Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий
Проведены испытания электродугового плазмотрона с газовихревой стабилизацией дуги и с комбинированной фиксацией длины дуги (газодинамической и магнитной). Использование дополнительной магнитной стабилизации длины дуги позволило значительно снизить случайные колебания температуры подложки с ±10 ºС бе...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2001 |
| Main Authors: | , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2001
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78303 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий / В.В. Васильев, В.Е. Стрельницкий // Вопросы атомной науки и техники. — 2001. — № 4. — С. 104-108. — Бібліогр.: 10 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862712763891056640 |
|---|---|
| author | Васильев, В.В. Стрельницкий, В.Е. |
| author_facet | Васильев, В.В. Стрельницкий, В.Е. |
| citation_txt | Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий / В.В. Васильев, В.Е. Стрельницкий // Вопросы атомной науки и техники. — 2001. — № 4. — С. 104-108. — Бібліогр.: 10 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | Проведены испытания электродугового плазмотрона с газовихревой стабилизацией дуги и с комбинированной фиксацией длины дуги (газодинамической и магнитной). Использование дополнительной магнитной стабилизации длины дуги позволило значительно снизить случайные колебания температуры подложки с ±10 ºС без магнита до ±2 ºС с магнитом. Показано, что плазмотрон может работать в двух режимах: в режиме аномального расширения плазменной струи и в режиме отсутствия её расширения. Максимальные величины эффективности синтеза АП и площади однородной части покрытия получены в режиме отсутствия расширения плазменной струи с использованием газодинамического способа коррекции температурного поля и поля концентраций атомарного водорода вблизи подложки.
Проведено іспити eлектродугового плазмотрона з газовихревою стабілізацією дуги і з комбінованою фіксацією довжини дуги (газодинамічною та магнітною). Використання додаткової магнітної стабілізації довжини дуги дозволило значно знизити випадкові коливання температури підкладки з ±10 ºС без магніту до ±2 ºС з магнітом. Показано, що плазмотрон може працювати у двох режимах: у режимі аномального розширення плазменної струї та й у режимі відсутності її розширення. Максимальні розміри ефективності синтезу АП і площі однорідної частини покриття отримані в режимі відсутності розширення плазменної струї з використанням газодинамічного способу корекції температурного поля і поля концентрацій атомарного водню поблизу підкладки.
The tests of the electro-arc plasma torch with the gas vortex arc stabilization and with the combined fixing of an arc length (gas dynamic and magnetic) were carried out. Usage of an additional magnetic stabilization of an arc length has allowed considerably to minimize the accidental fluctuations of a substrate temperature from ±10 ºС without a magnet up to ±2 ºС with a magnet. It was shown that the plasma torch can work in two modes: in a mode of abnormal expansion of a plasma jet and in a mode of absence of its expansion. The maximal values of the DC synthesis efficiency and area of a uniform part of a coating were received in a mode of the plasma jet expansion absence with using of the gas dynamic correction of a temperature and the concentration fields of atomic hydrogen near to a substrate.
|
| first_indexed | 2025-12-07T17:39:32Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-78303 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T17:39:32Z |
| publishDate | 2001 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Васильев, В.В. Стрельницкий, В.Е. 2015-03-13T18:52:07Z 2015-03-13T18:52:07Z 2001 Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий / В.В. Васильев, В.Е. Стрельницкий // Вопросы атомной науки и техники. — 2001. — № 4. — С. 104-108. — Бібліогр.: 10 назв. — рос. 1562-6016 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78303 621.387.143:546.26-162:62-761 Проведены испытания электродугового плазмотрона с газовихревой стабилизацией дуги и с комбинированной фиксацией длины дуги (газодинамической и магнитной). Использование дополнительной магнитной стабилизации длины дуги позволило значительно снизить случайные колебания температуры подложки с ±10 ºС без магнита до ±2 ºС с магнитом. Показано, что плазмотрон может работать в двух режимах: в режиме аномального расширения плазменной струи и в режиме отсутствия её расширения. Максимальные величины эффективности синтеза АП и площади однородной части покрытия получены в режиме отсутствия расширения плазменной струи с использованием газодинамического способа коррекции температурного поля и поля концентраций атомарного водорода вблизи подложки. Проведено іспити eлектродугового плазмотрона з газовихревою стабілізацією дуги і з комбінованою фіксацією довжини дуги (газодинамічною та магнітною). Використання додаткової магнітної стабілізації довжини дуги дозволило значно знизити випадкові коливання температури підкладки з ±10 ºС без магніту до ±2 ºС з магнітом. Показано, що плазмотрон може працювати у двох режимах: у режимі аномального розширення плазменної струї та й у режимі відсутності її розширення. Максимальні розміри ефективності синтезу АП і площі однорідної частини покриття отримані в режимі відсутності розширення плазменної струї з використанням газодинамічного способу корекції температурного поля і поля концентрацій атомарного водню поблизу підкладки. The tests of the electro-arc plasma torch with the gas vortex arc stabilization and with the combined fixing of an arc length (gas dynamic and magnetic) were carried out. Usage of an additional magnetic stabilization of an arc length has allowed considerably to minimize the accidental fluctuations of a substrate temperature from ±10 ºС without a magnet up to ±2 ºС with a magnet. It was shown that the plasma torch can work in two modes: in a mode of abnormal expansion of a plasma jet and in a mode of absence of its expansion. The maximal values of the DC synthesis efficiency and area of a uniform part of a coating were received in a mode of the plasma jet expansion absence with using of the gas dynamic correction of a temperature and the concentration fields of atomic hydrogen near to a substrate. ru Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Физика радиационных и ионно-плазменных технологий Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий Article published earlier |
| spellingShingle | Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий Васильев, В.В. Стрельницкий, В.Е. Физика радиационных и ионно-плазменных технологий |
| title | Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий |
| title_full | Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий |
| title_fullStr | Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий |
| title_full_unstemmed | Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий |
| title_short | Электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий |
| title_sort | электродуговой плазмотрон для высокопроизводительного синтеза алмазных покрытий |
| topic | Физика радиационных и ионно-плазменных технологий |
| topic_facet | Физика радиационных и ионно-плазменных технологий |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78303 |
| work_keys_str_mv | AT vasilʹevvv élektrodugovoiplazmotrondlâvysokoproizvoditelʹnogosintezaalmaznyhpokrytii AT strelʹnickiive élektrodugovoiplazmotrondlâvysokoproizvoditelʹnogosintezaalmaznyhpokrytii |