénergetičnomvysokodoznomionnoplazmennomoblučeniipoverhnostimedi AT kartmazovgn formirovaniepripoverhnostnyhsloevprinizkoénergetičnomvysokodoznomionnoplazmennomoblučeniipoverhnostimedi AT dikiini formirovaniepripoverhnostnyhsloevprinizkoénergetičnomvysokodoznomionnoplazmennomoblučeniipoverhnostimedi |
| first_indexed |
2025-12-07T16:28:58Z |
| last_indexed |
2025-12-07T16:28:58Z |
| _version_ |
1850867647757942784 |