Зображення обкладинки

ZnO:Al wide zone “windows” deposited by magnetron sputtering on unheated substrate

Electrical and optical properties of ZnO:Al films deposited on unheated glass substrate by non-reactive RF magnetron sputtering of target ZnO:Al₂O₃ (98/2 wt.%) were studied. It was shown that Zno:Al films with the thickness of 0.75 µm deposited at the magnetron power 130 W and 4 µbar argon pressure...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :	Вопросы атомной науки и техники
Дата:	2000
Автори:	Boyko, B.Т., Khrypunov, G.S., Yurchenko, G.V.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2000
Теми:	Пленочные материалы и покрытия
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78239
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	ZnO:Al wide zone “windows” deposited by magnetron sputtering on unheated substrate / B.Т. Boyko, G.S. Khrypunov, G.V. Yurchenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 5. — С. 91-93. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Thermoionic Vacuum Arc (TVA) - one of the best suitable method for high purity compact smooth thin films deposition
за авторством: Ehrich, H., та інші
Опубліковано: (2002)

Влияние параметров импульсной работы вакуумно-дугового испарителя на концентрацию капель в формируемых пленках
за авторством: Белоус, В.А., та інші
Опубліковано: (2002)

Использование эвтектических композиций для создания износостойких покрытий
за авторством: Чишкала, В.А., та інші
Опубліковано: (2002)

Особенности процессов фотостимулированного взаимодействия в светочувствительной системе As₄₀S₂₀Se₄₀-Ag
за авторством: Стронский, А.В., та інші
Опубліковано: (2000)

Электрические и оптические свойства пленок ITO, полученных методом магнетронного распыления
за авторством: Юрченко, Г.В.
Опубліковано: (2000)

Измерение толщины тонких углеродных фольг методом кварцевого резонатора
за авторством: Батурин, В.А., та інші
Опубліковано: (2002)

Структура тонких пленок С₆₀ на (100) NaCl
за авторством: Горбенко, Н.И., та інші
Опубліковано: (2002)

Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
за авторством: V. I. Popovych, та інші
Опубліковано: (2016)

Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
за авторством: V. I. Popovych, та інші
Опубліковано: (2016)

The influence of physical and technological magnetron sputtering modes on the structure and optical properties of CdS and CdTe films
за авторством: Khrypunov, G.S., та інші
Опубліковано: (2017)

High conducting transparent materials based on wide-gap ZnO
за авторством: G. V. Lashkarev, та інші
Опубліковано: (2017)

Characterisation of Mo–V–N Coatings Deposited on XC100 Substrate by Sputtering Cathodic Magnetron
за авторством: Chermime, Brahim, та інші
Опубліковано: (2017)

Affects deposition time and substrate temperature on optical properties of ZnO thin film
за авторством: A. D. Pogrebnyak, та інші
Опубліковано: (2011)

Affects deposition time and substrate temperature on optical properties of ZnO thin film
за авторством: Pogrebnyak, A.D., та інші
Опубліковано: (2011)

The influence of physical and technological magnetron sputtering modes on the structure and optical properties of CdS and CdTe films
за авторством: G. S. Khrypunov, та інші
Опубліковано: (2017)

Effect of electron irradiation on transparent conductive films ZnO:Al deposited at different power sputtering
за авторством: D. V. Myroniuk, та інші
Опубліковано: (2015)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)

Experimental investigation and computer simulation of the magnetron sputtering device with two erosion zones
за авторством: Bogdanov, R.V., та інші
Опубліковано: (2013)

The Effect of Ag-Doping on the Cytotoxicity of ZnO Nanostructures Grown on Ag/Si Substrates by APMOCVD
за авторством: K. S. Naumenko, та інші
Опубліковано: (2022)

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)

Solid ion accelerator based on magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)

Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)

Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Synthesis of TiO₂ different phase by DC magnetron sputtering
за авторством: Dobrovolskiy, A., та інші
Опубліковано: (2014)

Structure of Fe-Cu coatings prepared by the magnetron sputtering method
за авторством: Nowakowska-Langier, K., та інші
Опубліковано: (2010)

Optical and structural studies of phase transformations and composition fluctuations at annealing of Zn₁₋xCdxO films grown by dc magnetron sputtering
за авторством: Kolomys, O., та інші
Опубліковано: (2014)

Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)

Fabrication of nanosize LiPON films by means of high-frequency magnetron sputtering
за авторством: O. I. Vjunov, та інші
Опубліковано: (2014)

Effect of oxidation method of cadmium and zinc chalcogenide substrates on physical properties of CdO and ZnO heterolayers
за авторством: Makhniy, V.P., та інші
Опубліковано: (2009)

Optical and structural studies of phase transformations and composition fluctuations at annealing of Zn1-xCdxO films grown by dc magnetron sputtering
за авторством: O. Kolomys, та інші
Опубліковано: (2014)

Magnetron sputtered coatings of AlN-TiCrB₂ system
за авторством: Panasyuk, A.D., та інші
Опубліковано: (2009)

Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)

Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)

The Vacuub Device for Receiving Coatings on the Inner Surface of the Pipes by Magnetron Sputtering
за авторством: V. M. Kolomiiets, та інші
Опубліковано: (2020)

Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)

Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)