APA (7th ed.) Citation

Fedorchenko, V., Byrka, O., Chebotarev, V., Garkusha, I., & Tereshin, V. (2005). Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України.

Chicago Style (17th ed.) Citation

Fedorchenko, V.D, O.V Byrka, V.V Chebotarev, I.E Garkusha, and V.I Tereshin. Characteristics of the Plasma Created by ECR Plasma Source for Thin Films Deposition. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України, 2005.

MLA (8th ed.) Citation

Fedorchenko, V.D, et al. Characteristics of the Plasma Created by ECR Plasma Source for Thin Films Deposition. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України, 2005.