Plasma density measurement of RF ion source

Plasma density measurement of RF ion source

For a radiofrequency (27.12 MHz) inductively coupled ion source (3 cm diameter, 7 cm long, without external magnetic field, working gas-hydrogen, helium, argon), measurements of the average plasma density were made using an 8 mm microwave interferometer. The range of neutral gas pressure is 2-30 mTo...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Вопросы атомной науки и техники
Дата:2005
Автори: Voznyy, V.I., Miroshnichenko, V.I., Mordyk, S.M., Nagornyy, A.G., Nagornyy, D.A., Storizhko, V.E., Shulha, D.P.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2005
Теми:
Plasma diagnostics
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79152
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Plasma density measurement of RF ion source / V.I. Voznyy, V.I. Miroshnichenko, S.M. Mordyk, A.G. Nagornyy, D.A. Nagornyy, V.E. Storizhko, D.P. Shulha // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 1. — С. 209-211. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-79152
record_format dspace
spelling Voznyy, V.I.
Miroshnichenko, V.I.
Mordyk, S.M.
Nagornyy, A.G.
Nagornyy, D.A.
Storizhko, V.E.
Shulha, D.P.
2015-03-26T18:02:29Z
2015-03-26T18:02:29Z
2005
Plasma density measurement of RF ion source / V.I. Voznyy, V.I. Miroshnichenko, S.M. Mordyk, A.G. Nagornyy, D.A. Nagornyy, V.E. Storizhko, D.P. Shulha // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 1. — С. 209-211. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 52.70.Gw, 52.50.Dg
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79152
For a radiofrequency (27.12 MHz) inductively coupled ion source (3 cm diameter, 7 cm long, without external magnetic field, working gas-hydrogen, helium, argon), measurements of the average plasma density were made using an 8 mm microwave interferometer. The range of neutral gas pressure is 2-30 mTorr and RF-power is in the range 20-400 W. It is found that the plasma density increases with increased gas pressure and RF-power. A global discharge model is applied to relate the electron densities and the electron temperature in an argon plasma to the pressure and input power ranges of interest. The model calculations are compared to measured plasma density, showing fair agreement.
Для високочастотного (27.12 МГц) індуктивного джерела іонів (3 см у діаметрі і довжиною 7 см, без зовнішнього магнітного поля, робочий газ - водень, гелій, аргон) були виконані виміри середньої щільності плазми за допомогою 8-ми міліметрового інтерферометра. Тиск робочого газу змінювався в діапазоні 2-30 мТорр, ВЧ-потужність - в діапазоні 20-400 Вт. Встановлено, що щільність плазми росте зі збільшенням робочого тиску і вхідної ВЧ-потужності. Щоб розрахувати електронну щільність і електронну температуру аргонової плазми в цікавлячому нас діапазоні тисків і ВЧ-потужності, була застосована глобальна модель плазменного розряду. Обчислена по глобальній моделі щільність плазми знаходиться у гарний згоді з експериментально обмірюваною величиною.
Для высокочастотного (27.12 МГц) индуктивного источника ионов (3 см в диаметре и длиной 7 см, без внешнего магнитного поля, рабочий газ - водород, гелий, аргон) были выполнены измерения средней плотности плазмы с помощью 8-ми миллиметрового интерферометра. Давление рабочего газа изменялось в диапазоне 2-30 мТорр, ВЧ-мощность - в диапазоне 20-400 Ватт. Установлено, что плотность плазмы растет с увеличением рабочего давления и входной ВЧ-мощности. Чтобы рассчитать электронную плотность и электронную температуру аргоновой плазмы в интересующем нас диапазоне давлений и ВЧ-мощности, была применена глобальная модель плазменного разряда. Вычисленная по глобальной модели плотность плазмы находится в хорошем согласии с экспериментально измеренной величиной.
en
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Plasma diagnostics
Plasma density measurement of RF ion source
Вимірювання щільності плазми ВЧ-джерела іонів
Измерение плотности плазмы ВЧ-источника ионов
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Plasma density measurement of RF ion source
spellingShingle Plasma density measurement of RF ion source
Voznyy, V.I.
Miroshnichenko, V.I.
Mordyk, S.M.
Nagornyy, A.G.
Nagornyy, D.A.
Storizhko, V.E.
Shulha, D.P.
Plasma diagnostics
title_short Plasma density measurement of RF ion source
title_full Plasma density measurement of RF ion source
title_fullStr Plasma density measurement of RF ion source
