Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы

• Datum: 2008
• Hauptverfasser: Шулаев, В.М., Андреев, А.А., Столбовой, В.А., Прибытков, Г.А., Гурских, А.В., Коростелева, Е.Н., Коржова, В.В.
• Format: Artikel
• Sprache: Russisch
• Veröffentlicht: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2008
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/7871
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы / В.М. Шулаев, А.А. Андреев, В.А. Столбовой, Г.А. Прибытков, А.В. Гурских, Е.Н. Коростелева, В.В. Коржова // Физическая инженерия поверхности. — 2008. — Т. 6, № 1-2. — С. 105-113. — Бібліогр.: 14 назв. — рос.

Представлены результаты экспериментов по синтезу Ti-Si-N покрытий при их осаждении из многокомпонентной плазмы вакуумно-дугового разряда на подложки из нержавеющей стали и медной фольги. Полученные наноструктурные Ti-Si-N покрытия являются метастабильными пересыщенными твердыми растворами кремния в...