Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности

• Date: 2008
• Main Authors: Рафальский, Д.В., Дудин, С.В., Положий, К.И.
• Format: Article
• Language: Russian
• Published: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2008
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/7889
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности / Д.В. Рафальский, С.В. Дудин, К.И. Положий // Физическая инженерия поверхности. — 2008. — Т. 6, № 3-4. — С. 155-159. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.

В работе описаны экспериментальные исследования импеданса индуктора в цилиндрическом источнике плазмы ВЧ индукционного типа. Представлены результаты измерений напряжения на индукторе, эффективных индуктивности и сопротивления. Сделан вывод, что в случае плазмы низкой плотности мнимой частью импеданс...