Зображення обкладинки

Application of high energy plasma for smart thermal processing

Nano-science & technology is one of the most important 4 scientific fields regarding the technological policy in Japan. Material processing is now progressing towards more precise and controllable smart stage. Regarding thermal processing, an important key should be the applied heat source....

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :	Вопросы атомной науки и техники
Дата:	2005
Автор:	Kobayashi, A.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2005
Теми:	Low temperature plasma and plasma technologies
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78951
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Application of high energy plasma for smart thermal processing / A. Kobayashi // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 1. — С. 161-165. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Performance of thermal barrier coatings produced by smart plasma processing
за авторством: Kobayashi, Akira
Опубліковано: (2006)

Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)

Vaporization of metallic macroparticles in the high temperature technology plasma
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2016)

On the synthesis and processing of nanoparticles by plasmas
за авторством: Ahadi, Amir Mohammad, та інші
Опубліковано: (2016)

The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)

On the influence of zirconium and tantalum impurities on the transport properties of multicomponent thermal plasma
за авторством: Porytskyy, P.V., та інші
Опубліковано: (2019)

Application of arc plasma for a deposition of superconducting films
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)

Peculiarities of interaction of Cu-W composite materials with thermal arc discharge plasma
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2022)

Modification of multi-profile surfaces by compression plasma flows action of quasistationary high-current plasma accelerator
за авторством: Ananin, S.I., та інші
Опубліковано: (2000)

Application of pulsed plasma streams for materials alloying and coatings modification
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)

Some aspects of electrolytic-plasma processing technology
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)

Composite Cu-Cr materials under thermal action of electric arc discharge plasma
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2021)

Investigation of thermal plasma of arc discharge between novel composite Cu-W materials
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2023)

Plasmagasdynamic experiments in Russia and prospects of plasma technology applications in aerodynamics
за авторством: Esakov, I.I., та інші
Опубліковано: (2000)

Investigation of jumping pulsed electrical discharge for plasma chemistry application
за авторством: Berezina, G.P., та інші
Опубліковано: (2002)

Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002)

Investigations of thermal plasma of electric arc discharge between composite Ag–C electrodes
за авторством: Veklich, A.N., та інші
Опубліковано: (2016)

Application of the modified plasma accelerator for amorphous diamond-like films production
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Transport processes in the low pressure gas discharge plasma
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Application of atmospheric dielectric barrier discharge plasma for polyethylene powder modification
за авторством: Píchal, J., та інші
Опубліковано: (2006)

Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma
за авторством: Koshevoy, K.I., та інші
Опубліковано: (2019)

The synthesis of the fine particles during plasma spray pyrolysis process
за авторством: Valinčius, V., та інші
Опубліковано: (2008)

Application of coatings on inner surfaces of metallic and dielectric pipes with the use of HF -plasma source
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2005)

Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)

Application of dielectric barrier discharge and plasma-chemical reactor for water purification from NH₄OH
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2020)

Effect of electron emission processes on macroparticle charging in plasma systems with electron beam
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2020)

Application of bipolar plasma discharge over the liquid surface for water purification from chemical and bacterial pollution
за авторством: Liesnoi, V.O., та інші
Опубліковано: (2019)

Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size
за авторством: Famakinwa, T., та інші
Опубліковано: (2000)

Optical properties and some applications of plasma–liquid system with discharge in the gas canal with liquid wall
за авторством: Veremii, Iu.P., та інші
Опубліковано: (2006)

Dynamics of the ion energy distribution and plasma parameters in flows of the non-self-sustained arc discharge in molybdenum vapors
за авторством: Borisenko, A.G.
Опубліковано: (2023)

Influence of pulsed plasma streams processing on wear behavior of steels in different friction conditions
за авторством: Bandura, A.N., та інші
Опубліковано: (2000)

Kinetics of processes in air plasma discharges at atmospheric pressure in the transverse flow of gas
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2019)

Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2019)

Ion energy and ion angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources: pure argon and argon-oxygen mixtures
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)

Stability of thin quasi-crystalline Ti-Zr-Ni films and related crystalline phases under low-energy transient plasma irradiation
за авторством: Malykhin, S.V., та інші
Опубліковано: (2022)

Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)

Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)

Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)

Plasma sterilizer with ultrasonic cavitation
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)

High frequency pulsation of high-voltage gas discharges
за авторством: Chyhin, V.
Опубліковано: (2005)