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The formation of near anode double layer in highcurrent plasma diode of low pressure

A plasma electron source on the basis of a pulse plasma diode of low pressure with an extended interelectrode gap has been experimentally investigated. The basis of a plasma electron source serves a gas discharge of a new type - selfmaintained beam-plasma discharge, which distinctive feature is the...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Вопросы атомной науки и техники
Datum:	2002
Hauptverfasser:	Tseluyko, A.F., Zinov’ev, D.V., Borisko, V.N., Tseluyko, V.A., Drobishevskaya, A.A.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2002
Schlagworte:	Low temperature plasma and plasma technologies
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79277
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Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	The formation of near anode double layer in highcurrent plasma diode of low pressure / A.F. Tseluyko, D.V. Zinov’ev, V.N. Borisko, V.A. Tseluyko, A.A. Drobishevskaya // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 5. — С. 127-129. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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