Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий

Проведены испытания электродугового плазмотрона с газовихревой стабилизацией дуги и с комбинированной фиксацией длины дуги (газодинамической и магнитной). Использование дополнительной магнитной стабилизации длины дуги позволило значительно снизить случайные колебания температуры подложки с ±10 ºС бе...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Вопросы атомной науки и техники
Datum:	2001
Hauptverfasser:	Васильев, В.В., Стрельницкий, В.Е.
Format:	Artikel
Sprache:	Russian
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2001
Schlagworte:	Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78303
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий / В.В. Васильев, В.Е. Стрельницкий // Вопросы атомной науки и техники. — 2001. — № 4. — С. 104-108. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

id	nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-78303
record_format	dspace
spelling	Васильев, В.В. Стрельницкий, В.Е. 2015-03-13T18:52:07Z 2015-03-13T18:52:07Z 2001 Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий / В.В. Васильев, В.Е. Стрельницкий // Вопросы атомной науки и техники. — 2001. — № 4. — С. 104-108. — Бібліогр.: 10 назв. — рос. 1562-6016 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78303 621.387.143:546.26-162:62-761 Проведены испытания электродугового плазмотрона с газовихревой стабилизацией дуги и с комбинированной фиксацией длины дуги (газодинамической и магнитной). Использование дополнительной магнитной стабилизации длины дуги позволило значительно снизить случайные колебания температуры подложки с ±10 ºС без магнита до ±2 ºС с магнитом. Показано, что плазмотрон может работать в двух режимах: в режиме аномального расширения плазменной струи и в режиме отсутствия её расширения. Максимальные величины эффективности синтеза АП и площади однородной части покрытия получены в режиме отсутствия расширения плазменной струи с использованием газодинамического способа коррекции температурного поля и поля концентраций атомарного водорода вблизи подложки. Проведено іспити eлектродугового плазмотрона з газовихревою стабілізацією дуги і з комбінованою фіксацією довжини дуги (газодинамічною та магнітною). Використання додаткової магнітної стабілізації довжини дуги дозволило значно знизити випадкові коливання температури підкладки з ±10 ºС без магніту до ±2 ºС з магнітом. Показано, що плазмотрон може працювати у двох режимах: у режимі аномального розширення плазменної струї та й у режимі відсутності її розширення. Максимальні розміри ефективності синтезу АП і площі однорідної частини покриття отримані в режимі відсутності розширення плазменної струї з використанням газодинамічного способу корекції температурного поля і поля концентрацій атомарного водню поблизу підкладки. The tests of the electro-arc plasma torch with the gas vortex arc stabilization and with the combined fixing of an arc length (gas dynamic and magnetic) were carried out. Usage of an additional magnetic stabilization of an arc length has allowed considerably to minimize the accidental fluctuations of a substrate temperature from ±10 ºС without a magnet up to ±2 ºС with a magnet. It was shown that the plasma torch can work in two modes: in a mode of abnormal expansion of a plasma jet and in a mode of absence of its expansion. The maximal values of the DC synthesis efficiency and area of a uniform part of a coating were received in a mode of the plasma jet expansion absence with using of the gas dynamic correction of a temperature and the concentration fields of atomic hydrogen near to a substrate. ru Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Физика радиационных и ионно-плазменных технологий Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий Article published earlier
institution	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection	DSpace DC
title	Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий
spellingShingle	Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий Васильев, В.В. Стрельницкий, В.Е. Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
title_short	Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий
title_full	Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий
title_fullStr	Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий
title_full_unstemmed	Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий
title_sort	электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий
author	Васильев, В.В. Стрельницкий, В.Е.
author_facet	Васильев, В.В. Стрельницкий, В.Е.
topic	Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
topic_facet	Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
publishDate	2001
language	Russian
container_title	Вопросы атомной науки и техники
publisher	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format	Article
description	Проведены испытания электродугового плазмотрона с газовихревой стабилизацией дуги и с комбинированной фиксацией длины дуги (газодинамической и магнитной). Использование дополнительной магнитной стабилизации длины дуги позволило значительно снизить случайные колебания температуры подложки с ±10 ºС без магнита до ±2 ºС с магнитом. Показано, что плазмотрон может работать в двух режимах: в режиме аномального расширения плазменной струи и в режиме отсутствия её расширения. Максимальные величины эффективности синтеза АП и площади однородной части покрытия получены в режиме отсутствия расширения плазменной струи с использованием газодинамического способа коррекции температурного поля и поля концентраций атомарного водорода вблизи подложки. Проведено іспити eлектродугового плазмотрона з газовихревою стабілізацією дуги і з комбінованою фіксацією довжини дуги (газодинамічною та магнітною). Використання додаткової магнітної стабілізації довжини дуги дозволило значно знизити випадкові коливання температури підкладки з ±10 ºС без магніту до ±2 ºС з магнітом. Показано, що плазмотрон може працювати у двох режимах: у режимі аномального розширення плазменної струї та й у режимі відсутності її розширення. Максимальні розміри ефективності синтезу АП і площі однорідної частини покриття отримані в режимі відсутності розширення плазменної струї з використанням газодинамічного способу корекції температурного поля і поля концентрацій атомарного водню поблизу підкладки. The tests of the electro-arc plasma torch with the gas vortex arc stabilization and with the combined fixing of an arc length (gas dynamic and magnetic) were carried out. Usage of an additional magnetic stabilization of an arc length has allowed considerably to minimize the accidental fluctuations of a substrate temperature from ±10 ºС without a magnet up to ±2 ºС with a magnet. It was shown that the plasma torch can work in two modes: in a mode of abnormal expansion of a plasma jet and in a mode of absence of its expansion. The maximal values of the DC synthesis efficiency and area of a uniform part of a coating were received in a mode of the plasma jet expansion absence with using of the gas dynamic correction of a temperature and the concentration fields of atomic hydrogen near to a substrate.
issn	1562-6016
url	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78303
citation_txt	Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий / В.В. Васильев, В.Е. Стрельницкий // Вопросы атомной науки и техники. — 2001. — № 4. — С. 104-108. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
work_keys_str_mv	AT vasilʹevvv élektrodugovoiplazmotrondlâvysokoproizvoditelʹnogosintezaalmaznyhpokrytii AT strelʹnickiive élektrodugovoiplazmotrondlâvysokoproizvoditelʹnogosintezaalmaznyhpokrytii
first_indexed	2025-12-07T17:39:32Z
last_indexed	2025-12-07T17:39:32Z
_version_	1850872087285071872

Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий

Institution

Ähnliche Einträge