Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
The construction of planar ECR plasma source with multipolar magnetic field is described and the distribution of plasma parameters is measured. Plasma density and electron temperature at the distance 2,5 cm from the magnet surface achieve 5×10¹⁰ сm⁻³ and 22,5 eV accordingly and they linearly decreas...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2005 |
| Автори: | , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2005
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79155 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition / V.D. Fedorchenko, O.V. Byrka, V.V. Chebotarev, I.E. Garkusha, V.I. Tereshin // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 1. — С. 192-194. — Бібліогр.: 12 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862557998818263040 |
|---|---|
| author | Fedorchenko, V.D. Byrka, O.V. Chebotarev, V.V. Garkusha, I.E. Tereshin, V.I. |
| author_facet | Fedorchenko, V.D. Byrka, O.V. Chebotarev, V.V. Garkusha, I.E. Tereshin, V.I. |
| citation_txt | Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition / V.D. Fedorchenko, O.V. Byrka, V.V. Chebotarev, I.E. Garkusha, V.I. Tereshin // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 1. — С. 192-194. — Бібліогр.: 12 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | The construction of planar ECR plasma source with multipolar magnetic field is described and the distribution of plasma parameters is measured. Plasma density and electron temperature at the distance 2,5 cm from the magnet surface achieve 5×10¹⁰ сm⁻³ and 22,5 eV accordingly and they linearly decreased with the moving off from ECR zone. The possibility of homogeneous and dense films deposition for both pure metals and alloys is shown.
В роботі розглянута конструкція планарного ЕЦР плазмового джерела з мультипольним магнітним полем та виміряно розподіл параметрів створюваної плазми. На відстані 2,5 см від поверхні магнітів густина плазми та електронна температура 5 *10¹⁰ см⁻³ та 22,5 еВ відповідно, які лінійно зменшуються при віддаленні від ЕЦР зони. Показана можливість нанесення однорідних та щільних плівок, як чистих металів, так і сплавів.
В работе описана конструкция планарного ЭЦР плазменного источника с мультипольным магнитным полем и измерены распределения параметров создаваемой плазмы. На расстоянии 2,5 см от поверхности магнитов плотность плазмы и электронная температура 5*10¹⁰ см⁻³ и 22,5 еВ соответственно, которые линейно спадают при удалении от ЭЦР зоны. Показана возможность напыления однородных и плотных пленок, как чистых металлов, так и сплавов.
|
| first_indexed | 2025-11-25T22:45:44Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-79155 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-11-25T22:45:44Z |
| publishDate | 2005 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Fedorchenko, V.D. Byrka, O.V. Chebotarev, V.V. Garkusha, I.E. Tereshin, V.I. 2015-03-26T18:21:36Z 2015-03-26T18:21:36Z 2005 Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition / V.D. Fedorchenko, O.V. Byrka, V.V. Chebotarev, I.E. Garkusha, V.I. Tereshin // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 1. — С. 192-194. — Бібліогр.: 12 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.50.Dg; 81.15.Jj https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79155 The construction of planar ECR plasma source with multipolar magnetic field is described and the distribution of plasma parameters is measured. Plasma density and electron temperature at the distance 2,5 cm from the magnet surface achieve 5×10¹⁰ сm⁻³ and 22,5 eV accordingly and they linearly decreased with the moving off from ECR zone. The possibility of homogeneous and dense films deposition for both pure metals and alloys is shown. В роботі розглянута конструкція планарного ЕЦР плазмового джерела з мультипольним магнітним полем та виміряно розподіл параметрів створюваної плазми. На відстані 2,5 см від поверхні магнітів густина плазми та електронна температура 5 *10¹⁰ см⁻³ та 22,5 еВ відповідно, які лінійно зменшуються при віддаленні від ЕЦР зони. Показана можливість нанесення однорідних та щільних плівок, як чистих металів, так і сплавів. В работе описана конструкция планарного ЭЦР плазменного источника с мультипольным магнитным полем и измерены распределения параметров создаваемой плазмы. На расстоянии 2,5 см от поверхности магнитов плотность плазмы и электронная температура 5*10¹⁰ см⁻³ и 22,5 еВ соответственно, которые линейно спадают при удалении от ЭЦР зоны. Показана возможность напыления однородных и плотных пленок, как чистых металлов, так и сплавов. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Low temperature plasma and plasma technologies Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition Характеристики плазми створеної ЕЦР плазмовим джерелом для нанесення тонких плівок Харктеристики плазмы, созданной ЭЦР плазменным источником для нанесения тонких пленок Article published earlier |
| spellingShingle | Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition Fedorchenko, V.D. Byrka, O.V. Chebotarev, V.V. Garkusha, I.E. Tereshin, V.I. Low temperature plasma and plasma technologies |
| title | Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition |
| title_alt | Характеристики плазми створеної ЕЦР плазмовим джерелом для нанесення тонких плівок Харктеристики плазмы, созданной ЭЦР плазменным источником для нанесения тонких пленок |
| title_full | Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition |
| title_fullStr | Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition |
| title_full_unstemmed | Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition |
| title_short | Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition |
| title_sort | characteristics of the plasma created by ecr plasma source for thin films deposition |
| topic | Low temperature plasma and plasma technologies |
| topic_facet | Low temperature plasma and plasma technologies |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79155 |
| work_keys_str_mv | AT fedorchenkovd characteristicsoftheplasmacreatedbyecrplasmasourceforthinfilmsdeposition AT byrkaov characteristicsoftheplasmacreatedbyecrplasmasourceforthinfilmsdeposition AT chebotarevvv characteristicsoftheplasmacreatedbyecrplasmasourceforthinfilmsdeposition AT garkushaie characteristicsoftheplasmacreatedbyecrplasmasourceforthinfilmsdeposition AT tereshinvi characteristicsoftheplasmacreatedbyecrplasmasourceforthinfilmsdeposition AT fedorchenkovd harakteristikiplazmistvorenoíecrplazmovimdžerelomdlânanesennâtonkihplívok AT byrkaov harakteristikiplazmistvorenoíecrplazmovimdžerelomdlânanesennâtonkihplívok AT chebotarevvv harakteristikiplazmistvorenoíecrplazmovimdžerelomdlânanesennâtonkihplívok AT garkushaie harakteristikiplazmistvorenoíecrplazmovimdžerelomdlânanesennâtonkihplívok AT tereshinvi harakteristikiplazmistvorenoíecrplazmovimdžerelomdlânanesennâtonkihplívok AT fedorchenkovd harkteristikiplazmysozdannoiécrplazmennymistočnikomdlânaneseniâtonkihplenok AT byrkaov harkteristikiplazmysozdannoiécrplazmennymistočnikomdlânaneseniâtonkihplenok AT chebotarevvv harkteristikiplazmysozdannoiécrplazmennymistočnikomdlânaneseniâtonkihplenok AT garkushaie harkteristikiplazmysozdannoiécrplazmennymistočnikomdlânaneseniâtonkihplenok AT tereshinvi harkteristikiplazmysozdannoiécrplazmennymistočnikomdlânaneseniâtonkihplenok |