Application of high energy plasma for smart thermal processing

• Published in: Вопросы атомной науки и техники
• Date: 2005
• Main Author: Kobayashi, A.
• Format: Article
• Language: English
• Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2005
• Subjects: Low temperature plasma and plasma technologies
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/78951
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Application of high energy plasma for smart thermal processing / A. Kobayashi // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 1. — С. 161-165. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.

Nano-science & technology is one of the most important 4 scientific fields regarding the technological policy in Japan. Material processing is now progressing towards more precise and controllable smart stage. Regarding thermal processing, an important key should be the applied heat source. And...