title_full_unstemmed Plasma density measurement of RF ion source
title_sort plasma density measurement of rf ion source
author Voznyy, V.I.
Miroshnichenko, V.I.
Mordyk, S.M.
Nagornyy, A.G.
Nagornyy, D.A.
Storizhko, V.E.
Shulha, D.P.
author_facet Voznyy, V.I.
Miroshnichenko, V.I.
Mordyk, S.M.
Nagornyy, A.G.
Nagornyy, D.A.
Storizhko, V.E.
Shulha, D.P.
topic Plasma diagnostics
topic_facet Plasma diagnostics
publishDate 2005
language English
container_title Вопросы атомной науки и техники
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format Article
title_alt Вимірювання щільності плазми ВЧ-джерела іонів
Измерение плотности плазмы ВЧ-источника ионов
description For a radiofrequency (27.12 MHz) inductively coupled ion source (3 cm diameter, 7 cm long, without external magnetic field, working gas-hydrogen, helium, argon), measurements of the average plasma density were made using an 8 mm microwave interferometer. The range of neutral gas pressure is 2-30 mTorr and RF-power is in the range 20-400 W. It is found that the plasma density increases with increased gas pressure and RF-power. A global discharge model is applied to relate the electron densities and the electron temperature in an argon plasma to the pressure and input power ranges of interest. The model calculations are compared to measured plasma density, showing fair agreement. Для високочастотного (27.12 МГц) індуктивного джерела іонів (3 см у діаметрі і довжиною 7 см, без зовнішнього магнітного поля, робочий газ - водень, гелій, аргон) були виконані виміри середньої щільності плазми за допомогою 8-ми міліметрового інтерферометра. Тиск робочого газу змінювався в діапазоні 2-30 мТорр, ВЧ-потужність - в діапазоні 20-400 Вт. Встановлено, що щільність плазми росте зі збільшенням робочого тиску і вхідної ВЧ-потужності. Щоб розрахувати електронну щільність і електронну температуру аргонової плазми в цікавлячому нас діапазоні тисків і ВЧ-потужності, була застосована глобальна модель плазменного розряду. Обчислена по глобальній моделі щільність плазми знаходиться у гарний згоді з експериментально обмірюваною величиною. Для высокочастотного (27.12 МГц) индуктивного источника ионов (3 см в диаметре и длиной 7 см, без внешнего магнитного поля, рабочий газ - водород, гелий, аргон) были выполнены измерения средней плотности плазмы с помощью 8-ми миллиметрового интерферометра. Давление рабочего газа изменялось в диапазоне 2-30 мТорр, ВЧ-мощность - в диапазоне 20-400 Ватт. Установлено, что плотность плазмы растет с увеличением рабочего давления и входной ВЧ-мощности. Чтобы рассчитать электронную плотность и электронную температуру аргоновой плазмы в интересующем нас диапазоне давлений и ВЧ-мощности, была применена глобальная модель плазменного разряда. Вычисленная по глобальной модели плотность плазмы находится в хорошем согласии с экспериментально измеренной величиной.
issn 1562-6016
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79152
citation_txt Plasma density measurement of RF ion source / V.I. Voznyy, V.I. Miroshnichenko, S.M. Mordyk, A.G. Nagornyy, D.A. Nagornyy, V.E. Storizhko, D.P. Shulha // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 1. — С. 209-211. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT voznyyvi plasmadensitymeasurementofrfionsource
AT miroshnichenkovi plasmadensitymeasurementofrfionsource
AT mordyksm plasmadensitymeasurementofrfionsource
AT nagornyyag plasmadensitymeasurementofrfionsource
AT nagornyyda plasmadensitymeasurementofrfionsource
AT storizhkove plasmadensitymeasurementofrfionsource
AT shulhadp plasmadensitymeasurementofrfionsource
AT voznyyvi vimírûvannâŝílʹnostíplazmivčdžerelaíonív
AT miroshnichenkovi vimírûvannâŝílʹnostíplazmivčdžerelaíonív
AT mordyksm vimírûvannâŝílʹnostíplazmivčdžerelaíonív
AT nagornyyag vimírûvannâŝílʹnostíplazmivčdžerelaíonív
AT nagornyyda vimírûvannâŝílʹnostíplazmivčdžerelaíonív
AT storizhkove vimírûvannâŝílʹnostíplazmivčdžerelaíonív
AT shulhadp vimírûvannâŝílʹnostíplazmivčdžerelaíonív
AT voznyyvi izmerenieplotnostiplazmyvčistočnikaionov
AT miroshnichenkovi izmerenieplotnostiplazmyvčistočnikaionov
AT mordyksm izmerenieplotnostiplazmyvčistočnikaionov
AT nagornyyag izmerenieplotnostiplazmyvčistočnikaionov
AT nagornyyda izmerenieplotnostiplazmyvčistočnikaionov
AT storizhkove izmerenieplotnostiplazmyvčistočnikaionov
AT shulhadp izmerenieplotnostiplazmyvčistočnikaionov
first_indexed 2025-12-07T19:02:42Z
last_indexed 2025-12-07T19:02:42Z
_version_ 1850877319822966784

Схожі ресурси