Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности

В работе описаны экспериментальные исследования импеданса индуктора в цилиндрическом источнике плазмы ВЧ индукционного типа. Представлены результаты измерений напряжения на индукторе, эффективных индуктивности и сопротивления. Сделан вывод, что в случае плазмы низкой плотности мнимой частью импеданс...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2008
Автори: Рафальский, Д.В., Дудин, С.В., Положий, К.И.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2008
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/7889
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности / Д.В. Рафальский, С.В. Дудин, К.И. Положий // Физическая инженерия поверхности. — 2008. — Т. 6, № 3-4. — С. 155-159. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-7889
record_format dspace
spelling Рафальский, Д.В.
Дудин, С.В.
Положий, К.И.
2010-04-20T12:56:54Z
2010-04-20T12:56:54Z
2008
Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности / Д.В. Рафальский, С.В. Дудин, К.И. Положий // Физическая инженерия поверхности. — 2008. — Т. 6, № 3-4. — С. 155-159. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/7889
В работе описаны экспериментальные исследования импеданса индуктора в цилиндрическом источнике плазмы ВЧ индукционного типа. Представлены результаты измерений напряжения на индукторе, эффективных индуктивности и сопротивления. Сделан вывод, что в случае плазмы низкой плотности мнимой частью импеданса плазмы и геометрической индуктивностью плазмы можно пренебречь. С использованием этого подхода получены простые выражения для эффективного импеданса индуктора, которые хорошо согласуются с экспериментальными результатами.
У роботі описані експериментальні дослідження імпедансу індуктора в циліндричному джерелі плазми ВЧ індукційного типу. Представлено результати вимірів напруги на індукторі, ефективні індуктивності й опори. Зроблено висновок, що у випадку плазми низької щільності мнимою частиною імпедансу плазми й геометричною індуктивністю плазми можна знехтувати. З використанням цього підходу отримані прості вираження для ефективного імпедансу індуктора, які добре погодяться з експериментальними результатами.
This paper describes experimental investigations of an inductive coil impedance in the cylindrical inductively coupled low density RF plasma source. Detailed measurements of the inductive coil voltage, effective inductance and resistance are reported. It is concluded that in the case of low plasma density imaginary part of the plasma impedance and geometrical plasma inductance can be neglected. Using this approach simple expressions for the effective inductor impedance have been obtained, being in good agreement with the experimental data.
ru
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности
Збурювання імпедансу індуктора, який взаємодіє з плазмою низької щільності
Impedance disturbance of the inductive coil interacting with low density plasma
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности
spellingShingle Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности
Рафальский, Д.В.
Дудин, С.В.
Положий, К.И.
title_short Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности
title_full Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности
title_fullStr Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности
title_full_unstemmed Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности
title_sort возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности
author Рафальский, Д.В.
Дудин, С.В.
Положий, К.И.
author_facet Рафальский, Д.В.
Дудин, С.В.
Положий, К.И.
publishDate 2008
language Russian
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
format Article
title_alt Збурювання імпедансу індуктора, який взаємодіє з плазмою низької щільності
Impedance disturbance of the inductive coil interacting with low density plasma
description В работе описаны экспериментальные исследования импеданса индуктора в цилиндрическом источнике плазмы ВЧ индукционного типа. Представлены результаты измерений напряжения на индукторе, эффективных индуктивности и сопротивления. Сделан вывод, что в случае плазмы низкой плотности мнимой частью импеданса плазмы и геометрической индуктивностью плазмы можно пренебречь. С использованием этого подхода получены простые выражения для эффективного импеданса индуктора, которые хорошо согласуются с экспериментальными результатами. У роботі описані експериментальні дослідження імпедансу індуктора в циліндричному джерелі плазми ВЧ індукційного типу. Представлено результати вимірів напруги на індукторі, ефективні індуктивності й опори. Зроблено висновок, що у випадку плазми низької щільності мнимою частиною імпедансу плазми й геометричною індуктивністю плазми можна знехтувати. З використанням цього підходу отримані прості вираження для ефективного імпедансу індуктора, які добре погодяться з експериментальними результатами. This paper describes experimental investigations of an inductive coil impedance in the cylindrical inductively coupled low density RF plasma source. Detailed measurements of the inductive coil voltage, effective inductance and resistance are reported. It is concluded that in the case of low plasma density imaginary part of the plasma impedance and geometrical plasma inductance can be neglected. Using this approach simple expressions for the effective inductor impedance have been obtained, being in good agreement with the experimental data.
issn 1999-8074
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/7889
citation_txt Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности / Д.В. Рафальский, С.В. Дудин, К.И. Положий // Физическая инженерия поверхности. — 2008. — Т. 6, № 3-4. — С. 155-159. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT rafalʹskiidv vozmuŝenieimpedansainduktoravzaimodeistvuûŝegosplazmoinizkoiplotnosti
AT dudinsv vozmuŝenieimpedansainduktoravzaimodeistvuûŝegosplazmoinizkoiplotnosti
AT položiiki vozmuŝenieimpedansainduktoravzaimodeistvuûŝegosplazmoinizkoiplotnosti
AT rafalʹskiidv zburûvannâímpedansuínduktoraâkiivzaêmodíêzplazmoûnizʹkoíŝílʹností
AT dudinsv zburûvannâímpedansuínduktoraâkiivzaêmodíêzplazmoûnizʹkoíŝílʹností
AT položiiki zburûvannâímpedansuínduktoraâkiivzaêmodíêzplazmoûnizʹkoíŝílʹností
AT rafalʹskiidv impedancedisturbanceoftheinductivecoilinteractingwithlowdensityplasma
AT dudinsv impedancedisturbanceoftheinductivecoilinteractingwithlowdensityplasma
AT položiiki impedancedisturbanceoftheinductivecoilinteractingwithlowdensityplasma
first_indexed 2025-11-30T22:32:46Z
last_indexed 2025-11-30T22:32:46Z
_version_ 1850858622947426304