Fedorchenko, V., Byrka, O., Chebotarev, V., Garkusha, I., & Tereshin, V. (2005). Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition. Вопросы атомной науки и техники.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Fedorchenko, V.D, O.V Byrka, V.V Chebotarev, I.E Garkusha, та V.I Tereshin. "Characteristics of the Plasma Created by ECR Plasma Source for Thin Films Deposition." Вопросы атомной науки и техники 2005.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Fedorchenko, V.D, et al. "Characteristics of the Plasma Created by ECR Plasma Source for Thin Films Deposition." Вопросы атомной науки и техники, 2005.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.