Computer simulation of transient layer chemical composition in Cr-N films obtained by ion beam assisted deposition

The computer simulation of Cr-N film deposition by IBAD method was carried out. The implanted nitrogen content in the growing film is calculated, values of the radiation defect formation in the film are obtained. The variation of the implanted nitrogen relationship to the defect distribution in the...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Вопросы атомной науки и техники
Дата:2001
Автори: Marchenko, I.G., Guglya, A.G.
Формат: Стаття
Мова:Англійська
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2001
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78305
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Computer simulation of transient layer chemical composition in Cr-N films obtained by ion beam assisted deposition / I.G. Marchenko, A.G. Guglya // Вопросы атомной науки и техники. — 2001. — № 4. — С. 137-139. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862736929802420224
author Marchenko, I.G.
Guglya, A.G.
author_facet Marchenko, I.G.
Guglya, A.G.
citation_txt Computer simulation of transient layer chemical composition in Cr-N films obtained by ion beam assisted deposition / I.G. Marchenko, A.G. Guglya // Вопросы атомной науки и техники. — 2001. — № 4. — С. 137-139. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.
collection DSpace DC
container_title Вопросы атомной науки и техники
description The computer simulation of Cr-N film deposition by IBAD method was carried out. The implanted nitrogen content in the growing film is calculated, values of the radiation defect formation in the film are obtained. The variation of the implanted nitrogen relationship to the defect distribution in the growing film depth is analyzed. Проведено комп’ютерне моделювання формування Cr-N плівок, створених за допомогою імплантаційно-стимулюючого осадження (IBAD-метод). Розраховано кількість азоту у зростаючій плівці хрому, а також рівень створюємих іонами азоту дефектів. Проаналізовано співвідношення між розподіленням дефектів та кількістю хрому в залежності від товщини плівки. Проведено компъютерное моделирование формирования Cr-N пленок, полученных с помощью имплантационно-стимулированного осаждения (IBAD-метод). Рассчитано содержание азота в растущей пленке хрома, а также уровень создаваемых ионами азота дефектов. Проанализировано соотношение между распределением дефектов и содержанием хрома в зависимости от толщины пленок.
first_indexed 2025-12-07T19:56:24Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-78305
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1562-6016
language English
last_indexed 2025-12-07T19:56:24Z
publishDate 2001
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
record_format dspace
spelling Marchenko, I.G.
Guglya, A.G.
2015-03-13T18:53:30Z
2015-03-13T18:53:30Z
2001
Computer simulation of transient layer chemical composition in Cr-N films obtained by ion beam assisted deposition / I.G. Marchenko, A.G. Guglya // Вопросы атомной науки и техники. — 2001. — № 4. — С. 137-139. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.
1562-6016
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78305
621.384.6
The computer simulation of Cr-N film deposition by IBAD method was carried out. The implanted nitrogen content in the growing film is calculated, values of the radiation defect formation in the film are obtained. The variation of the implanted nitrogen relationship to the defect distribution in the growing film depth is analyzed.
Проведено комп’ютерне моделювання формування Cr-N плівок, створених за допомогою імплантаційно-стимулюючого осадження (IBAD-метод). Розраховано кількість азоту у зростаючій плівці хрому, а також рівень створюємих іонами азоту дефектів. Проаналізовано співвідношення між розподіленням дефектів та кількістю хрому в залежності від товщини плівки.
Проведено компъютерное моделирование формирования Cr-N пленок, полученных с помощью имплантационно-стимулированного осаждения (IBAD-метод). Рассчитано содержание азота в растущей пленке хрома, а также уровень создаваемых ионами азота дефектов. Проанализировано соотношение между распределением дефектов и содержанием хрома в зависимости от толщины пленок.
en
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Computer simulation of transient layer chemical composition in Cr-N films obtained by ion beam assisted deposition
Article
published earlier
spellingShingle Computer simulation of transient layer chemical composition in Cr-N films obtained by ion beam assisted deposition
Marchenko, I.G.
Guglya, A.G.
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
title Computer simulation of transient layer chemical composition in Cr-N films obtained by ion beam assisted deposition
title_full Computer simulation of transient layer chemical composition in Cr-N films obtained by ion beam assisted deposition
title_fullStr Computer simulation of transient layer chemical composition in Cr-N films obtained by ion beam assisted deposition
title_full_unstemmed Computer simulation of transient layer chemical composition in Cr-N films obtained by ion beam assisted deposition
title_short Computer simulation of transient layer chemical composition in Cr-N films obtained by ion beam assisted deposition
title_sort computer simulation of transient layer chemical composition in cr-n films obtained by ion beam assisted deposition
topic Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
topic_facet Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78305
work_keys_str_mv AT marchenkoig computersimulationoftransientlayerchemicalcompositionincrnfilmsobtainedbyionbeamassisteddeposition
AT guglyaag computersimulationoftransientlayerchemicalcompositionincrnfilmsobtainedbyionbeamassisteddeposition