Зображення обкладинки

Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems

This article is a brief historical review of R&D carried out by the KIPT scientists in the field of magnetic filtering of vacuum-arc plasma flows to be applied in thin film deposition technology.

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :	Вопросы атомной науки и техники
Дата:	2002
Автор:	Aksenov, I.I.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2002
Теми:	Low temperature plasma and plasma technologies
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79281
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems / I.I. Aksenov // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 5. — С. 139-141. — Бібліогр.: 26 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Vacuum-arc equipment for ion-plasma deposition of coatings
за авторством: Aksenov, I.I., та інші
Опубліковано: (2000)

Optimization of the magnetic system of a vacuum-arc plasma source with a straight line filter
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2021)

Vacuum-arc plasma source with steered cathode spot
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008)

Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)

Ultra high vacuum cathodic arc for deposition of superconducting lead photo-cathodes
за авторством: Strzyzewski, P., та інші
Опубліковано: (2007)

Application of arc plasma for a deposition of superconducting films
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)

Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)

Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2019)

Electromagnetic dipolar modes in magnetized nonuniform plasma-vacuum-metal waveguide
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023)

Mechanisms affecting the speed and direction of vacuum arc cathode spots movement in a magnetic field
за авторством: Vasyliev, V.V., та інші
Опубліковано: (2023)

Ion separation in a plasma mass filter based on the band gap filter principle
за авторством: Ilichova, V.O.
Опубліковано: (2019)

Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022)

The influence of surface parameters of coatings deposited by various vacuum-plasma methods on the cell/material interaction in vitro tests
за авторством: Zykova, A., та інші
Опубліковано: (2007)

Tribological properties of vacuum arc Cr-O-N coatings in macro- and microscale
за авторством: Kuprin, A.S., та інші
Опубліковано: (2016)

Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)

Coating in the arc discharges with plasma flow filtration
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)

Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)

Plasma of electric arc discharge between Cu-Mo electrodes
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2007)

Plasma of electric arc between electrodes from composite materials
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2008)

Combustion of ethanol+air mixture supported by transverse arc plasma
за авторством: Yukhymenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)

The synthesis of TiAlN composites by condensation of the different arc plasma flows
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2005)

Plasma of electric arc discharge between copper electrodes in a gas flow
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2008)

Influence of molecular and electronegative impurities on the contraction of the plasma column of an argon arc
за авторством: Porytskyy, P.V.
Опубліковано: (2002)

Spectroscopy of electric arc discharge plasma with admixtures of W, Mo, Cr
за авторством: Lebid, A.V., та інші
Опубліковано: (2016)

Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)

Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)

Magnetic field influence on the shape of eroding surface of graphite cathodes
за авторством: Aksenov, I.I., та інші
Опубліковано: (2002)

Peculiarities of interaction of Cu-W composite materials with thermal arc discharge plasma
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2022)

Plasma-catalytic system with wide-aperture rotating gliding discharge
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Plasma deposited diamond-like carbon films for large neural arrays
за авторством: Brown, I.G., та інші
Опубліковано: (2005)

Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)

Bone-like coatings deposition by using of modern pulsed ion-plasma technology
за авторством: Zykova, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)

Composite Cu-Cr materials under thermal action of electric arc discharge plasma
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2021)

Plasma-surface interaction of electric arc discharge between composite Cu-Cr electrodes
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2020)

Investigation of thermal plasma of arc discharge between novel composite Cu-W materials
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2023)

Investigations of thermal plasma of electric arc discharge between composite Ag–C electrodes
за авторством: Veklich, A.N., та інші
Опубліковано: (2016)

Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma
за авторством: Koshevoy, K.I., та інші
Опубліковано: (2019)

Plasma-catalytic system with narrow-aperture rotating gliding discharge
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2021)

Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)

Origin of transversal displacement of the plasma flux moving in a curvilinear magnetic field
за авторством: Timoshenko, A.I.
Опубліковано: (2008)