Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
The construction of planar ECR plasma source with multipolar magnetic field is described and the distribution of plasma parameters is measured. Plasma density and electron temperature at the distance 2,5 cm from the magnet surface achieve 5×10¹⁰ сm⁻³ and 22,5 eV accordingly and they linearly decreas...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2005 |
| Автори: | , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2005
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79155 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition / V.D. Fedorchenko, O.V. Byrka, V.V. Chebotarev, I.E. Garkusha, V.I. Tereshin // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 1. — С. 192-194. — Бібліогр.: 12 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)
Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)
Ion kinetics in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002)
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002)
Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002)
Application of pulsed plasma streams for materials alloying and coatings modification
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)
Application of arc plasma for a deposition of superconducting films
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)
Surface modification of Nd-Fe-B based materials with pulsed helium plasma streams
за авторством: Bovda, A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Bovda, A., та інші
Опубліковано: (2005)
Influence of plasma treatment on erosion haracteristics and structure of reversible hydrogen getters
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2000)
Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)
Stability of thin quasi-crystalline Ti-Zr-Ni films and related crystalline phases under low-energy transient plasma irradiation
за авторством: Malykhin, S.V., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Malykhin, S.V., та інші
Опубліковано: (2022)
Plasma deposited diamond-like carbon films for large neural arrays
за авторством: Brown, I.G., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Brown, I.G., та інші
Опубліковано: (2005)
Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
Investigation of thin films deposition into porous material
за авторством: Sedláková, L., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Sedláková, L., та інші
Опубліковано: (2006)
Nanostructured formations and coatings created on the surface of materials exposed to compression plasma flows
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size
за авторством: Famakinwa, T., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Famakinwa, T., та інші
Опубліковано: (2000)
Influence of the plasma stream irradiation on the surface modification, structure and properties of materials
за авторством: Lapshin, V.I., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Lapshin, V.I., та інші
Опубліковано: (2000)
Plasma sterilizer with ultrasonic cavitation
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems
за авторством: Aksenov, I.I.
Опубліковано: (2002)
за авторством: Aksenov, I.I.
Опубліковано: (2002)
Deposition of TiO₂ thin films using atmospheric dielectric barrier discharge
за авторством: Klenko, Y., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Klenko, Y., та інші
Опубліковано: (2008)
Application of the modified plasma accelerator for amorphous diamond-like films production
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)
The synthesis of TiAlN composites by condensation of the different arc plasma flows
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2005)
Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)
The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2008)
The Langmuir probe modeling in ion-beam plasma
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)
Application of dielectric barrier discharge and plasma-chemical reactor for water purification from NH₄OH
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2020)
Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
The influence of surface parameters of coatings deposited by various vacuum-plasma methods on the cell/material interaction in vitro tests
за авторством: Zykova, A., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Zykova, A., та інші
Опубліковано: (2007)
Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Nanotube formation on catalytic surface in plasma discharge
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
Investigation of jumping pulsed electrical discharge for plasma chemistry application
за авторством: Berezina, G.P., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Berezina, G.P., та інші
Опубліковано: (2002)
Ion energy and ion angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources: pure argon and argon-oxygen mixtures
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Peculiarities of properties of the pulse plasma jet
за авторством: Podzirey, Yu.S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Podzirey, Yu.S., та інші
Опубліковано: (2016)
Coating in the arc discharges with plasma flow filtration
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)
Specific of interaction of the macroparticles with the plasma-beam systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2021)
Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)
Erosion, permeation and outgassing performances of tin coating under/after hydrogen plasma iffadiation
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)
On the synthesis and processing of nanoparticles by plasmas
за авторством: Ahadi, Amir Mohammad, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Ahadi, Amir Mohammad, та інші
Опубліковано: (2016)
Some aspects of electrolytic-plasma processing technology
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)
“String” type of barrierless plasma chemical reactor for generation ozone from air
за авторством: Kudin, D.V., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Kudin, D.V., та інші
Опубліковано: (2021)