Особенности процессов фотостимулированного взаимодействия в светочувствительной системе As₄₀S₂₀Se₄₀-Ag
Исследованы особенности процессов фотостимулированного взаимодействия в системе As₄₀S₂₀Se₄₀-Ag. На основном этапе фотостимулированного взаимодействия в системе As₄₀S₂₀Se₄₀-Ag наблюдается параболическая зависимость толщины слоя продуктов от экспозиции Н и контролирующими можно полагать диффузионные п...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2000 |
| Main Authors: | Стронский, А.В., Влчек, М., Скленарж, А. |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2000
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78238 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Особенности процессов фотостимулированного взаимодействия в светочувствительной системе As₄₀S₂₀Se₄₀-Ag / А.В. Стронский, М. Влчек, А. Скленарж // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 5. — С. 87-90. — Бібліогр.: 15 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineSimilar Items
-
Измерение толщины тонких углеродных фольг методом кварцевого резонатора
by: Батурин, В.А., et al.
Published: (2002) -
Влияние параметров импульсной работы вакуумно-дугового испарителя на концентрацию капель в формируемых пленках
by: Белоус, В.А., et al.
Published: (2002) -
Структура тонких пленок С₆₀ на (100) NaCl
by: Горбенко, Н.И., et al.
Published: (2002) -
Использование эвтектических композиций для создания износостойких покрытий
by: Чишкала, В.А., et al.
Published: (2002) -
Электрические и оптические свойства пленок ITO, полученных методом магнетронного распыления
by: Юрченко, Г.В.
Published: (2000)