Surface wave attenuation caused by secondary electron emission

• Published in: Вопросы атомной науки и техники
• Date: 2005
• Main Authors: Akimov, Yu.A., Olefir, V.P.
• Format: Article
• Language: English
• Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2005
• Subjects: Basic plasma physics
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79345
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Surface wave attenuation caused by secondary electron emission/ Yu.A. Akimov, V.P. Olefir // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 2. — С. 64-66. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.

This study aims to contribute to the analysis of the mechanisms of surface-wave-energy absorption. The discussion is based on a consideration of emissive processes from dielectric surface, which is in contact with collisional nonisothermal plasma, and on an analysis of secondary electron motion in the wave-fields. Through electron acceleration due to the action of ponderomotive force, the secondary emission affects the wave behavior. The role of secondary emission in maintenance of wave-produced gas discharges is discussed as well. В роботі проведено аналіз механізмів поглинання енергії поверхневих хвиль. Розглянуто процеси емісії з поверхні діелектрика, що знаходиться у контакті з низькотемпературною плазмою. Проведено аналіз руху вторинних електронів в полі хвилі. Показано, що вторинна електронна емісія приводить до додаткового загасання хвилі, обумовленого прискоренням вторинних електронів в полі хвилі, унаслідок дії сили високочастотного тиску. Проведено аналіз впливу вторинної емісії на підтримку розряду на поверхневих хвилях. Проведен анализ механизмов поглощения энергии поверхностных волн. Рассмотрены эмиссионные процессы с поверхности диэлектрика, находящегося в контакте с низкотемпературной плазмой. Проведен анализ движения вторичных электронов в поле волны. Показано, что вторичная электронная эмиссия приводит к дополнительному затуханию волны, обусловленному ускорением вторичных электронов в поле волны, вследствие действия силы высокочастотного давления. Проведен анализ влияния вторичной эмиссии на поддержание разряда на поверхностных волнах.