Surface wave attenuation caused by secondary electron emission
This study aims to contribute to the analysis of the mechanisms of surface-wave-energy absorption. The discussion is based on a consideration of emissive processes from dielectric surface, which is in contact with collisional nonisothermal plasma, and on an analysis of secondary electron motion in t...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2005 |
| Hauptverfasser: | , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2005
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79345 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Surface wave attenuation caused by secondary electron emission/ Yu.A. Akimov, V.P. Olefir // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 2. — С. 64-66. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Zusammenfassung: | This study aims to contribute to the analysis of the mechanisms of surface-wave-energy absorption. The discussion is based on a consideration of emissive processes from dielectric surface, which is in contact with collisional nonisothermal plasma, and on an analysis of secondary electron motion in the wave-fields. Through electron acceleration due to the action of ponderomotive force, the secondary emission affects the wave behavior. The role of secondary emission in maintenance of wave-produced gas discharges is discussed as well.
В роботі проведено аналіз механізмів поглинання енергії поверхневих хвиль. Розглянуто процеси емісії з поверхні діелектрика, що знаходиться у контакті з низькотемпературною плазмою. Проведено аналіз руху вторинних електронів в полі хвилі. Показано, що вторинна електронна емісія приводить до додаткового загасання хвилі, обумовленого прискоренням вторинних електронів в полі хвилі, унаслідок дії сили високочастотного тиску. Проведено аналіз впливу вторинної емісії на підтримку розряду на поверхневих хвилях.
Проведен анализ механизмов поглощения энергии поверхностных волн. Рассмотрены эмиссионные процессы с поверхности диэлектрика, находящегося в контакте с низкотемпературной плазмой. Проведен анализ движения вторичных электронов в поле волны. Показано, что вторичная электронная эмиссия приводит к дополнительному затуханию волны, обусловленному ускорением вторичных электронов в поле волны, вследствие действия силы высокочастотного давления. Проведен анализ влияния вторичной эмиссии на поддержание разряда на поверхностных волнах.
|
|---|---|
| ISSN: | 1562-6016 |