APA-Zitierstil (7. Ausg.)

Fedorchenko, V., Byrka, O., Chebotarev, V., Garkusha, I., & Tereshin, V. (2005). Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України.

Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)

Fedorchenko, V.D, O.V Byrka, V.V Chebotarev, I.E Garkusha, und V.I Tereshin. Characteristics of the Plasma Created by ECR Plasma Source for Thin Films Deposition. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України, 2005.

MLA-Zitierstil (8. Ausg.)

Fedorchenko, V.D, et al. Characteristics of the Plasma Created by ECR Plasma Source for Thin Films Deposition. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України, 2005.