Large-area surface wave plasma source
A surface wave plasma source for the production of a large-diameter, high electron density and low electron temperature plasma at low pressure without using a magnetic field for plasma processing and thin film preparation are. The DC or RF voltage with the frequency of 13.56 MHz can supply the sourc...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2002 |
| Автори: | Azarenkov, N.A., Bizyukov, A.A., Sereda, K.N., Tseluyko, A.Ph., Yunakov, N.N., Gapon, A.V., Kashaba, A.Y. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2002
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79286 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Large-area surface wave plasma source / N.A. Azarenkov, A.A. Bizyukov, A.V. Gapon, A.Y. Kashaba, K.N. Sereda, A.Ph. Tseluyko, N.N. Yunakov // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 5. — С. 118-120. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Improvement of penning ion sources
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
TiN coating etching from a surface of the instrument in beam-plasma system
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Two-stream nonlinear langmuir oscillations
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023)
Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
Application of the modified plasma accelerator for amorphous diamond-like films production
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)
The HF field pattern in the magnetized plasma cylinder of finfte lenght
за авторством: Grekov, D.L., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Grekov, D.L., та інші
Опубліковано: (2003)
Hall ion source with ballistic and magnetic beam focusing
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
Emission characteristics and potential of macroparticle in beam-plasma discharge
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
2D fluid model for interactive development of ICP technological tools
за авторством: Gapon, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Gapon, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Method of increasing the longitudnal current of Н⁻ ions from pig with a metal-hydride cathode
за авторством: Sereda, I.N., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Sereda, I.N., та інші
Опубліковано: (2019)
The formation of near anode double layer in highcurrent plasma diode of low pressure
за авторством: Tseluyko, A.F., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Tseluyko, A.F., та інші
Опубліковано: (2002)
Electromagnetic dipolar modes in magnetized nonuniform plasma-vacuum-metal waveguide
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023)
Current compensation of hydrogen ion beam extracted from PIG with metal-hydride cathode
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2007)
Nanotube formation on catalytic surface in plasma discharge
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Plasma deposited diamond-like carbon films for large neural arrays
за авторством: Brown, I.G., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Brown, I.G., та інші
Опубліковано: (2005)
Ion crystal formation in nonequilibrium dusty plasmas near electrode or electric probe
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Influence of the magnetic field on particle dynamics in capillary discharge of the soft X-ray laser
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
Modulation of negatively charged particle flux from penning discharge with metal hydride cathode
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2023)
The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge
за авторством: Bogatov, N.A.
Опубліковано: (2005)
за авторством: Bogatov, N.A.
Опубліковано: (2005)
Dynamics of macroparticle in a weakly collisional plasma
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2019)
Specific of interaction of the macroparticles with the plasma-beam systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2021)
Effect of electron emission processes on macroparticle charging in plasma systems with electron beam
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2020)
Vaporization of metallic macroparticles in the high temperature technology plasma
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2016)
Emission characteristics of gas discharge plasma on mixtures of cadmium diodide vapor, helium and xenon
за авторством: Malinina, A.A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Malinina, A.A., та інші
Опубліковано: (2020)
Parametric instability influence on isotope separation by ion-cyclotron resonance method
за авторством: Olshansky, V.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Olshansky, V.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Influence of gas mixture with various mass numbers of gases on operation pressure range of plasma electron source with hollow cathode
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2002)
The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
Peculiarities of self-sustained discharge in closed electron drift accelerator based on permanent magnets
за авторством: Pavlov, S.N., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Pavlov, S.N., та інші
Опубліковано: (2002)
Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)
Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)
Modification of coating-substrate systems under the action of compression plasma flow
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
Investigations of thermal plasma of electric arc discharge between composite Ag–C electrodes
за авторством: Veklich, A.N., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Veklich, A.N., та інші
Опубліковано: (2016)
Modernized technological accelerator with anode layer for ion cleaning
за авторством: Dobrovol`s`kii, A.N., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Dobrovol`s`kii, A.N., та інші
Опубліковано: (2002)
Development of complex technology of strengthening of thin-walled cutting tools
за авторством: Skoblo, T.S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Skoblo, T.S., та інші
Опубліковано: (2016)
Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007)
Complex evaluation of structural state degree of strengthening nanocoatings
за авторством: Skoblo, T.S., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Skoblo, T.S., та інші
Опубліковано: (2019)
Method for measuring external and internal parameters of plasma with ungrounded gas discharge electrodes
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2019)
Technological accelerator with closed electron drift for surface treatment
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
Схожі ресурси
-
Improvement of penning ion sources
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000) -
TiN coating etching from a surface of the instrument in beam-plasma system
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000) -
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003) -
Two-stream nonlinear langmuir oscillations
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023) -
Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)